本發(fā)明公開了一種自支撐懸浮石墨化碳膜制備方法。主要利用化學氣相沉積方法，在硅晶圓襯底上，通過含碳有機物氣體在高溫氫氣環(huán)境中裂解，自組裝包裹沉積一層碳膜，再對襯底進行刻蝕，憑借強化學穩(wěn)定的碳?硅化學健的形成，得到具有較高機械強度的懸浮自支撐碳膜。技術方案的要點有：利用優(yōu)化的化學氣相沉積條件，通過多種圖形化開窗口技術，選擇合適的濕法刻蝕參數進行刻蝕，從而得到不同厚度、不同窗口尺寸的硅基自支撐碳膜。本方法制備的自支撐碳膜具有其制作方法簡單，成本低廉，機械強度高，厚度大小易于控制等顯著特點。使用此制備方案得到的自支撐懸浮碳膜可以替代傳統(tǒng)鈹(Be)箔窗口，用于X射線窗口薄膜，更好地探測更低能量的X射線特征譜線；可以用于透射電子顯微鏡載物樣品支撐；還可用于真空計、微機電與納機電系統(tǒng)等領域。