吉致電子JEEZ鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry 2730     

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無錫吉致電子25年研發(fā)生產(chǎn)——鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry/鋁合金CMP拋光液/鋁合金化學(xué)機(jī)械拋光液/鋁合金lapping研磨拋光液/鋁合金化學(xué)機(jī)械拋光液Slurry/鋁合金CMP集成電路拋光液/JEEZ鋁合金拋光液

阻尼布拋光墊 1493     

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吉致電子拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求，針對碳化硅SIC拋光的4道工藝制程搭配不同型號拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價(jià)比等優(yōu)勢。

碳化硅拋光墊 1401     

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吉致電子拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求，針對碳化硅SIC拋光的4道工藝制程搭配不同型號拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價(jià)比等優(yōu)點(diǎn)。

鎢拋光液 1224     

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吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國內(nèi)外同類產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn).

吉致電子SiC碳化硅襯底研磨拋光產(chǎn)品 2222     

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吉致針對碳化硅sic拋光的4道工藝制程搭配不同型號研磨液、拋光液和拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）。在研磨和拋光應(yīng)用中提高碳化硅襯底表面質(zhì)量，同時(shí)大大提高材料去除率。

吉致電子JEEZ陶瓷拋光液 CMP納米級拋光液 2210     

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吉致電子陶瓷類拋光液適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光，通過CMP拋光工序可得到理想鏡面效果，表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點(diǎn)。

吉致電子JEEZ銅拋光液/合金銅拋光液/銅表面拋光液/金屬研磨液/鏡面拋光液 2166     

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合金銅CMP拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態(tài)的銅、合金銅工件的鏡面拋光，CMP拋光工序通過大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用，可以使銅金屬表面得到加工和平整坦化。化學(xué)氧化銅金屬后磨蝕性去除氧化物部分的機(jī)制可得到理想鏡面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點(diǎn)。

吉致電子JEEZ鉬拋光液/金屬鉬拋光/激光反射鏡拋光液/CMP研磨液/鏡面拋光液 2343     

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金屬鉬片拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態(tài)的鉬、鉬合金工件的鏡面拋光，拋光工序通過大量磨擦和化學(xué)反應(yīng)作用，可以使鉬金屬表面快速去粗和平整坦化?；瘜W(xué)氧化腐蝕鉬合金表面，研磨去除氧化物部分的機(jī)制可得到理想鏡面效果，金屬鉬工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點(diǎn)。