一拖二感應(yīng)加熱設(shè)備通過一個(gè)電源同時(shí)驅(qū)動(dòng)兩個(gè)感應(yīng)線圈,能夠同時(shí)對(duì)兩個(gè)工件進(jìn)行加熱處理,顯著提高了生產(chǎn)效率。這種設(shè)備在冶金領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于金屬的熔煉、熱處理、鍛造等工藝,能夠快速將金屬加熱到所需溫度,同時(shí)保持加熱的均勻性。例如,在金屬熔煉過程中,一拖二感應(yīng)加熱設(shè)備可以同時(shí)熔化兩種不同的金屬,提高熔煉效率。
手持式超高頻感應(yīng)加熱設(shè)備是一款便攜、高效的工業(yè)加熱工具,專為現(xiàn)場(chǎng)快速加熱需求設(shè)計(jì)。設(shè)備功率為4kW,采用全數(shù)字嵌入式控制軟件,確保加熱過程的精準(zhǔn)控制和高效運(yùn)行。配備2米長(zhǎng)的手持線纜,操作靈活,便于在復(fù)雜環(huán)境下進(jìn)行局部加熱處理,廣泛應(yīng)用于小型零件的焊接、熱處理、透熱等工藝,特別適合現(xiàn)場(chǎng)維修和小規(guī)模生產(chǎn)。
60kW超高頻感應(yīng)加熱設(shè)備是一款高效、智能的工業(yè)加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于焊接、熔煉、在線加熱、透熱和固溶等領(lǐng)域。該設(shè)備功率為60kW,震蕩頻率范圍為80K–150kHz,可根據(jù)需求靈活匹配。采用全數(shù)字嵌入式控制方式,主芯片為ARM STM32數(shù)字控制芯片,運(yùn)行速度高達(dá)150MHz,確保設(shè)備的高精度和高響應(yīng)速度。設(shè)備主機(jī)采用水冷結(jié)構(gòu),分機(jī)為全風(fēng)冷設(shè)計(jì),具備24小時(shí)連續(xù)作業(yè)能力,功率模塊采用SIC逆變模塊,進(jìn)一步提升效率和穩(wěn)定性。設(shè)備配備3.5寸(或7寸)液晶屏,實(shí)時(shí)顯示時(shí)間、電流、頻率、電流曲線等信息,并在報(bào)警狀態(tài)下顯示故障原因及解決方法。
DIH-320數(shù)字式感應(yīng)加熱設(shè)備是一款高效、智能的冶金加工設(shè)備,廣泛應(yīng)用于焊接、熔煉、加熱、熱處理和熱裝配等領(lǐng)域。該設(shè)備功率為200kW,震蕩頻率10-60KHz自適應(yīng),采用全數(shù)字嵌入式控制軟件,具備多段溫控(默認(rèn)5段,可定制)和精準(zhǔn)的加熱時(shí)間及電流控制,加熱時(shí)間可精確到0.1秒,電流精確到1A。其豐富的通訊接口支持RS-485、Profibus、CAN等工業(yè)總線,可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制和參數(shù)存儲(chǔ),便于一鍵調(diào)取。設(shè)備還具備多種操作模式(手動(dòng)、自動(dòng)、溫控)和交互式人機(jī)界面,實(shí)時(shí)顯示加工參數(shù)并繪制電流、頻率曲線。
固定式電磁坩堝熔煉爐是專為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高效熔煉設(shè)備,廣泛應(yīng)用于鋁及鋁合金等金屬材料的熔化和保溫處理。該設(shè)備采用先進(jìn)的電磁加熱技術(shù),結(jié)合進(jìn)口元器件和DSP/ARM全數(shù)字控制電路,支持光纖、以太網(wǎng)、RS485/232、Profibus、CAN等多種工業(yè)總線通訊接口,可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制與精準(zhǔn)操作。爐膛采用纖維棉、保溫磚、莫來石磚和澆注料等優(yōu)質(zhì)材料,確保爐壁溫升不超過環(huán)境溫度+25℃,同時(shí)配備鋁液和爐膛氣氛雙重溫度控制,采用PID閉環(huán)控溫,精度可達(dá)±3℃,有效延長(zhǎng)爐膛壽命。
傾倒式電磁坩堝熔煉爐是專為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高效熔煉設(shè)備,主要用于鋁及鋁合金的熔煉,熔煉量可達(dá)500kg-1000kg,產(chǎn)品功率范圍為100kw-200kw。該設(shè)備采用先進(jìn)的電磁加熱技術(shù),通過進(jìn)口元器件和DSP/ARM全數(shù)字控制電路,支持多種工業(yè)總線通訊接口,實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制與精準(zhǔn)操作。爐膛采用纖維棉、保溫磚、莫來石磚和澆注料等優(yōu)質(zhì)材料,確保爐壁溫升低,同時(shí)配備鋁液與爐膛氣氛溫度雙重控制,采用PID閉環(huán)控溫,精度可達(dá)±3℃,有效延長(zhǎng)爐膛壽命。
