權(quán)利要求書： 1.一種基于砂磨機的過漿設(shè)備，其特征在于：包括，

支架(1)，所述支架(1)的頂部水平設(shè)置有支撐圈(2)，所述支撐圈(2)的頂部豎直設(shè)置有若干個振動簧(3)；

過漿外殼(4)，所述過漿外殼(4)的底部周緣與所有的所述振動簧(3)連接，底部的中部設(shè)置有振動電機(5)，頂部的中部開設(shè)有入料口(6)；

第一過漿層(7)，所述第一過漿層(7)呈開口向下的罩狀，貫穿所述第一過漿層(7)開設(shè)有多個第一過漿孔(8)；

第一承接層(9)，所述第一承接層(9)呈開口向上的罩狀，且所述第一承接層(9)的周緣與所述第一過漿層(7)的周緣連接；

出液管(10)，所述出液管(10)呈傾斜設(shè)置，且所述出液管(10)的頂部與所述第一承接層(9)的底部相通，底部位于所述過漿外殼(4)的外部；

所述第一過漿層(7)和所述第一承接層(9)的周緣均與所述過漿外殼(4)的內(nèi)壁之間具有設(shè)定距離，所述過漿外殼(4)的內(nèi)壁上設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二過漿層(11)，貫穿所述第二過漿層(11)開設(shè)有多個第二過漿孔(12)，所述第一過漿孔(8)的直徑小于所述第二過漿孔(12)的直徑；

所述第二過漿層(11)的中部位于所述第一承接層(9)中部的下方，所述第二過漿層(11)的內(nèi)壁與所述第一承接層(9)的外壁之間具有設(shè)定距離；

所述過漿外殼(4)的內(nèi)壁上還設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二承接層(13)，所述第二承接層(13)的內(nèi)壁與所述第二過漿層(11)的外壁之間具有設(shè)定距離，所述第二承接層(13)的中部位于所述第二過漿層(11)中部的下方；

傾斜穿過所述過漿外殼(4)和所述第二承接層(13)設(shè)置有出雜管(14)，所述出雜管(14)的頂部與所述第二過漿層(11)的底部相通，底部位于所述過漿外殼(4)的外部；

所述第二承接層(13)的底部傾斜設(shè)置有引流管(15)，所述引流管(15)的頂部與所述第二承接層(13)的底部相通，底部與所述出液管(10)的中部相通；

所述出雜管(14)的縱截面為矩形，且所述出雜管(14)的底部開設(shè)有多個落液孔(16)，所述落液孔(16)均位于所述第二承接層(13)的開口中，所述出雜管(14)的底部豎直設(shè)置有環(huán)形的阻擋圈(17)，所述落液孔(16)均位于所述阻擋圈(17)中，所述落液孔(16)的直徑小于或等于所述第二過漿孔(12)的直徑；

在振動的過程中，所述第一承接層(9)的底部可防止雜質(zhì)和液體或細(xì)小顆粒過度振動，使得雜質(zhì)、液體和細(xì)小顆粒受到所述第二過漿孔(12)的過濾，同時所述第一承接層(9)的外壁施加給物料打擊作用，將液體打散以及將部分顆粒打破，使得物料可進(jìn)一步通過所述第二過漿孔(12)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于砂磨機的過漿設(shè)備，其特征在于：所述第二過漿層(11)的內(nèi)壁上豎直設(shè)置有若干個支撐限位板(18)，所述支撐限位板(18)與所述第一承接層(9)固定連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于砂磨機的過漿設(shè)備，其特征在于：所述過漿外殼(4)的橫截面為圓形，所述支撐限位板(18)以所述過漿外殼(4)橫截面的軸心為圓心呈發(fā)散狀分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于砂磨機的過漿設(shè)備，其特征在于：所述支撐限位板(18)的中部與所述第一承接層(9)連接，且所述支撐限位板(18)的頂部與所述第一過漿層(7)的內(nèi)壁之間具有設(shè)定距離。

