本實(shí)用新型屬于用冶金技術(shù)提純的技術(shù)領(lǐng)域一種電子束熔煉用石墨和涂層襯底的水冷裝置,包括水冷銅坩堝,水冷銅坩堝兩側(cè)分別安裝有進(jìn)水口和出水口,水冷銅坩堝內(nèi)壁放置石墨襯底,石墨襯底外沿置于水冷銅坩堝外沿之上,石墨襯底的內(nèi)壁上噴涂有Si3N4涂層。本實(shí)用新型設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,功能實(shí)用,在原有水冷銅坩堝的基礎(chǔ)上設(shè)置一個高純石墨襯底,并在高純石墨襯底上噴涂Si3N4涂層,從而將金屬熔液與水冷銅坩堝隔離開來,減少冷卻水帶走的熱量,能量利用率提高,成本降低,提高雜質(zhì)的去除效率,Si3N4涂層將金屬熔液與石墨襯底隔離開,減少石墨中雜質(zhì)對金屬的污染,有效提高其純度。
聲明:
“電子束熔煉用石墨和涂層襯底的水冷裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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