權(quán)利要求書(shū)： 1.一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括殼體、分散裝置、提升裝置，所述殼體底部設(shè)置支撐架，所述殼體頂部一側(cè)設(shè)有進(jìn)料斗，殼體內(nèi)部的上下兩端分別設(shè)有研磨腔和輸送腔，所述研磨腔與輸送腔之間設(shè)有研磨隔板，所述研磨隔板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)漏孔，所述研磨腔的上端設(shè)有圓環(huán)狀的導(dǎo)料凸臺(tái)，所述導(dǎo)料凸臺(tái)上表面呈向下傾斜設(shè)置，研磨腔的內(nèi)壁上設(shè)有研磨內(nèi)襯，所述殼體底部?jī)蓚?cè)分別連接設(shè)有出料管和導(dǎo)料管，所述出料管和導(dǎo)料管與所述輸送腔連通，且出料管和導(dǎo)料管均呈傾斜向下設(shè)置，所述出料管和導(dǎo)料管靠近殼體的一端中分別設(shè)置有第一電磁閥和第二電磁閥；所述分散裝置包括第一電機(jī)、第二電機(jī)、上轉(zhuǎn)軸、下轉(zhuǎn)軸，所述第一電機(jī)和第二電機(jī)分別固定設(shè)置在殼體的頂部和底部，所述第一電機(jī)的輸出軸貫穿殼體頂部并連接所述上轉(zhuǎn)軸，所述上轉(zhuǎn)軸的底端連接有研磨籃，所述研磨籃呈中間寬、兩端窄的結(jié)構(gòu)，研磨籃的頂部、底部以及側(cè)壁上均開(kāi)設(shè)有若干個(gè)的通孔，且所述研磨籃的側(cè)壁和底部分別與研磨腔的側(cè)壁和研磨隔板上表面貼合設(shè)置，所述第二電機(jī)的輸出軸貫穿殼體底部并連接所述下轉(zhuǎn)軸，所述下轉(zhuǎn)軸垂直貫穿所述研磨隔板和研磨籃的底部，且下轉(zhuǎn)軸上依次設(shè)有推料槳葉、下磨盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)，所述推料槳葉位于所述輸送腔中，所述下磨盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)均位于研磨籃的內(nèi)腔中，所述下磨盤(pán)與研磨籃的下端內(nèi)壁貼合設(shè)置，所述上磨盤(pán)與研磨籃的上端內(nèi)壁貼合設(shè)置，所述剪切槳葉位于上磨盤(pán)與下磨盤(pán)之間；所述提升裝置包括提升管道、轉(zhuǎn)動(dòng)軸、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、輸料管，所述提升管道設(shè)置在殼體的一側(cè)，提升管道的下端與所述導(dǎo)料管的管下端連接，提升管道的底部設(shè)置有安裝支架，所述安裝支架中設(shè)置所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸貫穿提升管道的底部并連接所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸設(shè)置在提升管道中，且轉(zhuǎn)動(dòng)軸上設(shè)有螺旋葉片，所述輸料管為傾斜設(shè)置，且輸料管的上端與提升管道的上端連接，輸料管的下端與所述殼體的頂部一側(cè)連接。

2.如權(quán)利要求1所述的一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述研磨隔板中心和研磨籃的底部中心均設(shè)有連接軸承，所述連接軸承的內(nèi)圈與所述下轉(zhuǎn)軸進(jìn)行連接，實(shí)現(xiàn)下轉(zhuǎn)軸與研磨籃和研磨隔板的轉(zhuǎn)動(dòng)連接。

3.如權(quán)利要求1所述的一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述研磨隔板中心和研磨籃的底部中心均設(shè)有連接軸承，所述連接軸承的內(nèi)圈與所述下轉(zhuǎn)軸進(jìn)行連接，實(shí)現(xiàn)下轉(zhuǎn)軸與研磨籃和研磨隔板的轉(zhuǎn)動(dòng)連接。

4.如權(quán)利要求1所述的一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述下磨盤(pán)底部設(shè)有若干研磨凸點(diǎn)，下磨盤(pán)的下端側(cè)壁上沿中心排列設(shè)有多個(gè)凸條，所述凸條上設(shè)有階梯狀的凸塊，下磨盤(pán)的上端側(cè)壁上自下而上排列設(shè)有多個(gè)圓環(huán)狀的研磨凸塊，且多個(gè)所述研磨凸塊呈階梯狀排列設(shè)置。

