權利要求書： 1.一種電解銅箔溶銅加工設備，包括溶銅箱(1)、交錯驅動機構(2)、晃動板(3)、噴氣機構(4)和循環(huán)加熱機構(5)，其特征在于：所述溶銅箱(1)為上端開口的箱型結構，且溶銅箱(1)后側靠近上端鉸接有箱蓋(11)，溶銅箱(1)前側靠近下端的位置設置有閥門(12)，溶銅箱(1)內靠近底部設置有阻擋網(13)，交錯驅動機構(2)設置在溶銅箱(1)的左右兩側，多個晃動板(3)從上至下均勻設置在溶銅箱(1)內并與交錯驅動機構(2)固定連接，噴氣機構(4)和循環(huán)加熱機構(5)均設置在溶銅箱(1)的下側；

所述噴氣機構(4)包括供氣主管(41)、供氣支管(42)、噴氣孔(43)、供氣泵(44)和閉合支鏈(45)，所述供氣主管(41)設置在溶銅箱(1)內的底部，且供氣主管(41)靠近溶銅箱(1)內的前側壁布置，供氣支管(42)為前端封閉的管狀結構，且供氣支管(42)均勻設置在溶銅箱(1)內的底部，供氣支管(42)開口的一端均與供氣主管(41)連接，供氣主管(41)的右端穿過溶銅箱(1)右側壁伸出溶銅箱(1)外側，供氣泵(44)的供氣口與供氣主管(41)右端連接，供氣支管(42)的上端沿直線均勻開設有噴氣孔(43)，噴氣孔(43)上設置有閉合支鏈(45)；

所述循環(huán)加熱機構(5)包括供液主管(51)、供液支管(52)、出液孔(53)、供液泵(54)、加熱箱(55)和連接管(56)，所述供液主管(51)設置在溶銅箱(1)內的底部，且供液主管(51)靠近溶銅箱(1)內的后側壁，供液支管(52)為后端封閉的管狀結構，且供液支管(52)直線均勻設置在溶銅箱(1)內的底部，供液支管(52)開口的一端均與供液主管(51)連接，供液支管(52)上端沿直線均勻開設有出液孔(53)，供液主管(51)的右端穿過溶銅箱(1)的右側壁伸出溶銅箱(1)的外側，且供液主管(51)的右端與供液泵(54)的供液口連接，供液泵(54)的吸液口連接在加熱箱(55)上，加熱箱(55)與溶銅箱(1)之間通過連接管(56)連接，連接管(56)連接在溶銅箱(1)的左端的上側；

所述交錯驅動機構(2)包括驅動盒(21)、驅動電機(22)、轉動軸(23)、偏心盤(24)、配合環(huán)(25)、連接桿(26)和往復桿(27)，所述驅動盒(21)設置在溶銅箱(1)的側壁上，驅動盒(21)為開口向溶銅箱(1)的箱形結構，驅動電機(22)設置在驅動盒(21)的上端，驅動盒(21)內側的上下兩側壁之間轉動設置有轉動軸(23)，轉動軸(23)與驅動電機(22)的輸出軸連接，偏心盤(24)從上至下均勻交錯設置在轉動軸(23)上，配合環(huán)(25)套設在偏心盤(24)上，且配合環(huán)(25)與偏心盤(24)轉動配合，溶銅箱(1)側壁對應每個偏心盤(24)的位置均滑動穿設有往復桿(27)，連接桿(26)一端轉動連接在往復桿(27)位于溶銅箱(1)外側的一端，連接桿(26)另一端轉動連接在配合環(huán)(25)的外壁上；

所述往復桿(27)在溶銅箱(1)內的一端設置有固定塊(31)，左右兩側相對的兩個固定塊(31)之間設置有晃動板(3)，晃動板(3)上直線均勻開設有晃動槽(32)；

