本發(fā)明涉及一種銀納米立方塊頂角選擇性沉積氧化銅的
復(fù)合材料的制備方法,屬于金屬?氧化物納米復(fù)合材料制備領(lǐng)域。本發(fā)明所述方法以銀納米立方塊為基底,然后在其棱角處沉積CuO,通過使用光沉積法來制備Ag/CuO復(fù)合材料。其主要制備步驟如下:步驟一、采用多元醇改性工藝制備銀納米立方塊;步驟二、稱取適量的銀納米立方塊分散于去離子水中;步驟三、加入Cu前驅(qū)體溶液、空穴捕獲劑,超聲、攪拌混合均勻,使用對應(yīng)的偶極振動峰波長處的帶通濾光片在惰性氣體氛圍下進(jìn)行光還原沉積CuO。本發(fā)明所述方法具有原料易獲得,工藝簡單、設(shè)備要求低、制備時(shí)間短,準(zhǔn)確控制Cu/Ag比等優(yōu)勢。
聲明:
“銀納米立方塊頂角選擇性沉積氧化銅的方法及其復(fù)合材料” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)