5.如權(quán)利要求1所述的一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述上磨盤(pán)和下磨盤(pán)尺寸形狀一致，且上磨盤(pán)和下磨盤(pán)呈相對(duì)設(shè)置在下轉(zhuǎn)軸上。

6.如權(quán)利要求1所述的一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述殼體側(cè)壁上設(shè)有PLC控制器，所述PLC控制器通過(guò)導(dǎo)線分別與第一電機(jī)、第二電機(jī)、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第一電磁閥和第二電磁閥電連接。

7.如權(quán)利要求6所述的一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)的分散方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1、工作前準(zhǔn)備：檢查設(shè)備各個(gè)部件是否安全，殼體內(nèi)的研磨腔和輸送腔以及提升管道中是否有雜物殘留，試運(yùn)行設(shè)備，檢查各個(gè)部件運(yùn)行是否穩(wěn)定、可靠；

S2、加料：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，關(guān)閉第一電磁閥和第二電磁閥，隨后將碳納米管漿料通過(guò)進(jìn)料斗緩緩倒入研磨腔中，直至漿料的水平面達(dá)到導(dǎo)料凸臺(tái)位置，完成加料；

S3、研磨分散：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，啟動(dòng)第一電機(jī)和第二電機(jī)，使得第一電機(jī)通過(guò)上轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)研磨籃進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，使研磨籃外壁與研磨腔內(nèi)壁上的研磨內(nèi)襯配合對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散，第二電機(jī)通過(guò)下轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)推料槳葉、下磨盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，使上磨盤(pán)和下磨盤(pán)配合研磨籃內(nèi)壁對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散，剪切槳葉對(duì)研磨籃內(nèi)腔中的漿料進(jìn)行剪切；

S4、循環(huán)分散：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，打開(kāi)第二電磁閥并啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī)，使得輸送腔中的漿料通過(guò)導(dǎo)料管流入到提升管道中，并且驅(qū)動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)軸上的螺旋葉片將提升管道中的漿料提升至輸料管處，并通過(guò)輸料管輸送至殼體的研磨腔中；設(shè)備在對(duì)漿料進(jìn)行分散30～300分鐘后，完成循環(huán)研磨；

S5、卸料：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，關(guān)閉第二電磁閥，使得驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)配合螺旋葉片將提升管道中剩余的漿料進(jìn)行輸送，5分鐘后，通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器關(guān)閉驅(qū)動(dòng)電機(jī)，并打開(kāi)第一電磁閥，最終將分散好的碳納米管漿料從出料管排出即可。

說(shuō)明書(shū)： 一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)及分散方法技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明屬于漿料分散技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)及分散方法。

背景技術(shù)[0002] 碳納米管，又名巴基管，是一種具有特殊結(jié)構(gòu)(徑向尺寸為納米量級(jí)，軸向尺寸為微米量級(jí)，管子兩端基本上都封口)的一維量子材料。碳納米管主要由呈六邊形排列的碳原

子構(gòu)成數(shù)層到數(shù)十層的同軸圓管。碳納米管因其具有獨(dú)特的納米結(jié)構(gòu)和優(yōu)良的機(jī)械、電學(xué)、

磁學(xué)和光學(xué)性能而受到廣泛關(guān)注。由于碳納米管漿料具有一定的粘性，因此普通的攪拌分

散設(shè)備在進(jìn)行分散時(shí)，會(huì)出現(xiàn)沉積而導(dǎo)致分散不均勻以及大量團(tuán)聚的現(xiàn)象，從而不適用于

碳納米管漿料的分散，而采用一般的磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)進(jìn)行分散，雖然能夠有效解決漿料中

的團(tuán)聚現(xiàn)象，但其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，分散效率低，需要更長(zhǎng)的工作時(shí)間，從而會(huì)影響后續(xù)的生產(chǎn)。

發(fā)明內(nèi)容[0003] 本發(fā)明針對(duì)上述問(wèn)題，公開(kāi)了一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)及分散方法。

[0004] 具體的技術(shù)方案如下：[0005] 一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，包括殼體、分散裝置、提升裝置，所述殼體底部設(shè)置支撐架，所述殼體頂部一側(cè)設(shè)有進(jìn)料斗，殼體內(nèi)部的上下兩端分別設(shè)有

研磨腔和輸送腔，所述研磨腔與輸送腔之間設(shè)有研磨隔板，所述研磨隔板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)漏