5.一種采用如權(quán)利要求1至4任一項所述的基于砂磨機的過漿設(shè)備進(jìn)行過漿的工藝，其特征在于：包括以下步驟：S1，將支架(1)移動到砂磨機的出口處，并使得入料口(6)位于砂磨機的出口下方，或在砂磨機的出口設(shè)置軟管，并將軟管的底部牽引到入料口(6)中；

S2，振動電機(5)啟動，帶動過漿外殼(4)振動；

S3，砂磨機中的物料流入到入料口(6)中，并作用到第一過漿層(7)的頂部，液體以及細(xì)小顆粒通過第一過漿孔(8)后，流下到第一承接層(9)上；

S4，通過第一過漿層(7)的物料在第一承接層(9)的導(dǎo)向作用下流入到出液管(10)的頂部，并在重力作用下，通過出液管(10)流出到過漿外殼(4)的外部；

S5，被第一過漿層(7)過濾出來的雜質(zhì)在第一過漿層(7)的形狀導(dǎo)向作用，以及振動作用下活動到第一過漿層(7)的邊緣或從邊緣落下，使得第一過漿孔(8)保持暢通。

說明書： 基于砂磨機的過漿設(shè)備及其過漿工藝技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明涉及過漿技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及基于砂磨機的過漿設(shè)備及其過漿工藝。背景技術(shù)[0002] 在許多化工行業(yè)或新材料行業(yè)，其原材料都需要經(jīng)過濕式研磨，其中砂磨機就是濕式研磨常用的設(shè)備之一，比如在化工涂料領(lǐng)域，或軟磁鐵氧體生產(chǎn)領(lǐng)域，也經(jīng)常使用砂磨機對原料進(jìn)行濕式研磨，從而獲得能夠使用的材料。[0003] 其中在研磨后，通常都還需要進(jìn)行過漿，將未研磨好，或雜質(zhì)過濾出來，從而獲得優(yōu)質(zhì)的漿液。目前常用的過漿設(shè)備主要包括一個可以震動的斗，然后斗的底部具有振動電機，內(nèi)部具有過濾膜或過漿層，在過漿層的底部具有向外導(dǎo)出的導(dǎo)出管；在過漿的時候，漿液進(jìn)入到斗中后，振動電機帶動斗振動，加速過漿；在過漿的過程中，較細(xì)的漿液通過過漿層，之后通過導(dǎo)出管導(dǎo)出進(jìn)行后續(xù)使用，而大的雜質(zhì)過過濾出來，從而實現(xiàn)了去雜。發(fā)明內(nèi)容[0004] 本發(fā)明的目的是提供基于砂磨機的過漿設(shè)備及其過漿工藝，旨在達(dá)到高效去雜的目的。[0005] 本發(fā)明的上述技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)的：一種基于砂磨機的過漿設(shè)備，包括，[0006] 支架，所述支架的頂部水平設(shè)置有支撐圈，所述支撐圈的頂部豎直設(shè)置有若干個振動簧；[0007] 過漿外殼，所述過漿外殼的底部周緣與所有的所述振動簧連接，底部的中部設(shè)置有振動電機，頂部的中部開設(shè)有入料口；[0008] 第一過漿層，所述第一過漿層呈開口向下的罩狀，貫穿所述第一過漿層開設(shè)有多個第一過漿孔；[0009] 第一承接層，所述第一承接層呈開口向上的罩狀，且所述第一承接層的周緣與所述第一過漿層的周緣連接；[0010] 出液管，所述出液管呈傾斜設(shè)置，且所述出液管的頂部與所述第一承接層的底部相通，底部位于所述過漿外殼的外部。[0011] 本發(fā)明的進(jìn)一步設(shè)置為：所述第一過漿層和所述第一承接層的周緣均與所述過漿外殼的內(nèi)壁之間具有設(shè)定距離，所述過漿外殼的內(nèi)壁上設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二過漿層，貫穿所述第二過漿層開設(shè)有多個第二過漿孔，所述第一過漿孔的直徑小于所述第二過漿孔的直徑；[0012] 所述第二過漿層的中部位于所述第一承接層中部的下方，所述第二過漿層的內(nèi)壁與所述第一承接層的外壁之間具有設(shè)定距離；[0013] 所述過漿外殼的內(nèi)壁上還設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二承接層，所述第二承接層的內(nèi)壁與所述第二過漿層的外壁之間具有設(shè)定距離，所述第二承接層的中部位于所述第二過漿層中部的下方；[0014] 傾斜穿過所述過漿外殼和所述第二承接層設(shè)置有出雜管，所述出雜管的頂部與所述第二過漿層的底部相通，底部位于所述過漿外殼的外部。