化學(xué)機械研磨設(shè)備包括平臺以支撐研磨墊，及原位(in?situ)聲學(xué)發(fā)射監(jiān)控系統(tǒng)，該原位聲學(xué)發(fā)射監(jiān)控系統(tǒng)包括由該平臺支撐的聲學(xué)發(fā)射傳感器、經(jīng)配置以延伸穿過研磨墊的至少一部分的波導(dǎo)，及用以接收來自聲學(xué)發(fā)射傳感器的信號的處理器。原位聲學(xué)發(fā)射監(jiān)控系統(tǒng)經(jīng)配置以檢測由基板的變形所造成且通過波導(dǎo)傳送的聲學(xué)事件，且處理器經(jīng)配置以基于該信號來判定研磨終點。