本發(fā)明公開了一種高Q高FoM的金屬介質(zhì)輔助GMR的折射率傳感
芯片,所述的折射率傳感芯片分為四層結構,第一層為底層的透明介質(zhì)基底,第二層為金屬薄膜層,第三層介質(zhì)光柵層,第四層為高折射率介質(zhì)光柵層;其中,介質(zhì)光柵層和高折射率介質(zhì)光柵層為周期性光柵陣列,光柵周期同為p,光柵占空比同為q,厚度分別為t1和t2,其中t1<t2;通過調(diào)整芯片的結構參數(shù),包括金屬薄膜層厚度和高折射率介質(zhì)光柵層的光柵參數(shù)及厚度,在Q值較低的GMR(Guided?Mode Resonance)共振峰的基礎上,衍生出一個高Q的共振峰;該高Q共振峰處伴隨著相位突變,高Q共振峰具備偏振敏感性?;诒景l(fā)明可實現(xiàn)高靈敏的折射率傳感,對疾病診斷、藥物研發(fā)、生物化學檢測等領域具有發(fā)展性的意義。
聲明:
“高Q高FoM的金屬介質(zhì)輔助GMR的折射率傳感芯片” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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