[0015] 本發(fā)明的進(jìn)一步設(shè)置為：所述第二承接層的底部傾斜設(shè)置有引流管，所述引流管的頂部與所述第二承接層的底部相通，底部與所述出液管的中部相通。[0016] 本發(fā)明的進(jìn)一步設(shè)置為：所述出雜管的縱截面為矩形，且所述出雜管的底部開設(shè)有多個落液孔，所述落液孔均位于所述第二承接層的開口中，所述出雜管的底部豎直設(shè)置有環(huán)形的阻擋圈，所述落液孔均位于所述阻擋圈中，所述落液孔的直徑小于或等于所述第二過漿孔的直徑。[0017] 本發(fā)明的進(jìn)一步設(shè)置為：所述第二過漿層的內(nèi)壁上豎直設(shè)置有若干個支撐限位板，所述支撐限位板與所述第一承接層固定連接。[0018] 本發(fā)明的進(jìn)一步設(shè)置為：所述過漿外殼的橫截面為圓形，所述支撐限位板以所述過漿外殼橫截面的軸心為圓心呈發(fā)散狀分布。[0019] 本發(fā)明的進(jìn)一步設(shè)置為：所述支撐限位板的中部與所述第一承接層連接，且所述支撐限位板的頂部與所述第一過漿層的內(nèi)壁之間具有設(shè)定距離。[0020] 本發(fā)明還提供了一種采用如上任一項所述的基于砂磨機的過漿設(shè)備進(jìn)行過漿的工藝，包括以下步驟：[0021] S1，將支架移動到砂磨機的出口處，并使得入料口位于砂磨機的出口下方，或在砂磨機的出口設(shè)置軟管，并將軟管的底部牽引到入料口中；[0022] S2，振動電機啟動，帶動過漿外殼振動；[0023] S3，砂磨機中的物料流入到入料口中，并作用到第一過漿層的頂部，液體以及細(xì)小顆粒通過第一過漿孔后，流下到第一承接層上；[0024] S4，通過第一過漿層的物料在第一承接層的導(dǎo)向作用下流入到出液管的頂部，并在重力作用下，通過出液管流出到過漿外殼的外部；[0025] S5，被第一過漿層過濾出來的雜質(zhì)在第一過漿層的形狀導(dǎo)向作用，以及振動作用下活動到第一過漿層的邊緣或從邊緣落下，使得第一過漿孔保持暢通。[0026] 本發(fā)明的有益效果是：在使用的時候首先將支架移動到砂磨機的出口處，并使得入料口位于砂磨機的出口下方，或在砂磨機的出口設(shè)置軟管，并將軟管的底部牽引到入料口中；之后振動電機啟動，帶動過漿外殼以及位于過漿外殼中所有結(jié)構(gòu)進(jìn)行振動；然后砂磨機中的物料流入到入料口中，并作用到第一過漿層的頂部，液體以及細(xì)小顆粒通過第一過漿孔后，流下到第一承接層上；通過第一過漿層的物料在第一承接層的導(dǎo)向作用下流入到出液管的頂部，并在重力作用下，通過出液管流出到過漿外殼的外部；被第一過漿層過濾出來的雜質(zhì)在第一過漿層的形狀導(dǎo)向作用，以及振動作用下活動到第一過漿層的邊緣或從邊緣落下，使得第一過漿孔保持暢通，從而能夠持續(xù)且高效的進(jìn)行過漿，保證了過漿過程可以高質(zhì)量的進(jìn)行。附圖說明[0027] 為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。[0028] 圖1是本發(fā)明基于砂磨機的過漿設(shè)備一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；[0029] 圖2是本發(fā)明基于砂磨機的過漿設(shè)備一實施例的剖視圖；[0030] 圖3是圖2中A部分的放大圖；[0031] 圖4是圖2中B部分的放大圖；[0032] 圖5是本發(fā)明基于砂磨機的過漿設(shè)備中出雜管一實施例的部分示意圖。[0033] 圖中，1、支架；2、支撐圈；3、振動簧；4、過漿外殼；5、振動電機；6、入料口；7、第一過漿層；8、第一過漿孔；9、第一承接層；10、出液管；11、第二過漿層；12、第二過漿孔；13、第二承接層；14、出雜管；15、引流管；16、落液孔；17、阻擋圈；18、支撐限位板。具體實施方式[0034] 下面將結(jié)合附圖以及具體實施例對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。