本實用新型涉及等離子化學氣相沉積技術領域,公開了壓力控制系統(tǒng)及應用了該壓力控制系統(tǒng)的等離子體沉積設備。其中,壓力控制系統(tǒng)包括:與真空腔體通過真空管道連接的
真空泵,真空管道上設置有電控制閥門;用于測量真空腔體的真空度的真空計,真空計和電控制閥門通過可編程序控制器通信連接。本實用新型所提供的壓力控制系統(tǒng)能夠自發(fā)調節(jié)真空腔體內的壓力,使得氣壓保持在一定范圍內。
聲明:
“壓力控制系統(tǒng)和等離子體沉積設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)