本發(fā)明屬于化學(xué)氣相沉積真空設(shè)備及微納薄膜生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種分源定位真空管式爐裝置，包括氣體流量控制器、置源組件、第一法蘭盤、管式爐石英管和第二法蘭盤，置源組件包括第一接口、置源管、伸縮管和測(cè)溫管，置源管和氣體流量控制器通過(guò)第一接口相互連通，伸縮管套設(shè)于置源管外，測(cè)溫管一端穿過(guò)第一接口并容置于置源管內(nèi)；第一法蘭盤一端面設(shè)置有和多個(gè)置源組件一一對(duì)應(yīng)安裝的多個(gè)第二接口，管式爐石英管兩端分別安裝有第一法蘭盤和第二法蘭盤。本發(fā)明提供的裝置可將化學(xué)氣相沉積生長(zhǎng)所需的各個(gè)分子源獨(dú)立分開控制，獨(dú)立調(diào)節(jié)各個(gè)分子源的溫度、流速和位置，能夠精度滿足納米薄膜生長(zhǎng)需求，法蘭端真空接口擴(kuò)展容易，調(diào)整方便。