[0035] 一種基于砂磨機的過漿設(shè)備，如圖1至圖5所示，包括，[0036] 支架1，所述支架1的頂部水平設(shè)置有支撐圈2，所述支撐圈2的頂部豎直設(shè)置有若干個振動簧3；[0037] 過漿外殼4，所述過漿外殼4的底部周緣與所有的所述振動簧3連接，底部的中部設(shè)置有振動電機5，頂部的中部開設(shè)有入料口6；[0038] 第一過漿層7，所述第一過漿層7呈開口向下的罩狀，貫穿所述第一過漿層7開設(shè)有多個第一過漿孔8；[0039] 第一承接層9，所述第一承接層9呈開口向上的罩狀，且所述第一承接層9的周緣與所述第一過漿層7的周緣連接；[0040] 出液管10，所述出液管10呈傾斜設(shè)置，且所述出液管10的頂部與所述第一承接層9的底部相通，底部位于所述過漿外殼4的外部。[0041] 所述第一過漿層7和所述第一承接層9的周緣均與所述過漿外殼4的內(nèi)壁之間具有設(shè)定距離，所述過漿外殼4的內(nèi)壁上設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二過漿層11，貫穿所述第二過漿層11開設(shè)有多個第二過漿孔12，所述第一過漿孔8的直徑小于所述第二過漿孔12的直徑；[0042] 所述第二過漿層11的中部位于所述第一承接層9中部的下方，所述第二過漿層11的內(nèi)壁與所述第一承接層9的外壁之間具有設(shè)定距離；[0043] 所述過漿外殼4的內(nèi)壁上還設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二承接層13，所述第二承接層13的內(nèi)壁與所述第二過漿層11的外壁之間具有設(shè)定距離，所述第二承接層13的中部位于所述第二過漿層11中部的下方；[0044] 傾斜穿過所述過漿外殼4和所述第二承接層13設(shè)置有出雜管14，所述出雜管14的頂部與所述第二過漿層11的底部相通，底部位于所述過漿外殼4的外部。[0045] 所述第二承接層13的底部傾斜設(shè)置有引流管15，所述引流管15的頂部與所述第二承接層13的底部相通，底部與所述出液管10的中部相通。所述出雜管14的縱截面為矩形，且所述出雜管14的底部開設(shè)有多個落液孔16，所述落液孔16均位于所述第二承接層13的開口中，所述出雜管14的底部豎直設(shè)置有環(huán)形的阻擋圈17，所述落液孔16均位于所述阻擋圈17中，所述落液孔16的直徑小于或等于所述第二過漿孔12的直徑。[0046] 所述第二過漿層11的內(nèi)壁上豎直設(shè)置有若干個支撐限位板18，所述支撐限位板18與所述第一承接層9固定連接。所述過漿外殼4的橫截面為圓形，所述支撐限位板18以所述過漿外殼4橫截面的軸心為圓心呈發(fā)散狀分布。所述支撐限位板18的中部與所述第一承接層9連接，且所述支撐限位板18的頂部與所述第一過漿層7的內(nèi)壁之間具有設(shè)定距離。[0047] 本發(fā)明還公開了一種采用如上任一項所述的基于砂磨機的過漿設(shè)備進(jìn)行過漿的工藝，包括以下步驟：[0048] S1，將支架1移動到砂磨機的出口處，并使得入料口6位于砂磨機的出口下方，或在砂磨機的出口設(shè)置軟管，并將軟管的底部牽引到入料口6中；[0049] S2，振動電機5啟動，帶動過漿外殼4振動；[0050] S3，砂磨機中的物料流入到入料口6中，并作用到第一過漿層7的頂部，液體以及細(xì)小顆粒通過第一過漿孔8后，流下到第一承接層9上；[0051] S4，通過第一過漿層7的物料在第一承接層9的導(dǎo)向作用下流入到出液管10的頂部，并在重力作用下，通過出液管10流出到過漿外殼4的外部；[0052] S5，被第一過漿層7過濾出來的雜質(zhì)在第一過漿層7的形狀導(dǎo)向作用，以及振動作用下活動到第一過漿層7的邊緣或從邊緣落下，使得第一過漿孔8保持暢通。[0053] 本發(fā)明提供的基于砂磨機的過漿設(shè)備及其過漿工藝，在使用的時候首先將支架1移動到砂磨機的出口處，并使得入料口6位于砂磨機的出口下方，或在砂磨機的出口設(shè)置軟管，并將軟管的底部牽引到入料口6中；之后振動電機5啟動，帶動過漿外殼4以及位于過漿外殼4中所有結(jié)構(gòu)進(jìn)行振動；然后砂磨機中的物料流入到入料口6中，并作用到第一過漿層7的頂部，液體以及細(xì)小顆粒通過第一過漿孔8后，流下到第一承接層9上；通過第一過漿層7的物料在第一承接層9的導(dǎo)向作用下流入到出液管10的頂部，并在重力作用下，通過出液管10流出到過漿外殼4的外部；被第一過漿層7過濾出來的雜質(zhì)在第一過漿層7的形狀導(dǎo)向作用，以及振動作用下活動到第一過漿層7的邊緣或從邊緣落下，使得第一過漿孔8保持暢通，從而能夠持續(xù)且高效的進(jìn)行過漿，保證了過漿過程可以高質(zhì)量的進(jìn)行。

