OTF-1200X-S-HPCVD 1200℃坩堝可移動型管式爐
OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開啟式管式爐,專為冶金及材料合成實驗設(shè)計。其爐管直徑為50mm,配備步進(jìn)電機(jī)控制坩堝在爐管內(nèi)的移動,能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和材料處理。這種設(shè)計特別適合用于冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)、升華以及薄膜沉積等實驗,可有效控制材料的生長過程和微觀結(jié)構(gòu),為研究高性能金屬材料和
復(fù)合材料提供重要的實驗支持。
應(yīng)用范圍:OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動(靠步進(jìn)電機(jī)控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備最高工作溫度為1200℃。
產(chǎn)品型號 :OTF-1200X-S-HPCVD
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動(靠步進(jìn)電機(jī)控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設(shè)備最高工作溫度為1200℃。
性能指標(biāo)和基本配置