氫爆爐 296     

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OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV標準的氫氣管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的磁性材料氫爆處理及氫氣環(huán)境下的熱處理設(shè)計。該設(shè)備配備5個獨立溫控系統(tǒng)的溫區(qū)，爐管采用310不銹鋼材質(zhì)，尺寸為Φ100mm×1500mm，能夠滿足多種材料的高溫處理需求。此外，設(shè)備內(nèi)置3M氫氣探測器，一旦檢測到氫氣泄漏，將自動關(guān)閉進氣閥和出氣閥，確保實驗過程的安全。其最高溫度可達1200℃，適用于對氧敏感的金屬材料和磁性材料的高溫處理，是高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室進行材料研究和開發(fā)的理想設(shè)備。

10英寸氫氣管式爐 235     

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OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標準的10英寸氫氣管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的Ti合金退火和對氧敏感材料的熱處理設(shè)計。其爐管采用NiCrAl合金材質(zhì)，具有優(yōu)異的耐高溫和耐腐蝕性能，爐體設(shè)計有3個加熱區(qū)，最高溫度可達1250℃。該設(shè)備能夠在高真空或氫氣環(huán)境下進行熱處理，特別適用于對材料微觀結(jié)構(gòu)和性能有嚴格要求的冶金實驗，為高性能金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供可靠的高溫處理解決方案。

大面積雙管石墨烯生長爐 261     

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GSL-1100X-III-D11是一款專為大面積材料生長設(shè)計的三溫區(qū)大型雙管爐，最高溫度可達1100℃。其獨特的雙管設(shè)計通過CVD方法在箔材上實現(xiàn)大面積（約7000cm2）材料生長，箔材纏繞在內(nèi)管外壁上，送管裝置可輕松將內(nèi)管送入或取出外管。該設(shè)備不僅適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料，還可用于冶金領(lǐng)域中大面積薄膜材料的制備和研究，為開發(fā)高性能復(fù)合材料和新型電極材料提供有力支持。

900℃ 雙溫區(qū)RTP爐 253     

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OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐，專為冶金及材料科學實驗設(shè)計。其爐管直徑為4英寸，樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，可在真空或氣氛保護環(huán)境下實現(xiàn)樣品的快速移動。該設(shè)備最大升溫速率達到50℃/s，最大冷卻速率達到10℃/s，能夠高效完成快速熱處理任務(wù)。此外，它還可通過HPCVD方法生長二維晶體，一個加熱區(qū)用于蒸發(fā)固體原料，另一個加熱區(qū)用于樣品沉積，特別適用于冶金領(lǐng)域中二維材料的生長和金屬薄膜的制備。

1200℃坩堝可移動型管式爐 252     

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OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開啟式管式爐，專為冶金及材料合成實驗設(shè)計。其爐管直徑為50mm，配備步進電機控制坩堝在爐管內(nèi)的移動，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和材料處理。這種設(shè)計特別適合用于冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)、升華以及薄膜沉積等實驗，可有效控制材料的生長過程和微觀結(jié)構(gòu)，為研究高性能金屬材料和復(fù)合材料提供重要的實驗支持。

900℃帶3路浮子混氣RTP管式爐 162     

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RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速熱處理（RTP）管式爐，專為半導(dǎo)體基片、太陽能電池及其他樣品（尺寸可達3英寸）的退火工藝設(shè)計。該設(shè)備配備三路浮子流量計和機械泵，真空度可達10?3 Torr。采用9kW紅外燈加熱，最快升溫速度可達100℃/秒，配備30段精確溫度控制，精度為±1℃。此外，設(shè)備還配有RS485接口和控制軟件，可通過計算機控制運行并顯示溫度曲線。其安裝尺寸為600mm×600mm×597mm，重量為210lbs。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于快速熱處理金屬材料，優(yōu)化材料的微觀結(jié)構(gòu)和性能。

1100℃快速熱處理爐 246     

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GSL-1100X-RTP50是一款通過CE認證的1100℃快速熱處理爐，專為高效熱處理實驗設(shè)計，特別適用于冶金領(lǐng)域。其配備50mm外徑×44mm內(nèi)徑×304.8mm長度的高純石英管（單端封口），最高工作溫度可達1100℃。右側(cè)法蘭處安裝有滑軌，可手動移動爐管，實現(xiàn)快速加熱和冷卻。通過預(yù)熱爐子并快速插入爐管，可實現(xiàn)最快加熱；樣品加熱后移出爐管進行強冷，冷卻速率在真空或惰性氣體環(huán)境下可達10℃/s。這種快速升降溫能力使其成為研究金屬材料熱處理工藝、相變行為及快速結(jié)晶的理想設(shè)備，尤其適合高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室進行低成本、高效的材料實驗。