[0054] 其中，第一過漿層7和第一承接層9都與過漿外殼4之間具有間隔(其中本實施例中所有的“設(shè)定距離”均表示兩個物體之間沒有接觸，是具有間隔的，而實際的大小可以根據(jù)設(shè)備的實際情況進(jìn)行調(diào)節(jié)，比如第一過漿層7與過漿外殼4之間的間隙可以是10cm，也可以根據(jù)實際情況選擇為15cm；第二過漿層11的內(nèi)壁與第一承接層9之間的距離可以是8cm，也可以根據(jù)實際情況選擇為12cm，在此不一一贅述)，這樣被過濾了一次的液體在第一過漿層7的底部流下后，流下到了第二過漿層11上，并受到了第二過漿層11的過濾；同時由于本申請中第一過漿孔8的直徑是小于第二過漿孔12的直徑的，所以第一過漿孔8主要是用于通過大部分的液體以及直徑較小的顆粒，然后第二過漿孔12進(jìn)行過濾的時候，首先需要過濾的總體較少，其次第二過漿孔12直徑較大，所以主要用于將直徑較大的雜質(zhì)過濾出來，而滿足使用條件的液體和顆粒，還是通過第二過漿孔12透過了第二過漿層11；

[0055] 其中，未能穿過第二過漿孔12的顆粒物，在重力的作用下沿著第二過漿層11的內(nèi)壁活動到最底部位置處，之后在出雜管14的導(dǎo)向作用下落出到過漿外殼4，可以在出雜管14的底部下方設(shè)置器皿進(jìn)行承接；而經(jīng)過了第一過漿層7的液體以及細(xì)小顆粒，沿著出液管10流出到外部，同樣也可以通過器皿進(jìn)行承接；同時通過了第二過漿層11的液體和稍大點的顆粒物，在第二承接層13的導(dǎo)向作用下，流入到了引流管15中，然后通過傾斜的引流管15直接并流到了出液管10中；不僅如此，在出雜管14的底部還開設(shè)有落液孔16，這樣粘附在大的雜質(zhì)顆粒上的液體還是能夠再次通過落液孔16流出到出雜管14的外部，然后滴落到第二承接層13中，也可以一并流入到引流管15中，從而最大程度上保證了液體的利用率。[0056] 本實施例優(yōu)選的方案中，出雜管14位于第二承接層13中的部分是C字形或L字形的(如圖5所示)，同時落液孔16是位于C字形或L字形的底部上，這樣雜質(zhì)在向下運動的過程中，當(dāng)運動到轉(zhuǎn)折處的時候，顆粒物以及顆粒物上的液體就都會產(chǎn)生離心作用，可以加大液體與顆粒物的分離效果，進(jìn)一步的保證了液體的回收效果。[0057] 阻擋圈17能夠不影響落液孔16中的液體正常的流下，但是其可以阻擋上面的液體滴落后，蔓延進(jìn)入到落液孔16中，即可以防止第二過漿孔12中的液體滴落進(jìn)入到落液孔16中。同時落液孔16的直徑是等于或小于第二過漿孔12的，這樣過過濾出來的雜質(zhì)也不會通過落液孔16，保證了過濾質(zhì)量。[0058] 第二過漿層11和第二承接層13的周緣都是直接連接在過漿外殼4的內(nèi)壁上的，具有足夠長的連接長度，因此第二過漿層11和第二承接層13就各自具有足夠的位置穩(wěn)定性；同時第二過漿層11的內(nèi)壁上呈發(fā)散狀豎直設(shè)置有多個支撐限位板18，而支撐限位板18又是與第一承接層9固定連接的，這樣首先保證了第一承接層9以及第一過漿層7位置的穩(wěn)定性；

