本發(fā)明提供的一種聚吡咯熒光復合膜及其制備方法,由以下組分制成:N?乙烯基吡咯、氧化劑、無機納米氧化物、分散劑、聚乙烯醇、去離子水,其比例為0.1mol:(0.05~0.1)mol:(0.3~0.8)g:(6~12)g:(30~90)g:500g。本發(fā)明選取具有熒光性的可溶性N?乙烯基吡咯,通過其與無機納米氧化物復合,使其成為一種新型的聚吡咯熒光材料,再輔以聚乙烯醇,進一步提高了成膜性和可加工性。與傳統(tǒng)聚吡咯
功能材料相比,不僅克服了聚吡咯難溶融和難以加工成型的缺點,而且成為具有較好熒光性的新型功能材料。該聚吡咯熒光復合膜在熒光傳感器、熒光探針、熒光分了溫度計、光電材料等領(lǐng)域應用前景廣泛。
聲明:
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