本發(fā)明公開(kāi)一種三維
石墨烯?POSS納米
復(fù)合材料改性聚酰亞胺的制備方法,通過(guò)采用熱化學(xué)氣相沉積技術(shù)、高溫?zé)崽幚砑夹g(shù)制備具有三維結(jié)構(gòu)的納米尺度的三維石墨烯?POSS,解決石墨烯、氧化石墨烯等二維材料易團(tuán)聚的問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)大比例的三維石墨烯?POSS含量用于改性聚酰亞胺;通過(guò)三維石墨烯?POSS納米改性技術(shù),解決現(xiàn)有聚酰亞胺抗原子氧性能較差、空間環(huán)境適應(yīng)性不足的問(wèn)題,本發(fā)明的聚酰亞胺表面無(wú)缺陷及孔洞,在具備良好的力學(xué)性能、電學(xué)性能的基礎(chǔ)上,具備優(yōu)異的耐原子氧性能,原子氧侵蝕率優(yōu)于0.8×10?24cm3/atom。
聲明:
“三維石墨烯-POSS納米復(fù)合材料改性的聚酰亞胺及其制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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