同時由于支撐限位板18的頂部高于第一過漿層7的內(nèi)壁，且低于第一承接層9的內(nèi)壁，所以在整個過漿外殼4在振動的時候，首先支撐限位板18不影響液體和細(xì)小的顆粒通過第一過漿層7，其次高于第一承接層9內(nèi)壁部分的支撐限位板18能夠?qū)^濾下來的液體和細(xì)小顆粒起到一個限位的作用，減小了在振動過程中，液體物料和細(xì)小顆粒物料到處飛濺，甚至是沖出第一過漿孔8，即支撐限位板18使得過濾出來的液體和細(xì)小顆粒能夠穩(wěn)定的流下到第一承接層9的底部，然后從出液管10中流出；

[0059] 同時位于第二過漿層11與第一承接層9之間的支撐限位板18部分，也能夠?qū)ξ锪掀鸬揭粋€限位的作用，從而使得物料能夠受到支撐限位板18的阻擋之后，分布在各個空間中，可以各自的受到第二過漿層11的過濾，而不會出現(xiàn)物料集中的情況(物料集中后，集中處無法獲得高質(zhì)量的過濾，而缺少物料的地方則處于閑置狀態(tài))，保證了過濾能夠高效的進(jìn)行。同時在振動過程中，支撐限位板18也能夠?qū)⒁后w打散，將物料打碎，從而使得物料的利用率更高。[0060] 不僅如此，在實際使用的時候，第二過漿層11與第一承接層9之間的間距較小，這樣在振動的過程中，第一承接層9的底部還能夠防止雜質(zhì)和液體或細(xì)小顆粒過度的振動，使得雜質(zhì)、液體和細(xì)小顆粒能夠能夠更好的受到第二過漿孔12的過濾，同時第一承接層9的外壁還會施加給物料一個打擊作用，將液體打散，更好的通過第二過漿孔12，同時也可以將一些接近分散的顆粒打破，從而使得物料的利用率更高。而第二承接層13和第二過漿層11之間的距離就較大，較為優(yōu)選的是，第二承接層13與出液管10的連接處位于出液管10與第二過漿層11的連接處(出液管10穿過了第二過漿層11并與第二過漿層11固定連接)和出液管10與過將殼體的連接處的中間位置，同樣出雜管14也是，這樣第二承接層13對出液管10和出雜管14的支撐作用就是最好的。

[0061] 需要說明的是，本說明書中各個實施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。[0062] 上述描述僅是對本發(fā)明較佳實施例的描述，并非對本發(fā)明范圍的任何限定，本發(fā)明領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)上述揭示內(nèi)容做的任何變更、修飾，均屬于權(quán)利要求書的保護(hù)范圍。