所述晃動槽(32)內滑動配合有放置框(33)，放置框(33)為矩形框，放置框(33)上端均勻固定穿設在固定板(34)上，且固定板(34)放置在最上側的晃動板(3)上，放置框(33)上端設置有導向框(35)，且導向框(35)從上至下寬度逐漸減小；

所述閉合支鏈(45)包括收縮彈簧桿(451)和密封塊(452)，所述供氣支管(42)內壁的下側直線均勻設置有收縮彈簧桿(451)，收縮彈簧桿(451)的上端連接有密封塊(452)，密封塊(452)為上端直徑大于下端直徑的圓臺形結構，且噴氣孔(43)開口處與密封塊(452)配合。

2.根據權利要求1所述的一種電解銅箔溶銅加工設備，其特征在于：所述晃動板(3)與固定塊(31)之間為可拆卸連接。

3.根據權利要求1所述的一種電解銅箔溶銅加工設備，其特征在于：所述密封塊(452)上側沿其周向開設有倒流槽(4521)。

4.根據權利要求1所述的一種電解銅箔溶銅加工設備，其特征在于：所述加熱箱(55)內均勻設置有加熱板(551)，且連接管(56)與供液泵(54)的吸液口連接在加熱箱(55)相互遠離的端面上。

說明書： 一種電解銅箔溶銅加工設備技術領域[0001] 本發(fā)明涉及電解銅箔制造技術領域，具體的說是一種電解銅箔溶銅加工設備。背景技術[0002] 電解銅箔是覆銅板、印制電路板及鋰離子電池制造的重要材料；在當今電子信息產業(yè)高速發(fā)展中，電解銅箔被稱為電子產品信號與電力傳輸、溝通的“神經網絡”。

[0003] 電解銅箔在生產時，溶銅工序是電解銅箔生產的第一道工序，也稱為電解液制備，其目的是將銅料溶解成硫酸鹽溶液，以便硫酸鹽溶液附著在原箔的表面形成銅箔。

[0004] 現有技術在進行溶銅工序時存在以下問題：1.銅料進行溶解時需要通入壓縮空氣參與反應，而壓縮空氣不能均勻分布在溶液中，且壓縮空氣上浮較快，使得壓縮空氣多數未

產生作用，使得銅料溶解效率較低。

[0005] 2.為了加快溶銅的速率通常需要對溶液進行加熱或者攪拌，現有加熱設備不能夠保證溶液均勻加熱，使得溶液與銅料不能夠均勻且穩(wěn)定的進行反應；溶液進行攪拌時會使

銅料聚集在溶液中的某一位置導致銅料不能在溶液中均勻分布，影響溶銅速率。

發(fā)明內容[0006] 為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種電解銅箔溶銅加工設備，可以解決上述背景技術中提出的問題。

[0007] 為了實現上述目的，本發(fā)明采用以下技術方案來實現：一種電解銅箔溶銅加工設備，包括溶銅箱、交錯驅動機構、晃動板、噴氣機構和循環(huán)加熱機構，所述溶銅箱為上端開口

的箱型結構，且溶銅箱后側靠近上端鉸接有箱蓋，溶銅箱前側靠近下端的位置設置有閥門，

溶銅箱內靠近底部設置有阻擋網，交錯驅動機構設置在溶銅箱的左右兩側，多個晃動板從

上至下均勻設置在溶銅箱內并與交錯驅動機構固定連接，噴氣機構和循環(huán)加熱機構均設置

在溶銅箱的下側。

[0008] 所述噴氣機構包括供氣主管、供氣支管、噴氣孔、供氣泵和閉合支鏈，所述供氣主管設置在溶銅箱內的底部，且供氣主管靠近溶銅箱內的前側壁布置，供氣支管為前端封閉

