本發(fā)明公開(kāi)了一種負(fù)載納米薄膜改善燒結(jié)NdFeB晶界擴(kuò)散的方法,包括:1)制備燒結(jié)釹鐵硼的黑片;2)采用磁控濺射方法對(duì)燒結(jié)釹鐵硼黑片進(jìn)行負(fù)載TiO
2納米晶體薄膜的制備:采用陶瓷TiO
2靶,本底真空度低于3.5×10
?4Pa時(shí)開(kāi)始濺射,氬氣作為濺射氣體,濺射過(guò)程中進(jìn)行冷卻;3)將負(fù)載TiO
2納米晶體薄膜的燒結(jié)釹鐵硼黑片浸入含有鋱和/或鏑的懸濁液中采用涂覆法進(jìn)行晶界擴(kuò)散;4)晶界擴(kuò)散完成后,進(jìn)行熱處理,熱處理結(jié)束后,冷卻到室溫完成滲透過(guò)程。本發(fā)明將具有吸附特性的
納米材料與涂覆工藝耦合起來(lái),增強(qiáng)了涂層的結(jié)合力,改善了涂層易脫落,涂層不均勻等缺點(diǎn)。
聲明:
“負(fù)載納米薄膜改善燒結(jié)NdFeB晶界擴(kuò)散的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)