熔煉爐是一種專為冶金行業(yè)設(shè)計(jì)的高效設(shè)備,廣泛應(yīng)用于鋼、不銹鋼、黃銅、銅、鋁、鋁合金、金、銀等多種金屬材料的熔煉,熔煉量范圍從3kg到500kg。該設(shè)備采用全固態(tài)功率元器件,相比傳統(tǒng)可控硅中頻設(shè)備節(jié)能20%-40%,結(jié)合DSP或ARM全數(shù)字嵌入式軟件和進(jìn)口元器件,具備豐富的通訊接口,支持光纖、以太網(wǎng)、RS485等多種工業(yè)總線,可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制,確保4小時(shí)連續(xù)工作且全天候穩(wěn)定運(yùn)行。感應(yīng)加熱自帶電磁攪拌力,使熔液更加均勻,減少雜質(zhì),提升鑄件質(zhì)量。
500kg鋼殼熔煉爐是一種高效節(jié)能的冶金設(shè)備,廣泛應(yīng)用于鋼、不銹鋼、銅、鋁、金、銀等多種金屬材料的熔煉,熔煉量可達(dá)500kg。該設(shè)備采用全固態(tài)功率元器件,相比傳統(tǒng)可控硅中頻設(shè)備節(jié)能20%-40%,具有高效節(jié)能、運(yùn)行穩(wěn)定的特點(diǎn)。其工作頻率為1-3kHz,設(shè)備功率為400kW,可實(shí)現(xiàn)4小時(shí)連續(xù)工作,全天候運(yùn)行。
KSL-1100X-S是一款1100℃迷你型箱式爐,專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用電阻絲加熱元件和K型熱電偶,配備30段可編程溫度控制器,最高溫度可達(dá)1100℃,連續(xù)工作溫度為1000℃,控溫精度為±1℃。爐膛采用日制高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料,具有體積小、重量輕、溫場(chǎng)均衡、升溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。其下拉式爐門結(jié)構(gòu)方便樣品的放置和取出,同時(shí)設(shè)有通氣接口,可用于氧氣或惰性氣體環(huán)境下的實(shí)驗(yàn)。此外,該設(shè)備還可放置在手套箱內(nèi),在真空和可控氣氛條件下燒結(jié)樣品。
KSL-1200X-J-F是一款通過CE認(rèn)證的1200℃分體式微型箱式爐,專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐膛尺寸為150mm×155mm×180mm(4.2L),采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料,表面涂有高溫氧化鋁涂層,能夠提高加熱效率、保持爐膛潔凈,并延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。該設(shè)備配備PID溫控系統(tǒng),可設(shè)置30段升降溫程序,最高工作溫度可達(dá)1200℃。其獨(dú)特的分體式設(shè)計(jì)使其能夠與KF40饋通連接,特別適合在手套箱中使用。
VBF-1200X是一款1200℃小型立式箱式爐,專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用進(jìn)口電阻絲作為加熱元件,配備K型熱電偶和30段可編程溫度控制器,能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。其上開式爐門結(jié)構(gòu)方便樣品的放置和取出。該爐具有體積小、重量輕、溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快以及節(jié)能等優(yōu)點(diǎn),特別適合高校、科研院所和工礦企業(yè)進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)、金屬退火及質(zhì)量檢測(cè)等實(shí)驗(yàn)。在冶金領(lǐng)域,VBF-1200X可用于研究金屬材料的熱處理工藝、相變行為以及合金的微觀結(jié)構(gòu)優(yōu)化。
KSL-1600X-MW6是一款1600℃的實(shí)驗(yàn)型微波箱式爐,專為快速加熱和燒結(jié)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì),加熱速率可達(dá)60℃/min。該設(shè)備適用于電子陶瓷、磁性材料、鋰離子電池正極材料及其他無機(jī)氧化物粉體的燒結(jié)制備。在冶金領(lǐng)域,KSL-1600X-MW6可用于研究金屬氧化物的還原、金屬粉末的燒結(jié)以及新型合金材料的開發(fā),其快速加熱特性能夠顯著提高實(shí)驗(yàn)效率,為材料的高溫合成和性能優(yōu)化提供重要支持。