的管狀結構，且供氣支管均勻設置在溶銅箱內的底部，供氣支管開口的一端均與供氣主管

連接，供氣主管的右端穿過溶銅箱右側壁伸出溶銅箱外側，供氣泵的供氣口與供氣主管右

端連接，供氣支管的上端沿直線均勻開設有噴氣孔，噴氣孔上設置有閉合支鏈。

[0009] 所述循環(huán)加熱機構包括供液主管、供液支管、出液孔、供液泵、加熱箱和連接管，所述供液主管設置在溶銅箱內的底部，且供液主管靠近溶銅箱內的后側壁，供液支管為后端

封閉的管狀結構，且供液支管直線均勻設置在溶銅箱內的底部，供液支管開口的一端均與

供液主管連接，供液支管上端沿直線均勻開設有出液孔，供液主管的右端穿過溶銅箱的右

側壁伸出溶銅箱的外側，且供液主管的右端與供液泵的供液口連接，供液泵的吸液口連接

在加熱箱上，加熱箱與溶銅箱之間通過連接管連接，連接管連接在溶銅箱的左端的上側。

[0010] 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術方案，所述交錯驅動機構包括驅動盒、驅動電機、轉動軸、偏心盤、配合環(huán)、連接桿和往復桿，所述驅動盒設置在溶銅箱的側壁上，驅動盒為開口向

溶銅箱的箱形結構，驅動電機設置在驅動盒的上端，驅動盒內側的上下兩側壁之間轉動設

置有轉動軸，轉動軸與驅動電機的輸出軸連接，偏心盤從上至下均勻交錯設置在轉動軸上，

配合環(huán)套設在偏心盤上，且配合環(huán)與偏心盤轉動配合，溶銅箱側壁對應每個偏心盤的位置

均滑動穿設有往復桿，連接桿一端轉動連接在往復桿位于溶銅箱外側的一端，連接桿另一

端轉動連接在配合環(huán)的外壁上。

[0011] 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術方案，所述往復桿在溶銅箱內的一端設置有固定塊，左右兩側相對的兩個固定塊之間設置有晃動板，晃動板上直線均勻開設有晃動槽。

[0012] 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術方案，所述晃動槽內滑動配合有放置框，放置框為矩形框，放置框上端均勻固定穿設在固定板上，且固定板放置在最上側的晃動板上，放置框上

端設置有導向框，且導向框從上至下寬度逐漸減小。

[0013] 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術方案，所述晃動板與固定塊之間為可拆卸連接。[0014] 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術方案，所述閉合支鏈包括收縮彈簧桿和密封塊，所述供氣支管內壁的下側直線均勻設置有收縮彈簧桿，收縮彈簧桿的上端連接有密封塊，密封

塊為上端直徑大于下端直徑的圓臺形結構，且噴氣孔開口處與密封塊配合。

[0015] 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術方案，所述密封塊上側沿其周向開設有倒流槽。[0016] 作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術方案，所述加熱箱內均勻設置有加熱板，且連接管與供液泵的吸液口連接在加熱箱相互遠離的端面上。

[0017] 本發(fā)明的有益效果是：1.本發(fā)明設計的噴氣機構通過均勻分布的供氣支管且與其上的噴氣孔能夠使得壓縮空氣在溶銅箱底部均勻噴出，提高反應速率，通過倒流槽使壓縮

空氣氣流分散產生更多的氣泡，提高與銅片的接觸率，從而進一步提高反應速率。

[0018] 2.本發(fā)明設計的循環(huán)加熱機構使得溶液能夠在溶銅箱內自下而上均勻流動，溶銅箱內的溶液溫度能夠分布均勻，使得溶液箱內的反應能夠均勻穩(wěn)定。

[0019] 3.本發(fā)明設計的交錯驅動機構和晃動板之間通過交錯驅動機構帶動晃動板交錯往復運動，晃動板上的晃動槽對制成銅片的銅料進行交錯往復晃動，使得銅片能夠與溶液