孔，使得研磨腔與輸送腔之間通過(guò)所述漏孔進(jìn)行連通，所述研磨腔的上端設(shè)有圓環(huán)狀的導(dǎo)

料凸臺(tái)，所述導(dǎo)料凸臺(tái)上表面呈向下傾斜設(shè)置，研磨腔的內(nèi)壁上設(shè)有研磨內(nèi)襯，所述殼體底

部?jī)蓚?cè)分別連接設(shè)有出料管和導(dǎo)料管，所述出料管和導(dǎo)料管與所述輸送腔連通，且出料管

和導(dǎo)料管均呈傾斜向下設(shè)置，所述出料管和導(dǎo)料管靠近殼體的一端中分別設(shè)置有第一電磁

閥和第二電磁閥；所述分散裝置包括第一電機(jī)、第二電機(jī)、上轉(zhuǎn)軸、下轉(zhuǎn)軸，所述第一電機(jī)和

第二電機(jī)分別固定設(shè)置在殼體的頂部和底部，所述第一電機(jī)的輸出軸貫穿殼體頂部并連接

所述上轉(zhuǎn)軸，所述上轉(zhuǎn)軸的底端垂直連接有研磨籃，所述研磨籃為中空結(jié)構(gòu)，且研磨籃呈中

間寬、兩端窄的結(jié)構(gòu)，研磨籃的頂部、底部以及側(cè)壁上均開(kāi)設(shè)有若干個(gè)的通孔，且所述研磨

籃的側(cè)壁和底部分別與研磨腔的側(cè)壁和研磨隔板上表面貼合設(shè)置，所述第二電機(jī)的輸出軸

貫穿殼體底部并連接所述下轉(zhuǎn)軸，所述下轉(zhuǎn)軸垂直貫穿所述研磨隔板和研磨籃的底部，且

下轉(zhuǎn)軸上依次設(shè)有推料槳葉、下磨盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)，所述推料槳葉位于所述輸送腔中，

且推料槳葉數(shù)量多個(gè)并均勻分布在下轉(zhuǎn)軸上，推料槳葉呈板狀結(jié)構(gòu)，且推料槳葉的末端貼

合輸送腔的側(cè)壁設(shè)置，所述下磨盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)均位于研磨籃的內(nèi)腔中，所述下磨盤(pán)

與研磨籃的下端內(nèi)壁貼合設(shè)置，所述上磨盤(pán)與研磨籃的上端內(nèi)壁貼合設(shè)置，所述剪切槳葉

位于上磨盤(pán)與下磨盤(pán)之間；所述提升裝置包括提升管道、轉(zhuǎn)動(dòng)軸、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、輸料管，所述提

升管道設(shè)置在殼體的一側(cè)，提升管道的下端與所述導(dǎo)料管的管下端連接，提升管道的底部

設(shè)置有安裝支架，所述安裝支架中設(shè)置所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸貫穿提升管

道的底部并連接所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸縱向設(shè)置在提升管道中，且轉(zhuǎn)動(dòng)軸上設(shè)置有螺旋

葉片，所述輸料管為傾斜設(shè)置，且輸料管的上端與提升管道的上端連接，輸料管的下端與所

述殼體的頂部一側(cè)連接，并與所述研磨腔連通。

[0006] 進(jìn)一步的，所述研磨隔板中心和研磨籃的底部中心均設(shè)有連接軸承，所述連接軸承的內(nèi)圈與所述下轉(zhuǎn)軸進(jìn)行連接，實(shí)現(xiàn)下轉(zhuǎn)軸與研磨籃和研磨隔板的轉(zhuǎn)動(dòng)連接。

[0007] 進(jìn)一步的，所述殼體側(cè)壁上設(shè)有固定支架，所述固定支架與所述提升管道的中部固定連接。

[0008] 進(jìn)一步的，所述下磨盤(pán)底部設(shè)有若干研磨凸點(diǎn)，下磨盤(pán)的下端側(cè)壁上沿中心排列設(shè)有多個(gè)凸條，所述凸條上設(shè)有階梯狀的凸塊，下磨盤(pán)的上端側(cè)壁上自下而上排列設(shè)有多

個(gè)圓環(huán)狀的研磨凸塊，且多個(gè)所述研磨凸塊呈階梯狀排列設(shè)置。

[0009] 進(jìn)一步的，所述上磨盤(pán)和下磨盤(pán)尺寸形狀一致，且上磨盤(pán)和下磨盤(pán)呈相對(duì)設(shè)置在下轉(zhuǎn)軸上。