KSL-1800X-GX是一款專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的1800℃大型箱式爐,采用下裝載方式進(jìn)料,裝載盤承重可達(dá)300kg,能夠?qū)Υ笈繕悠吩诳諝饣蜓鯕猸h(huán)境下進(jìn)行熱處理。該設(shè)備具有雙層殼體結(jié)構(gòu)并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),保證殼體表面溫度不過高。其爐膛采用高純氧化鋁纖維材料,耐火度可達(dá)2200℃,加熱元件為硅鉬棒。在冶金領(lǐng)域,KSL-1800X-GX可用于金屬材料的高溫?zé)Y(jié)、退火、回火等熱處理工藝,特別適合對(duì)大型工件或大批量樣品進(jìn)行處理。
VBF-1200X-E8是一款通過CE認(rèn)證的1100℃可升降立式氣氛管式爐,專為真空或各種氣氛條件下的熱處理設(shè)計(jì)。其石英腔體尺寸為Φ200×340mm,加熱絲分布在腔體外側(cè),底部配備升降臺(tái),可自由升降,采用SS水冷法蘭和針閥密封。使用雙旋片機(jī)械泵或分子泵機(jī)組時(shí),真空度可達(dá)10?2~10?? Torr。該設(shè)備特別適合對(duì)6英寸以下的樣品進(jìn)行熱處理,廣泛應(yīng)用于冶金領(lǐng)域,例如對(duì)金屬材料進(jìn)行退火、氧化還原處理等,能夠滿足多種材料在高溫環(huán)境下的實(shí)驗(yàn)需求。
KSL-1200X-H2是一款通過CE認(rèn)證和TUV/UL認(rèn)證的1200℃箱式氣氛爐,專為氫氣環(huán)境下的熱處理設(shè)計(jì)。其爐腔采用五面加熱設(shè)計(jì),確保溫場(chǎng)均勻,最高溫度可達(dá)1200℃,連續(xù)工作溫度為1100℃。該設(shè)備配備Kathal公司的Fe-Cr-Al合金加熱元件,爐膛尺寸為400×400×400mm,具有真空密封和水冷系統(tǒng),確保操作安全。爐頂安裝有氫氣自動(dòng)點(diǎn)火裝置,可自動(dòng)點(diǎn)燃排除的氫氣,保障使用安全。此外,該設(shè)備還可在惰性或氧氣環(huán)境下對(duì)材料進(jìn)行熱處理,特別適合于熒光粉和鈦合金等材料的熱處理。
OTF-1200X-S50-LVT是一款通過CE認(rèn)證的小型開啟式管式爐,最高溫度可達(dá)1200℃,適用于冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)。該設(shè)備配備精密的真空測(cè)試儀表、真空泵和OMEGA測(cè)溫儀表,能夠精確測(cè)量燒結(jié)樣品的實(shí)際溫度。其控溫儀表可設(shè)置30段升降溫程序,控溫精度為±1℃,確保實(shí)驗(yàn)過程的精確控制。在冶金領(lǐng)域,OTF-1200X-S50-LVT可用于金屬材料的高溫真空處理、合金的熱處理以及材料在不同氣氛下的性能研究,為開發(fā)高性能金屬材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。
OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的高溫高壓管式爐,爐體配備三個(gè)獨(dú)立溫區(qū),能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。該設(shè)備配備氣體控制柜,可在升降溫過程中保持爐管內(nèi)氣壓恒定,特別適用于氧化物的處理,能夠維持穩(wěn)定的氧分壓。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作,最高耐溫可達(dá)1100℃,特別適合對(duì)氧化物超導(dǎo)線和氧化物陶瓷進(jìn)行熱處理。這種設(shè)計(jì)使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究氧化物材料的高溫合成、熱處理及性能優(yōu)化,為開發(fā)高性能陶瓷材料和超導(dǎo)材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。
GSL-1700X-HNG是一款通過CE認(rèn)證的1700℃高溫管式爐,專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用高純剛玉材質(zhì),具有優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性和抗腐蝕性,最高溫度可達(dá)1700℃,特別適合用于高溫?zé)Y(jié)各種金屬、合金及陶瓷材料。設(shè)備配備折疊式法蘭,使放樣和取樣更加便捷,同時(shí)采用30段升降溫程序控溫,控溫精度為±1℃,能夠滿足復(fù)雜的冶金工藝需求,為高性能材料的開發(fā)和研究提供可靠的實(shí)驗(yàn)支持。
