本實(shí)用新型涉及一種制備二維薄膜材料的化學(xué)氣相沉積裝置。其包括：氣源；反應(yīng)腔體，其設(shè)有進(jìn)氣口和置物口，置物口設(shè)有開合門；主腔體，反應(yīng)腔體位于主腔體內(nèi)；主腔體內(nèi)部設(shè)有加熱裝置，表面設(shè)有進(jìn)氣孔，進(jìn)氣孔通過氣管與進(jìn)氣口連接；溫度測量裝置，包括溫度傳感器以及溫度顯示裝置；抽真空系統(tǒng)，抽真空系統(tǒng)與主腔體連接；真空測量裝置，連接于主腔體，其包括插入主腔體內(nèi)的測量頭；還包括：等離子體增強(qiáng)裝置，其設(shè)置于氣源與主腔體之間，氣源通過管道與活性增強(qiáng)人口連接，活性增強(qiáng)出口通過法蘭與進(jìn)氣孔連接。本實(shí)用新型通過設(shè)置等離子體增強(qiáng)裝置對反應(yīng)氣體等離子化，增加反應(yīng)氣體的活性，使得反應(yīng)氣體反應(yīng)的溫度降低，且反應(yīng)周期短，節(jié)省成本。