本發(fā)明公開了一種適用于物理氣相沉積工藝的石英鍋等離子熔射方法，涉及石英鍋等離子熔射技術(shù)領(lǐng)域，包括以下步驟：S1、遮蔽操作；S2、噴砂處理；S3、第一次檢測操作；S4、第一次清洗操作；S5、第一次烘烤操作；S6、熔射操作；S7、第二次檢測操作；S8、第二次清洗操作；S9、超聲操作；S10、第二次烘烤操作。本發(fā)明石英鍋用于制造集成電路的物理氣相沉積中的pre?c l ean XT工藝腔體中，物理氣相沉積技術(shù)其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上，其制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。