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冶金級單晶硅太陽能電池雙層減反膜鍍膜工藝

980 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-18 14:36:45

本發(fā)明涉及冶金級單晶硅太陽能電池片制造中的鍍膜工藝，尤其是一種冶金級單晶硅太陽能電池雙層減反膜鍍膜工藝。其特點是，包括如下步驟：鍍膜機反應腔體內(nèi)抽真空；通入氨氣和硅烷，時間15s～20s，控制氨氣流量6300sccm～6400sccm，硅烷流量1400sccm～1500sccm；第一次鍍膜；反應腔體抽真空，再通入氨氣和硅烷，時間為15s～20s，控制氨氣流量7100sccm～7200sccm，硅烷流量600sccm～700sccm；第二次鍍膜；將反應腔體抽真空，然后沖入N2直到常壓即可完成。經(jīng)過試用證明，本發(fā)明工藝結合了氮化硅薄膜各方面的優(yōu)勢，達到了優(yōu)勢最大化。

聲明：

“冶金級單晶硅太陽能電池雙層減反膜鍍膜工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)