充分接觸反應，同時晃動的晃動板和銅片能夠對溶液進行攪動，使得溶液能夠均勻分布提

高反應的均勻性，同時也提高了反應速率。

附圖說明[0020] 下面結合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明。[0021] 圖1是本發(fā)明的第一結構示意圖。[0022] 圖2是本發(fā)明正面局部剖視圖。[0023] 圖3是本發(fā)明圖2的A處局部放大圖。[0024] 圖4是本發(fā)明的第二結構示意圖。[0025] 圖5是本發(fā)明供氣支管的剖視圖。[0026] 圖6是本發(fā)明密封塊的結構示意圖。[0027] 圖7是本發(fā)明供液支管的剖視圖。[0028] 圖8是本發(fā)明圖2的B?B向斷面圖。[0029] 圖9是本發(fā)明圖4的C處局部放大圖。[0030] 圖10是本發(fā)明加熱箱的結構示意圖。[0031] 圖中：1、溶銅箱；2、交錯驅動機構；3、晃動板；4、噴氣機構；5、循環(huán)加熱機構；11、箱蓋；12、閥門；13、阻擋網；21、驅動盒；22、驅動電機；23、轉動軸；24、偏心盤；25、配合環(huán)；26、

連接桿；27、往復桿；31、固定塊；32、晃動槽；33、放置框；34、固定板；35、導向框；41、供氣主

管；42、供氣支管；43、噴氣孔；44、供氣泵；45、閉合支鏈；451、收縮彈簧桿；452、密封塊；

4521、倒流槽；51、供液主管；52、供液支管；53、出液孔；54、供液泵；55、加熱箱；551、加熱板；

56、連接管。

具體實施方式[0032] 為了使本發(fā)明所要解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明；應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅

用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

[0033] 參閱圖1?3，一種電解銅箔溶銅加工設備，包括溶銅箱1、交錯驅動機構2、晃動板3、噴氣機構4和循環(huán)加熱機構5，所述溶銅箱1為上端開口的箱型結構，且溶銅箱1后側靠近上

端鉸接有箱蓋11，溶銅箱1前側靠近下端的位置設置有閥門12，溶銅箱1內靠近底部設置有

阻擋網13，交錯驅動機構2設置在溶銅箱1的左右兩側，多個晃動板3從上至下均勻設置在溶

銅箱1內并與交錯驅動機構2固定連接，噴氣機構4和循環(huán)加熱機構5均設置在溶銅箱1的下

側。

[0034] 參閱圖1、圖2、圖4及圖9，所述交錯驅動機構2包括驅動盒21、驅動電機22、轉動軸23、偏心盤24、配合環(huán)25、連接桿26和往復桿27，所述驅動盒21設置在溶銅箱1的側壁上，驅

動盒21為開口向溶銅箱1的箱形結構，驅動電機22設置在驅動盒21的上端，驅動盒21內側的

上下兩側壁之間轉動設置有轉動軸23，轉動軸23與驅動電機22的輸出軸連接，偏心盤24從

上至下均勻交錯設置在轉動軸23上，配合環(huán)25套設在偏心盤24上，且配合環(huán)25與偏心盤24

轉動配合，溶銅箱1側壁對應每個偏心盤24的位置均滑動穿設有往復桿27，連接桿26一端轉

動連接在往復桿27位于溶銅箱1外側的一端，連接桿26另一端轉動連接在配合環(huán)25的外壁

上。

[0035] 具體工作時，驅動電機22工作，驅動電機22輸出軸轉動帶動轉動軸23轉動，轉動軸23帶動偏心盤24進行轉動，偏心盤24通過配合環(huán)25和連接桿26帶動往復桿27在溶銅箱1側

