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中紅外非線性光學(xué)晶體材料RbIO2F2及其制備方法和應(yīng)用

672   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:20:18
本發(fā)明公開(kāi)了一種中紅外非線性光學(xué)晶體材料,其化學(xué)式為RbIO2F2,上述材料的晶體空間群為Pca21,晶胞參數(shù)為a?=?8.567(4)??、b?=?6.151(3)?、c?=?8.652(4)??、α?=?β?=?γ?=?90?、Z?=?4。本發(fā)明還提供了上述晶體材料的水熱法制備方法,本發(fā)明制得的中紅外非線性光學(xué)晶體材料具有較強(qiáng)的能相位匹配的倍頻效應(yīng)(SHG),Kurtz粉末倍頻測(cè)試結(jié)果表明其粉末倍頻效應(yīng)為磷酸二氫鉀(KDP)的4倍;激光損傷閾值至少為700?MW/cm2,是目前的商用的中紅外非線性光學(xué)晶體材AgGaS2的激光損傷閾值的23倍以上;在可見(jiàn)光區(qū)和中紅外光區(qū)有較寬的透過(guò)范圍,完全透過(guò)波段為0.29?12微米;不含結(jié)晶水,對(duì)空氣穩(wěn)定,且熱穩(wěn)定性較好;可利用簡(jiǎn)單的溶劑揮發(fā)法制備單晶材料。
聲明:
“中紅外非線性光學(xué)晶體材料RbIO2F2及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)
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