本實用新型涉及一種兩段蒸餾的真空爐,屬于真空冶金設備技術領域。該真空爐包括爐體、坩堝Ⅰ、坩堝Ⅱ、溫控加熱構件Ⅰ、溫控加熱構件Ⅱ、冷凝室、導氣管、坩堝支架、支撐板Ⅰ、支撐板Ⅱ,熱電偶Ⅰ、熱電偶Ⅱ、熱電偶Ⅲ,坩堝支架固定設置在爐體底部,坩堝Ⅰ設置在坩堝支架上,支撐板Ⅰ固定設置在爐體內(nèi)壁,支撐板Ⅱ固定設置在爐體內(nèi)壁,冷凝室固定設置在支撐板Ⅰ上端、坩堝Ⅱ設置在支撐板Ⅰ下端且固定設置在支撐板Ⅱ上端,冷凝室與坩堝Ⅱ連通,坩堝Ⅰ和坩堝Ⅱ通過導氣管連通,溫控加熱構件Ⅰ與坩堝Ⅰ連接,溫控加熱構件Ⅱ與坩堝Ⅱ連接,熱電偶Ⅰ設置在坩堝Ⅰ內(nèi),熱電偶Ⅱ設置在坩堝Ⅱ內(nèi)、熱電偶Ⅲ設置在導氣管內(nèi)。
聲明:
“兩段蒸餾的真空爐” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)