壁上左右往復運動，由于偏心盤24之間交錯設置，使得相鄰的兩個往復桿27運動方向相反，

從而往復桿27帶動相鄰的兩個晃動板3之間交錯晃動，晃動板3上的晃動槽32對銅片進行交

錯往復晃動，使得銅片能夠與溶液充分接觸反應，同時晃動的晃動板3和銅片能夠對溶液進

行攪動，使得溶液能夠均勻分布提高反應的均勻程度，同時也提高了反應速率。

[0036] 參閱圖2?3，所述往復桿27在溶銅箱1內的一端設置有固定塊31，左右兩側相對的兩個固定塊31之間設置有晃動板3，晃動板3上直線均勻開設有晃動槽32；所述晃動板3與固

定塊31之間為可拆卸連接，便于其進行更換維護；所述晃動槽32內滑動配合有放置框33，放

置框33為矩形框，放置框33上端均勻固定穿設在固定板34上，且固定板34放置在最上側的

晃動板3上，放置框33上端設置有導向框35，且導向框35從上至下寬度逐漸減小。

[0037] 具體工作時，通過交錯驅動機構2使得晃動槽32在豎向上保持在一條直線上，將放置框33插入晃動槽32內，阻擋網13對銅片進行阻擋，再將按照一定大小制作成較薄銅片的

銅料依次通過導向框35放置在放置框33內并使溶銅箱1的溶液浸沒銅片，通過固定板34將

放置框33拉出，使得銅片留在晃動槽32內，從而快速的對銅片進行放置，提高工作效率，銅

片放置完成后關閉箱蓋11。

[0038] 參閱圖4、圖5及圖8，所述噴氣機構4包括供氣主管41、供氣支管42、噴氣孔43、供氣泵44和閉合支鏈45，所述供氣主管41設置在溶銅箱1內的底部，且供氣主管41靠近溶銅箱1

內的前側壁布置，供氣支管42為前端封閉的管狀結構，且供氣支管42均勻設置在溶銅箱1內

的底部，供氣支管42開口的一端均與供氣主管41連接，供氣主管41的右端穿過溶銅箱1右側

壁伸出溶銅箱1外側，供氣泵44的供氣口與供氣主管41右端連接，供氣支管42的上端沿直線

均勻開設有噴氣孔43，噴氣孔43上設置有閉合支鏈45。

[0039] 具體工作時，在交錯驅動機構2工作的同時并控制供氣泵44工作，供氣泵44將壓縮空氣通過供氣主管41供入供氣支管42內，壓縮氣體通過噴氣孔43噴出，壓縮空氣由下而上

上浮并與銅片接觸參與氧化化合反應，多個均勻分布的供氣支管42能夠使得壓縮空氣在溶

銅箱1底部均勻噴出，提高反應效率，在溶銅完成后設備停止后，通過閉合支鏈45防止溶液

回流入供氣支管42內。

[0040] 參閱圖5?6，所述閉合支鏈45包括收縮彈簧桿451和密封塊452，所述供氣支管42內壁的下側直線均勻設置有收縮彈簧桿451，收縮彈簧桿451的上端連接有密封塊452，密封塊

452為上端直徑大于下端直徑的圓臺形結構，且噴氣孔43開口處與密封塊452配合；所述密

封塊452上側沿其周向開設有倒流槽4521；倒流槽4521能夠對從密封塊452四周噴射出的壓

縮空氣進行分流，防止氣流噴出不均勻，從而保證了氣泡的生成量，進一步提高反應速率。

[0041] 具體工作時，壓縮氣體在供氣支管42內頂動密封塊452，密封塊452帶動收縮彈簧桿451伸出端伸出，密封塊452脫離側壁離與噴氣孔43的封堵，使得壓縮空氣從密封塊452四

周噴射出，從而能夠使得壓縮空氣氣流分散產生更多的氣泡，提高與銅片的接觸率，從而提

高反應速率，反應結束時收縮彈簧桿451伸出端縮回帶動密封塊452與噴氣孔43緊密配合從

而防止溶液回流入供氣支管42內。

[0042] 參閱圖4、圖7、圖8及圖10，所述循環(huán)加熱機構5包括供液主管51、供液支管52、出液孔53、供液泵54、加熱箱55和連接管56，所述供液主管51設置在溶銅箱1內的底部，且供液主

