本發(fā)明公開了一種氣體組分自動(dòng)控制的等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備,包括真空腔室,所述真空腔室上開設(shè)有快接接口,所述快接接口通過取樣氣路與用于檢測(cè)真空腔室內(nèi)氣體組分的氣相檢測(cè)系統(tǒng)連接,氣相檢測(cè)系統(tǒng)的輸出端與控制及反饋系統(tǒng)連接并將檢測(cè)結(jié)果輸出至控制及反饋系統(tǒng),控制及反饋系統(tǒng)的輸出端與質(zhì)量流量計(jì)連接,控制及反饋系統(tǒng)輸出控制信號(hào)來控制質(zhì)量流量計(jì)給氣量的大小。通過在等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備中添加氣相檢測(cè)系統(tǒng)和控制及反饋系統(tǒng)來實(shí)時(shí)檢測(cè)并調(diào)控真空腔室內(nèi)的氣體組分,以達(dá)到提高成膜質(zhì)量和提高成膜速率的效果。
聲明:
“氣體組分自動(dòng)控制的等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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