本實用新型涉及一種等離子體增強型化學(xué)氣相淀積設(shè)備薄膜均勻性改善裝置。根據(jù)量測儀器獲得的圓片介質(zhì)厚度分布圖,結(jié)合八寸設(shè)備生長六寸、八寸圓片的實際情況,通過在八寸分氣盤內(nèi)側(cè)凹槽內(nèi)增加擋氣圓環(huán),腔體上蓋出氣口零件中心開孔的方式,盡量使氣體收斂于六寸圓片區(qū)域,減小圓片邊緣的氣體流量,從而使長膜厚度均勻性改善。本實用新型避免了因長膜均勻性不合格導(dǎo)致的圓片報廢風(fēng)險,該方法可為改善等離子體增強型化學(xué)氣相淀積設(shè)備薄膜均勻性提供一種解決方案。
聲明:
“等離子體增強型化學(xué)氣相淀積設(shè)備薄膜均勻性改善裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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