1200℃小型滑軌RTP爐 248     

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OTF-1200X-50S-SL是一款通過CE認證的1200℃小型滑軌快速熱處理（RTP）爐，專為高效熱處理實驗設(shè)計。其配備外徑50mm、長度1000mm的石英管，爐底安裝滑軌，可實現(xiàn)快速加熱和冷卻，最大升溫速率為100℃/min，真空或惰性氣體環(huán)境下的冷卻速率可達15℃/s。這種快速升降溫能力使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究金屬材料的相變、熱處理工藝優(yōu)化以及快速結(jié)晶等實驗，是高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室進行材料研究和開發(fā)的理想設(shè)備。

1200℃小型雙爐體滑動管式爐 149     

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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型雙爐體滑動管式爐，專為冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)/升華和薄膜沉積實驗設(shè)計。其配備Φ50×1400mm的石英管和不銹鋼密封法蘭，最高工作溫度可達1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動，實現(xiàn)快速加熱（最大升溫速率100℃/min）和冷卻，顯著提高實驗效率。此外，該設(shè)備還可選配電動滑軌、質(zhì)量流量計（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源，用于搭建TCVD系統(tǒng)，滿足更復(fù)雜的材料合成和薄膜制備需求。

1200℃三溫區(qū)滑軌爐 141     

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OTF-1200X-III-80SL是一款通過CE認證的1200℃三溫區(qū)滑軌式管式爐，專為快速熱處理實驗設(shè)計。其配備直徑80mm、長度94mm的石英管和法蘭，爐底安裝滑軌，支持手動滑動操作。該設(shè)備加熱和冷卻速率最高可達100℃/min，在真空或惰性氣體環(huán)境下可實現(xiàn)10℃/s的快速升降溫，能夠顯著提高實驗效率并降低能耗。在冶金領(lǐng)域，該爐可用于快速熱處理金屬材料，研究材料在高溫下的相變和微觀結(jié)構(gòu)變化，是高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室進行材料研究和開發(fā)的理想選擇。

1200℃小型坩堝移動管式爐 254     

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OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動管式爐，專為直接蒸發(fā)沉積和快速熱處理實驗設(shè)計，尤其適用于二維材料的生長。其爐管直徑為50mm，最高工作溫度可達1200℃，通過磁鐵推動坩堝移動，實現(xiàn)精確的材料沉積和熱處理。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究二維材料的生長機制及其在高溫環(huán)境下的性能表現(xiàn)，為開發(fā)新型二維材料及其在冶金中的應(yīng)用提供重要支持。

100ml鎳基合金高溫高壓反應(yīng)釜 245     

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RC-Ni-100是一款專為高溫高壓冶金實驗設(shè)計的100ml反應(yīng)釜，采用鎳基高溫合金鋼制作，具有極高的蠕變強度和抗氧化性。該設(shè)備最高工作溫度可達1100℃，在該溫度下可承受最高壓力為4MPa，非常適合在高壓氧環(huán)境下對金屬樣品進行熱處理，以及通過水熱法合成高性能冶金材料。其優(yōu)異的耐高溫高壓性能，使其成為冶金領(lǐng)域研究和開發(fā)新型材料及工藝的理想工具。

1800℃納米制備管式爐 259     

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GSL-1800X-PGEP是一款專為納米結(jié)構(gòu)氧化物合成設(shè)計的多功能系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于冶金領(lǐng)域。該系統(tǒng)由超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成，通過前驅(qū)體霧化、高溫加熱和納米顆粒收集三個步驟，實現(xiàn)納米材料的精確制備。其獨特的設(shè)計能夠精準控制顆粒尺寸、形態(tài)以及納米/微粒結(jié)構(gòu)，為冶金研究提供了一種先進的實驗手段，尤其適用于開發(fā)高性能納米復(fù)合材料和新型冶金催化劑，助力冶金工藝的創(chuàng)新與優(yōu)化。

1700℃氣氛保護小型金屬熔煉鑄造爐 159     

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IMCS-1700-S是一款小型金屬熔煉/鑄造爐，最高溫度可達1700℃，專為在惰性氣體保護環(huán)境下熔煉和鑄造各種合金設(shè)計，最大熔煉量約為80g。設(shè)備安裝尺寸為560mm×540mm×610mm（長×寬×高），重量為120kg，結(jié)構(gòu)緊湊，適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境，是高校、科研機構(gòu)及企業(yè)進行合金研發(fā)和材料實驗的理想選擇。