OTF-1200X-60UV是一款通過CE認(rèn)證的高溫高壓管式爐,專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用鎳基合金鋼管,具有優(yōu)異的抗氧化性能,可在高溫狀態(tài)下通入氧氣和水蒸氣,最高溫度可達(dá)1100℃,最大真空度可達(dá)10?? Torr。這種設(shè)計(jì)使其特別適合用于冶金領(lǐng)域中的高溫氧化實(shí)驗(yàn)、合金熱處理以及材料在極端條件下的性能研究,為開發(fā)高性能金屬材料和復(fù)合材料提供可靠的實(shí)驗(yàn)支持。
GSL-1700X-MGI-4是一款專為高通量熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的小型4通道管式爐,爐管直徑為Φ25mm,最高溫度可達(dá)1700℃。該設(shè)備特別適用于合金和陶瓷的熱處理,能夠高效完成多種材料的高溫實(shí)驗(yàn)。其多通道設(shè)計(jì)可同時(shí)處理多個(gè)樣品,顯著提高實(shí)驗(yàn)效率,是材料基因計(jì)劃中探索材料相圖和優(yōu)化合金性能的理想工具。在冶金領(lǐng)域,該設(shè)備可用于研究合金的熱處理工藝、相變行為以及陶瓷材料的燒結(jié)特性,為高性能材料的研發(fā)提供重要支持。
OTF-1200X-X-85GF是一款專為高溫高壓材料合成設(shè)計(jì)的1100℃十溫區(qū)管式爐,爐管采用Ni基合金鋼制作,能夠在氧或惰性氣體環(huán)境下承受高溫高壓(最高溫度1000℃)。該設(shè)備配備壓力和氣體流量控制系統(tǒng),確保升溫和降溫過程中爐管內(nèi)壓力穩(wěn)定。其獨(dú)特的十溫區(qū)設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)精確的溫度控制,特別適用于制備Fe基超導(dǎo)材料和新一代氧化物陶瓷材料。在冶金領(lǐng)域,該設(shè)備可用于研究新型材料的高溫合成機(jī)制和性能優(yōu)化,為高性能材料的開發(fā)提供有力支持。
OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐,專為高溫高壓環(huán)境下的光學(xué)氣體分析實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用高溫鎳基合金鋼制作,具有優(yōu)異的耐高溫和抗氧化性能,最高工作溫度可達(dá)1100℃。兩端法蘭上安裝的石英窗口能夠允許各種波長(zhǎng)的光通過整個(gè)爐管,便于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)實(shí)驗(yàn)過程中的光學(xué)變化。這種設(shè)計(jì)特別適合冶金領(lǐng)域中對(duì)金屬材料在高溫高壓條件下的反應(yīng)過程進(jìn)行光學(xué)分析,為研究材料的相變、氧化還原行為等提供重要支持。
OTF-1200X-II-HPV是一款1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐,專為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)。其爐管采用鎳基合金鋼管制作,具有高蠕變強(qiáng)度和抗氧化性,可承受最高溫度1100℃,在此溫度下最大壓力為3MPa。該設(shè)備特別適合在高壓氧環(huán)境下對(duì)金屬樣品進(jìn)行熱處理,也可用于水浴法制備材料。法蘭上安裝的電磁閥可在壓力超過設(shè)定值時(shí)自動(dòng)排氣,確保實(shí)驗(yàn)安全。其雙溫區(qū)設(shè)計(jì)能夠滿足復(fù)雜的冶金工藝需求,為金屬材料的高溫高壓研究提供可靠的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。
GSL-1600-HP是一款專為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高溫高壓氣氛燒結(jié)爐,最高溫度可達(dá)1600℃,最高壓力可達(dá)10MPa,能夠滿足高溫高壓下材料的燒結(jié)需求。其大型爐腔和高壓力設(shè)計(jì)使其特別適合用于燒結(jié)高性能金屬陶瓷、硬質(zhì)合金等材料,為冶金研究和生產(chǎn)提供可靠的高溫高壓環(huán)境,是開發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化燒結(jié)工藝的理想設(shè)備。
OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV標(biāo)準(zhǔn)的氫氣管式爐,專為冶金領(lǐng)域中的磁性材料氫爆處理及氫氣環(huán)境下的熱處理設(shè)計(jì)。該設(shè)備配備5個(gè)獨(dú)立溫控系統(tǒng)的溫區(qū),爐管采用310不銹鋼材質(zhì),尺寸為Φ100mm×1500mm,能夠滿足多種材料的高溫處理需求。此外,設(shè)備內(nèi)置3M氫氣探測(cè)器,一旦檢測(cè)到氫氣泄漏,將自動(dòng)關(guān)閉進(jìn)氣閥和出氣閥,確保實(shí)驗(yàn)過程的安全。其最高溫度可達(dá)1200℃,適用于對(duì)氧敏感的金屬材料和磁性材料的高溫處理,是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研究和開發(fā)的理想設(shè)備。
OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標(biāo)準(zhǔn)的10英寸氫氣管式爐,專為冶金領(lǐng)域中的Ti合金退火和對(duì)氧敏感材料的熱處理設(shè)計(jì)。其爐管采用NiCrAl合金材質(zhì),具有優(yōu)異的耐高溫和耐腐蝕性能,爐體設(shè)計(jì)有3個(gè)加熱區(qū),最高溫度可達(dá)1250℃。該設(shè)備能夠在高真空或氫氣環(huán)境下進(jìn)行熱處理,特別適用于對(duì)材料微觀結(jié)構(gòu)和性能有嚴(yán)格要求的冶金實(shí)驗(yàn),為高性能金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供可靠的高溫處理解決方案。
GSL-1100X-III-D11是一款專為大面積材料生長(zhǎng)設(shè)計(jì)的三溫區(qū)大型雙管爐,最高溫度可達(dá)1100℃。其獨(dú)特的雙管設(shè)計(jì)通過CVD方法在箔材上實(shí)現(xiàn)大面積(約7000cm2)材料生長(zhǎng),箔材纏繞在內(nèi)管外壁上,送管裝置可輕松將內(nèi)管送入或取出外管。該設(shè)備不僅適合大面積生長(zhǎng)石墨烯和柔性電極材料,還可用于冶金領(lǐng)域中大面積薄膜材料的制備和研究,為開發(fā)高性能復(fù)合材料和新型電極材料提供有力支持。
OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐,專為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管直徑為4英寸,樣品臺(tái)滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管,可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下實(shí)現(xiàn)樣品的快速移動(dòng)。該設(shè)備最大升溫速率達(dá)到50℃/s,最大冷卻速率達(dá)到10℃/s,能夠高效完成快速熱處理任務(wù)。此外,它還可通過HPCVD方法生長(zhǎng)二維晶體,一個(gè)加熱區(qū)用于蒸發(fā)固體原料,另一個(gè)加熱區(qū)用于樣品沉積,特別適用于冶金領(lǐng)域中二維材料的生長(zhǎng)和金屬薄膜的制備。
OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開啟式管式爐,專為冶金及材料合成實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管直徑為50mm,配備步進(jìn)電機(jī)控制坩堝在爐管內(nèi)的移動(dòng),能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和材料處理。這種設(shè)計(jì)特別適合用于冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)、升華以及薄膜沉積等實(shí)驗(yàn),可有效控制材料的生長(zhǎng)過程和微觀結(jié)構(gòu),為研究高性能金屬材料和復(fù)合材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。
RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速熱處理(RTP)管式爐,專為半導(dǎo)體基片、太陽能電池及其他樣品(尺寸可達(dá)3英寸)的退火工藝設(shè)計(jì)。該設(shè)備配備三路浮子流量計(jì)和機(jī)械泵,真空度可達(dá)10?3 Torr。采用9kW紅外燈加熱,最快升溫速度可達(dá)100℃/秒,配備30段精確溫度控制,精度為±1℃。此外,設(shè)備還配有RS485接口和控制軟件,可通過計(jì)算機(jī)控制運(yùn)行并顯示溫度曲線。其安裝尺寸為600mm×600mm×597mm,重量為210lbs。在冶金領(lǐng)域,該設(shè)備可用于快速熱處理金屬材料,優(yōu)化材料的微觀結(jié)構(gòu)和性能。
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