[0010] 進(jìn)一步的，所述殼體側(cè)壁上設(shè)有PLC控制器，所述PLC控制器通過(guò)導(dǎo)線分別與第一電機(jī)、第二電機(jī)、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第一電磁閥和第二電磁閥電連接。

[0011] 一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散方法，包括如下步驟：[0012] S1、工作前準(zhǔn)備：檢查設(shè)備各個(gè)部件是否安全，殼體內(nèi)的研磨腔和輸送腔以及提升管道中是否有雜物殘留，試運(yùn)行設(shè)備，檢查各個(gè)部件運(yùn)行是否穩(wěn)定、可靠；

[0013] S2、加料：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，關(guān)閉第一電磁閥和第二電磁閥，隨后將碳納米管漿料通過(guò)進(jìn)料斗緩緩倒入研磨腔中，直至漿料的水平面達(dá)到導(dǎo)料凸臺(tái)位置，完成加料；

[0014] S3、研磨分散：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，啟動(dòng)第一電機(jī)和第二電機(jī)，使得第一電機(jī)通過(guò)上轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)研磨籃進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，使研磨籃外壁與研磨腔內(nèi)壁上的研磨內(nèi)襯配合對(duì)漿料進(jìn)行研

磨分散，第二電機(jī)通過(guò)下轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)推料槳葉、下磨盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，使上磨盤(pán)和下

磨盤(pán)配合研磨籃內(nèi)壁對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散，剪切槳葉對(duì)研磨籃內(nèi)腔中的漿料進(jìn)行剪切；

[0015] S4、循環(huán)分散：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，打開(kāi)第二電磁閥并啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī)，使得輸送腔中的漿料通過(guò)導(dǎo)料管流入到提升管道中，并且驅(qū)動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)軸上的螺旋

葉片將提升管道中的漿料提升至輸料管處，并通過(guò)輸料管輸送至殼體的研磨腔中；設(shè)備在

對(duì)漿料進(jìn)行分散30～300分鐘后，完成循環(huán)研磨；

[0016] S5、卸料：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，關(guān)閉第二電磁閥，使得驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)配合螺旋葉片將提升管道中剩余的漿料進(jìn)行輸送，5分鐘后，通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器關(guān)閉驅(qū)動(dòng)電機(jī)，并打

開(kāi)第一電磁閥，最終將分散好的碳納米管漿料從出料管排出即可。

[0017] 本發(fā)明的有益效果為：[0018] (1)本發(fā)明設(shè)計(jì)合理、結(jié)構(gòu)緊湊，通過(guò)第一電機(jī)帶動(dòng)研磨籃轉(zhuǎn)動(dòng)，并且研磨籃與研磨腔上研磨內(nèi)襯相配合對(duì)碳納米管漿料進(jìn)行研磨分散，同時(shí)漿料通過(guò)研磨籃上的通孔流入

到研磨籃的內(nèi)腔中，并通過(guò)上磨盤(pán)和下磨盤(pán)與研磨籃的內(nèi)壁配合進(jìn)行研磨分散，能夠充分

對(duì)漿料進(jìn)行分散作用，有效對(duì)團(tuán)聚的大分子顆粒進(jìn)行分散，從而提高分散質(zhì)量。

[0019] (2)本發(fā)明中經(jīng)過(guò)研磨分散后的漿料通過(guò)研磨隔板上的漏孔流入輸送腔，并且推料槳葉能夠?qū){料推入導(dǎo)料管中，再通過(guò)提升管道中的轉(zhuǎn)動(dòng)軸配合螺旋葉片將漿料提升至

輸料管，并通過(guò)輸料管重新從殼體頂部流入到研磨腔中，從而進(jìn)行重復(fù)分散，有效防止?jié){料

因沉積而導(dǎo)致分散不均勻的現(xiàn)象，并且漿料經(jīng)過(guò)二次研磨分散后，能夠進(jìn)一步的提高漿料

分散的均勻性，從而提升了碳納米管漿料的質(zhì)量。

附圖說(shuō)明[0020] 圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。[0021] 圖2為本發(fā)明中下磨盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖。[0022] 附圖標(biāo)記說(shuō)明[0023] 殼體1、支撐架11、進(jìn)料斗12、固定支架13、研磨腔14、導(dǎo)料凸臺(tái)141、輸送腔15、研磨隔板16、漏孔161、連接軸承162、研磨內(nèi)襯17、出料管18、第一電磁閥181、導(dǎo)料管19、第二電