2000℃桌面型熔煉澆注爐 170     

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IMCS-2000-S是一款2000℃桌面型熔煉/澆注爐，配備可旋轉(zhuǎn)真空腔體，可在真空或氣氛保護環(huán)境下通過感應(yīng)加熱熔煉各種金屬材料，最高溫度可達2000℃。其腔體旋轉(zhuǎn)功能可實現(xiàn)樣品澆注，操作便捷且高效。該設(shè)備安裝尺寸為430×490×500mm，重量僅48kg，體積小巧，適合實驗室環(huán)境，是探索新一代合金的理想工具。

1200℃熔煉/鑄造爐 180     

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VMCS-1200-LD是一款1200℃的熔煉/鑄造爐，適合在氣氛保護環(huán)境下熔煉各種合金，最高溫度可達1200℃。該設(shè)備采用封閉腔體設(shè)計，可有效防止樣品在熔煉和澆注過程中生成氧化物及形成缺陷。其石墨坩堝直徑為60mm，配備電阻絲加熱和石墨攪拌棒，能夠快速熔煉金屬，僅需6-8分鐘。此外，該設(shè)備操作簡單，只需設(shè)置鑄造溫度、添加樣品并擠壓操縱桿即可完成澆注。設(shè)備安裝尺寸為770mm×460mm×460mm，重量為54kg，配備雙極旋片真空泵，所需氣體流量為5L/min。

2000℃溫度可控型高通量感應(yīng)熔煉爐 162     

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SP-50KTC-M是一款溫度可控型高通量感應(yīng)熔煉爐系統(tǒng)，可一次性熔煉多個直徑5-8mm的合金桿，溫度可高達2000℃，此設(shè)備特別適合于采用高通量方法進行新一代合金的研究制備。

高壓氣氛控制感應(yīng)熔煉/鑄造/造粒爐 254     

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IMCS-1700HP是一款高壓氣氛控制感應(yīng)熔煉/鑄造/造粒爐，最高工作溫度可達1700℃，腔體可承受氣壓為1MPa，適用于處理1kg合金樣品。該設(shè)備采用三相380VAC電源，最大輸入功率為25kW，配備感應(yīng)線圈尺寸為170mm（內(nèi)徑）×110mm（高），并具備自動水壓、過熱和功率過高保護功能。熔煉腔體采用SS304不銹鋼制作，帶有水冷夾層，確保工作時表面溫度低于60℃，并配備安全卸壓閥。溫控系統(tǒng)采用PID方式控溫，可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為±5℃，連續(xù)工作溫度范圍為500℃~1600℃，短時間內(nèi)可達到1700℃。

32工位高通量手動電弧熔煉爐 178     

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SP-MAM-32是一款32工位的手動電弧熔煉系統(tǒng)，2個16工位水冷銅坩堝嵌入在手套箱中，熔煉過程全在手套箱里操作，其手套箱里的氧含量可控制到< 2 ppm?？墒謩右苿託寤∏坏矫總€銅坩堝中，對金屬進行熔煉，其最高熔煉溫度可達3000℃。此設(shè)備特別適合于采用高通量方法來進行合金結(jié)構(gòu)研究及相圖的完善。

小型電弧熔煉爐 169     

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SP-MSM208是一款小型電弧熔煉爐，帶有吸鑄系統(tǒng)，可以鑄造出直徑為6mm的金屬棒。通過真空吸附將熔融態(tài)的金屬迅速吸入到銅模中，得到縮孔較少的金屬棒。設(shè)備上安裝有樣品反轉(zhuǎn)桿，可在不破壞真空的環(huán)境下，對樣品進行翻轉(zhuǎn)。SS304不銹鋼腔體保證了一個潔凈的熔煉環(huán)境，可滿足各種嚴苛的實驗要求。

1200℃多坩堝同時移動型管式爐 202     

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OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐，通過升降雙通道進料系統(tǒng)可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟，并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進入管式爐中進行共蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現(xiàn)快速加熱，并且通過對各個溫區(qū)設(shè)置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進料系統(tǒng)可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發(fā)料的坩堝一同推進拉出，實現(xiàn)共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā)，特別適用于多層二維晶體材料的制備。

1100℃小型坩堝爐 255     

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KSL-1100X-SV是一款通過CE認證的小型坩堝爐，此爐適用于熔煉各種金屬，如Al, Au,Li In ， Li， Mg等等，其最高溫度可達1100℃，同時也可用于各種材料的退火和燒結(jié)?？稍O(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC。

