本發(fā)明公開了一種μ子成像方法,包括:步驟A,μ子從待成像物體的上方入射至待成像物體;步驟B,獲得所有的重建μ子徑跡,各重建μ子徑跡是指在待成像物體上方檢測到的滿足條件t2?t1≤ΔT的μ子徑跡段,其中,t1為在待成像物體上方檢測到μ子入射的時(shí)刻點(diǎn),t2為在待成像物體側(cè)周檢測到γ光的時(shí)刻點(diǎn),ΔT為設(shè)定值;步驟C,基于重建μ子徑跡,分別獲得待成像物體的俯視圖、正視圖和側(cè)視圖。本發(fā)明彌補(bǔ)了現(xiàn)有μ子成像技術(shù)無法對中低Z、小體積物質(zhì)成像的技術(shù)空缺,實(shí)現(xiàn)了對中低Z、小體積物質(zhì)的清晰成像,且可應(yīng)用于醫(yī)學(xué)成像領(lǐng)域,用于對人體的組織和骨骼進(jìn)行“無損”成像,可解決人工放射源產(chǎn)生的一系列問題。
聲明:
“μ子成像方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)