磁閥191、分散裝置2、第一電機(jī)21、第二電機(jī)22、上轉(zhuǎn)軸23、研磨籃231、通孔2311、下轉(zhuǎn)軸24、

下磨盤(pán)241、研磨凸點(diǎn)2411、凸條2412、凸塊2413、研磨凸塊2414、剪切槳葉242、上磨盤(pán)243、

推料槳葉244、提升裝置3、提升管道31、安裝支架311、轉(zhuǎn)動(dòng)軸32、螺旋槳葉33、驅(qū)動(dòng)電機(jī)34、

輸料管35、PLC控制器4。

具體實(shí)施方式[0024] 為使本發(fā)明的技術(shù)方案更加清晰明確，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步描述，任何對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案的技術(shù)特征進(jìn)行等價(jià)替換和常規(guī)推理得出的方案均落入本發(fā)明保

護(hù)范圍。本發(fā)明中所提及的固定連接，固定設(shè)置均為機(jī)械領(lǐng)域中的通用連接方式，焊接、螺

栓螺母連接以及螺釘連接均可。

[0025] 在本發(fā)明創(chuàng)造的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或

位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明創(chuàng)造和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元

件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

[0026] 一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散結(jié)構(gòu)，包括殼體、分散裝置、提升裝置，所述殼體底部設(shè)置支撐架，所述殼體頂部一側(cè)設(shè)有進(jìn)料斗，所述殼體側(cè)壁上設(shè)有固定支架，

殼體內(nèi)部的上下兩端分別設(shè)有研磨腔和輸送腔，所述研磨腔與輸送腔之間設(shè)有研磨隔板，

所述研磨隔板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)漏孔，使得研磨腔與輸送腔之間通過(guò)所述漏孔進(jìn)行連通，所述

研磨腔的上端設(shè)有圓環(huán)狀的導(dǎo)料凸臺(tái)，所述導(dǎo)料凸臺(tái)上表面呈向下傾斜設(shè)置，研磨腔的內(nèi)

壁上設(shè)有研磨內(nèi)襯，所述殼體底部?jī)蓚?cè)分別連接設(shè)有出料管和導(dǎo)料管，所述出料管和導(dǎo)料

管與所述輸送腔連通，且出料管和導(dǎo)料管均呈傾斜向下設(shè)置，所述出料管和導(dǎo)料管靠近殼

體的一端中分別設(shè)置有第一電磁閥和第二電磁閥；

[0027] 所述分散裝置包括第一電機(jī)、第二電機(jī)、上轉(zhuǎn)軸、下轉(zhuǎn)軸，所述第一電機(jī)和第二電機(jī)分別固定設(shè)置在殼體的頂部和底部，所述第一電機(jī)的輸出軸貫穿殼體頂部并連接所述上

轉(zhuǎn)軸，所述上轉(zhuǎn)軸的底端垂直連接有研磨籃，所述研磨籃為中空結(jié)構(gòu)，且研磨籃呈中間寬、

兩端窄的結(jié)構(gòu)，研磨籃的頂部、底部以及側(cè)壁上均開(kāi)設(shè)有若干個(gè)的通孔，且所述研磨籃的側(cè)

壁和底部分別與研磨腔的側(cè)壁和研磨隔板上表面貼合設(shè)置，所述研磨隔板中心和研磨籃的

底部中心均設(shè)有連接軸承，所述第二電機(jī)的輸出軸貫穿殼體底部并連接所述下轉(zhuǎn)軸，所述

下轉(zhuǎn)軸垂直貫穿所述研磨隔板和研磨籃的底部，且所述連接軸承的內(nèi)圈與所述下轉(zhuǎn)軸進(jìn)行

連接，實(shí)現(xiàn)下轉(zhuǎn)軸與研磨籃和研磨隔板的轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述下轉(zhuǎn)軸上依次設(shè)有推料槳葉、下磨

盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)，所述推料槳葉位于所述輸送腔中，且推料槳葉數(shù)量多個(gè)并均勻分布

在下轉(zhuǎn)軸上，推料槳葉呈板狀結(jié)構(gòu)，且推料槳葉的末端貼合輸送腔的側(cè)壁設(shè)置，所述下磨

盤(pán)、剪切槳葉、上磨盤(pán)均位于研磨籃的內(nèi)腔中，所述上磨盤(pán)和下磨盤(pán)尺寸形狀一致，且上磨

盤(pán)和下磨盤(pán)之間呈相對(duì)設(shè)置，下磨盤(pán)與研磨籃的下端內(nèi)壁貼合設(shè)置，所述下磨盤(pán)底部設(shè)有