1100℃電動開啟式三溫區(qū)管式爐 252     

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OTF-1100X-15-III是一款通過CE認證的三溫區(qū)管式爐，采用15英寸石英爐管及不銹鋼密封法蘭（安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表）。爐體設(shè)計為電動開啟式。三個溫區(qū)獨立控制，可設(shè)置30段升降溫曲線，帶有超溫和短偶保護，控溫精度為+/-0.5 oC。此款設(shè)備廣泛應(yīng)用于各種材料在真空或氣氛保護環(huán)境下的熱處理。

1200℃小型四溫區(qū)開啟式管式爐 153     

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OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4溫區(qū)管式爐，所有電器元件都通過了UL / MET / CSA認證。此款管式爐最高工作溫度1100℃，共有4個溫區(qū)，每個溫區(qū)長度為100mmL爐管直徑為25mm或50mm,并配有一套不銹鋼密封法蘭，可對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理。每個溫區(qū)由獨立的溫控系統(tǒng)控制，都可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃。

1200℃五溫區(qū)管式爐 166     

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OTF-1200X-V是一款通過CE認證的是五溫區(qū)開啟式管式爐，每個溫區(qū)分別由五個獨立溫控系統(tǒng)單獨控制，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度或是形成較長的恒溫區(qū)域。每個控溫系統(tǒng)都采用PID方式調(diào)節(jié)，可以設(shè)置30段升降溫程序，采用K型omega熱電偶進行溫度的測量和控制，其控溫精度可以達到+/- 1℃。

1400℃下裝載型氣氛箱式爐 168     

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KSL-1500X-GS125是一款底部裝載型氣氛箱式爐（箱體容積125L，500 x 500 x 500 mm），最高溫度可達1400℃。此款設(shè)備爐膛材料為高純氧化鋁纖維，SiC棒作為加熱元件（4面加熱，溫場更均勻）。下轉(zhuǎn)載機構(gòu)上配有不銹鋼密封法蘭，爐體可抽真空&可通入氣氛，材料可在惰性氣氛和O2氣氛下熱處理。

1200℃自動進出料旋轉(zhuǎn)爐 187     

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OTF-1200X-4-R-II-AF是一款雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)管式爐，安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中，此過程可在氣氛保護環(huán)境下進行，可實現(xiàn)用連續(xù)CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環(huán)境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設(shè)計主要是在鋰離子電池的陰極材料（如LiFePO3, LiMnNiO3）上包覆導(dǎo)電層，同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。

下裝載爐 184     

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VTF-1600X-B下裝載爐是一款高性能的高溫實驗設(shè)備，最高溫度可達1700℃，額定溫度為1600℃，推薦升溫速率為≤10℃/min。該爐采用下開門設(shè)計，配備兩個爐門和可移動加熱平臺，通過升降平臺和爐門配合，可在加熱爐不降溫的情況下連續(xù)燒結(jié)物料，顯著節(jié)省燒結(jié)時間。其爐膛容積為13L（直徑280mm×深度300mm），采用B型雙鉑銠熱電偶測溫，控溫精度達±1℃。設(shè)備配備先進的電氣控制系統(tǒng)，包括30段程序溫控器、觸摸屏操作界面，具備超溫、偏差、斷偶報警功能，以及RS485通訊接口，可實現(xiàn)數(shù)據(jù)記錄與遠程監(jiān)控。

1700℃帶石英窗口箱式爐 258     

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KSL-1700X-A1-W高溫箱式爐是一款CE認證的可視臺式高溫馬弗爐。該爐由優(yōu)質(zhì)氧化鋁纖維絕緣材料和1800級MoSi2加熱元件組成，高精度SCR（硅控整流器）和溫度控制器配套使用測量和調(diào)節(jié)溫度，精度為+/-1°C，最高溫度可達1700°C。帶有石英觀察窗口，可在工作過程中隨時觀察物料狀態(tài)，是專為高等院校、科研院所的實驗室及工礦企業(yè)對金屬、非金屬及其化合物材料進行燒結(jié)、融化、分析而研制的專用設(shè)備。

1200℃小型旋轉(zhuǎn)爐 185     

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OTF-1200X-S-R-II是一款1200℃小型雙溫區(qū)旋轉(zhuǎn)爐，配備Φ50異型石英管，專為實現(xiàn)粉體材料燒結(jié)的均勻性而設(shè)計，尤其適用于鋰離子電池陰極材料表面導(dǎo)電層的CVD包覆工藝。其安裝尺寸為L1000mm×W300mm×H390mm，重量僅18kg，結(jié)構(gòu)緊湊、輕便易用，能夠有效提升材料處理的均勻性和效率，是高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室進行材料研發(fā)和工藝優(yōu)化的理想選擇。