本發(fā)明公開了一種化學(xué)機(jī)械拋光液，其含有水、比表面積(用BET比表面積測試法測得)范圍為120～300m2/g的研磨劑、質(zhì)量百分比為0.1～0.2％的能產(chǎn)生銀離子的化合物、質(zhì)量百分比為0.1～0.3％能產(chǎn)生硫酸根離子的化合物和過氧化物。本發(fā)明的拋光液在保證非常高的鎢的拋光速度的同時，通過優(yōu)化研磨劑的比表面積的范圍，銀離子的質(zhì)量百分比和硫酸根離子的質(zhì)量百分比，從而顯著降低拋光液在硅片表面的殘留顆粒和降低拋光液的生產(chǎn)成本。