本發(fā)明提供制造半導(dǎo)體器件的化學(xué)汽相淀積 (CVD)裝置, 包括 : 處理室; 為處理室供應(yīng)處理氣體的處理氣體供 應(yīng)管線; 廢氣排放管, 用于在處理后將處理室內(nèi)的廢氣排放出去 清洗氣體供應(yīng)管線, 用于向處理室內(nèi)供應(yīng)ClF3氣體; 取樣歧管, 用于利用壓力差從處理室內(nèi)提取氣體樣品; 及QGA－QMS, 用于分析取樣氣樣, 并利用上述RGA－QMS通過分析, 根據(jù)處理室內(nèi)的氣體流量、壓力和溫度優(yōu)化結(jié)束點。