管51靠近溶銅箱1內的后側壁，供液支管52為后端封閉的管狀結構，且供液支管52直線均勻

設置在溶銅箱1內的底部，供液支管52開口的一端均與供液主管51連接，供液支管52上端沿

直線均勻開設有出液孔53，供液主管51的右端穿過溶銅箱1的右側壁伸出溶銅箱1的外側，

且供液主管51的右端與供液泵54的供液口連接，供液泵54的吸液口連接在加熱箱55上，加

熱箱55與溶銅箱1之間通過連接管56連接，連接管56連接在溶銅箱1的左端的上側。

[0043] 具體工作時，在交錯驅動機構2工作的同時，溶銅箱1內的溶液通過連接管56流入加熱箱55內進行加熱，供液泵54工作抽取加熱箱55內的加熱溶液并通過供液主管51供入供

液支管52內，溶液在供液支管52內通過出液孔53流出，由于供液支管52在溶銅箱1底部均勻

分布，使得溶液能夠在溶銅箱1內自下而上均勻流動，溶銅箱1內的溶液溫度能夠分布均勻，

使得溶液箱內的反應能夠均勻穩(wěn)定。

[0044] 參閱圖10，所述加熱箱55內均勻設置有加熱板551，且供液主管51與供液泵54的吸液口連接在加熱箱55相互遠離的端面上；均勻分布的加熱板551能夠提高溶液的加熱效率。

[0045] 采用上述電解銅箔溶銅加工設備在對銅料進行溶解時，包括以下步驟：S1、銅料放置：通過交錯驅動機構2使得晃動槽32在豎向上保持在一條直線上，將放置框33插入晃動槽

32內，阻擋網13對銅片進行阻擋，再將按照一定大小制作成較薄銅片的銅料依次通過導向

框35放置在放置框33內，溶銅箱1的溶液浸沒銅片，通過固定板34將放置框33拉出，使得銅

片留在晃動槽32內。

[0046] S2、擺動銅料：驅動電機22工作，驅動電機22輸出軸轉動帶動轉動軸23轉動，轉動軸23帶動偏心盤24進行轉動，偏心盤24通過配合環(huán)25和連接桿26帶動往復桿27在溶銅箱1

側壁上左右往復運動，由于偏心盤24之間交錯設置，使得相鄰的兩個往復桿27運動方向相

反，從而往復桿27帶動相鄰的兩個晃動板3之間交錯晃動，晃動板3上的晃動槽32對銅片進

行交錯往復晃動。

[0047] S3、銅料氧化：在S2進行的同時，供氣泵44工作，供氣泵44將壓縮空氣通過供氣主管41供入供氣支管42內，壓縮氣體通過噴氣孔43噴出，壓縮空氣由下而上上浮并與銅片接

觸參與氧化化合反應，多個均勻分布的供氣支管42能夠使得壓縮空氣在溶銅箱1底部均勻

噴出。

[0048] S4、溶液加熱：在S2進行的同時，溶銅箱1內的溶液通過連接管56流入加熱箱55內進行加熱，供液泵54工作抽取加熱箱55內的加熱溶液并通過供液主管51供入供液支管52

內，溶液在供液支管52內通過出液孔53流出，由于供液支管52在溶銅箱1底部均勻分布，使

得溶液能夠在溶銅箱1內自下而上均勻流動。

[0049] S5、溶液排出：等待溶銅箱1內的反應充分后，打開閥門12將反應得到的溶液排出收集。

[0050] 以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征和優(yōu)點；本行業(yè)的技術人員應該了解，本發(fā)明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中的描述的只是說明本發(fā)明的

原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會有各種變化和改進，這些變化和改

進都落入要求保護的本發(fā)明范圍內；本發(fā)明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物

界定。