本發(fā)明涉及一種低發(fā)射率及低吸收比熱控涂層的制備方法。包括以下操作步驟：(1)按常規(guī)鋁合金浸蝕處理方法進(jìn)行前處理；(2)將前處理天線陣面放入化學(xué)拋光溶液中化學(xué)拋光；(3)將拋光天線陣面按電壓——時(shí)間動(dòng)態(tài)參數(shù)關(guān)系微調(diào)技術(shù)進(jìn)行電化學(xué)氧化；(4)按常規(guī)熱純水封孔處理，得到具有高精度低發(fā)射率/低吸收比熱控涂層的鋁合金縫隙波導(dǎo)天線陣面；(5)按常規(guī)半球發(fā)射率和太陽低吸收比測(cè)試方法進(jìn)行測(cè)試；測(cè)試結(jié)果是半球發(fā)射率εH為0.32±0.02，太陽吸收比αs為0.18±0.02；(6)本發(fā)明的高精度低發(fā)射率及低吸收比熱控涂層經(jīng)總遭遇量為1.6×1020個(gè)/cm2的耐原子氧空間環(huán)境試驗(yàn)后，外觀完好，不起泡、不起皮，不剝落，試驗(yàn)前后半球發(fā)射率和太陽吸收比的變化小于0.02。