一種帶有損耗補償功能的光柵層間耦合器及其制備方法,屬于層間耦合器技術(shù)領(lǐng)域。由硅襯底、第一SiO2埋氧層、第一金屬反射鏡、第二SiO2埋氧層、硅層、SiO2隔離層、第一聚合物包層、鉺鐿共摻聚合物層、第二聚合物包層和第二金屬反射鏡構(gòu)成;硅層由第一硅波導(dǎo)、硅光柵、第二硅波導(dǎo)組成;鉺鐿共摻聚合物層由鉺鐿共摻聚合物波導(dǎo)、鉺鐿共摻聚合物光柵和鉺鐿共摻聚合物光波導(dǎo)放大器組成;硅光柵及鉺鐿共摻聚合物光柵的單個光柵單元類似“臺階”結(jié)構(gòu)。該器件分別將硅基光柵耦合器和聚合物光柵耦合器分別置于兩層,實現(xiàn)了硅基、聚合物光子回路的三維混合集成,實現(xiàn)了結(jié)構(gòu)緊湊、高效的光柵層間耦合,在三維光子集成領(lǐng)域具有很強的應(yīng)用潛力。
聲明:
“帶有損耗補償功能的光柵層間耦合器及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)