若干研磨凸點(diǎn)，下磨盤(pán)的下端側(cè)壁上沿中心排列設(shè)有多個(gè)凸條，所述凸條上設(shè)有階梯狀的

凸塊，下磨盤(pán)的上端側(cè)壁上自下而上排列設(shè)有多個(gè)圓環(huán)狀的研磨凸塊，且多個(gè)所述研磨凸

塊呈階梯狀排列設(shè)置；所述上磨盤(pán)與研磨籃的上端內(nèi)壁貼合設(shè)置，所述剪切槳葉位于上磨

盤(pán)與下磨盤(pán)之間。

[0028] 所述提升裝置包括提升管道、轉(zhuǎn)動(dòng)軸、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、輸料管，所述提升管道設(shè)置在殼體的一側(cè)，且提升管道的中部與所述固定支架固定連接，提升管道的下端與所述導(dǎo)料管的

管下端連接，提升管道的底部設(shè)置有安裝支架，所述安裝支架中設(shè)置所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)

動(dòng)電機(jī)的輸出軸貫穿提升管道的底部并連接所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸縱向設(shè)置在提升管道

中，且轉(zhuǎn)動(dòng)軸上設(shè)置有螺旋葉片，所述輸料管為傾斜設(shè)置，且輸料管的上端與提升管道的上

端連接，輸料管的下端與所述殼體的頂部一側(cè)連接，并與所述研磨腔連通。所述殼體側(cè)壁上

設(shè)有PLC控制器，所述PLC控制器通過(guò)導(dǎo)線分別與第一電機(jī)、第二電機(jī)、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第一電磁

閥和第二電磁閥電連接。

[0029] 一種碳納米管漿料生產(chǎn)用高效磨盤(pán)式分散方法，包括如下步驟：[0030] S1、工作前準(zhǔn)備：檢查設(shè)備各個(gè)部件是否安全，殼體內(nèi)的研磨腔和輸送腔以及提升管道中是否有雜物殘留，試運(yùn)行設(shè)備，檢查各個(gè)部件運(yùn)行是否穩(wěn)定、可靠；

[0031] S2、加料：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，關(guān)閉第一電磁閥和第二電磁閥，隨后將碳納米管漿料通過(guò)進(jìn)料斗緩緩倒入研磨腔中，直至漿料的水平面達(dá)到導(dǎo)料凸臺(tái)位置，完成加料；

[0032] S3、研磨分散：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，啟動(dòng)第一電機(jī)和第二電機(jī)，使得第一電機(jī)通過(guò)上轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)研磨籃進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，并且第一電機(jī)的轉(zhuǎn)速為10?150rpm，使得研磨籃外壁與研磨腔

內(nèi)壁上的研磨內(nèi)襯配合對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散，第二電機(jī)通過(guò)下轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)推料槳葉、下磨盤(pán)、

剪切槳葉、上磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，并且第二電機(jī)的轉(zhuǎn)速為10?300rpm，使得上磨盤(pán)和下磨盤(pán)配合研磨

籃內(nèi)壁對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散，剪切槳葉對(duì)研磨籃內(nèi)腔中的漿料進(jìn)行剪切；

[0033] S4、循環(huán)分散：在研磨分散進(jìn)行5分鐘后，通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，打開(kāi)第二電磁閥并啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)電機(jī)，并且第二電機(jī)的轉(zhuǎn)速為100?300rpm，使得輸送腔中的漿料通過(guò)導(dǎo)料管流入

到提升管道中，并且驅(qū)動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)軸上的螺旋葉片將提升管道中的漿料

提升至輸料管處，并通過(guò)輸料管輸送至殼體的研磨腔中；設(shè)備在對(duì)漿料進(jìn)行分散30～300分

鐘后，完成循環(huán)研磨；

[0034] S5、卸料：通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器，關(guān)閉第二電磁閥，使得驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)配合螺旋葉片將提升管道中剩余的漿料進(jìn)行輸送，5分鐘后，通過(guò)調(diào)節(jié)PLC控制器關(guān)閉驅(qū)動(dòng)電機(jī)，并打

開(kāi)第一電磁閥，最終將分散好的碳納米管漿料從出料管排出即可。

[0035] 以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，

都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書(shū)的保護(hù)范圍

為準(zhǔn)。