提出了一種化學(xué)機械研磨去除率計算的方法,包括:確定研磨去除率計算公式MRR=kPV;分析影響研磨去除率的因素,得到影響研磨去除率所述因素的函數(shù)方程;將所述因素的函數(shù)方程代入MRR=kPV中,得到研磨去除率的具體計算公式,根據(jù)所述具體計算公式計算研磨去除率MRR。此外,還提出了一種化學(xué)機械研磨去除率計算的設(shè)備。本發(fā)明提出的上述方案,通過分析影響研磨去除率的因素,綜合考慮晶圓、粒子、研磨墊及研磨液四體相互作用關(guān)系,深刻揭示多體間作用規(guī)律,能更加客觀真實地描述化學(xué)機械研磨的工藝實際,對CMP的機理分析,版圖設(shè)計,以及大生產(chǎn)線工藝研發(fā)具有積極指導(dǎo)作用。
聲明:
“化學(xué)機械研磨去除率計算的方法及設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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