本發(fā)明公開在鎂合金表面通過微弧氧化工藝制備低吸收高發(fā)射熱控涂層的方法,該方法的工藝流程包括:氧化前檢查→有機(jī)溶劑除油→化學(xué)除油→熱水洗→純水洗→微弧氧化→冷水洗→純水洗→干燥→包裝,其中,在熱控微弧氧化步驟中:電解液由以下成分組成:硅酸鈉10-15g/L,氫氧化鉀2-5g/L,氟化鈉0.5-2g/L,氟鋯酸鉀1-5g/L,酒石酸鉀1-10g/L;工藝參數(shù)如下:電流密度4-6A/dm2,頻率400-600Hz,占空比30-50%,時(shí)間60-90min,溫度10-30℃。由此,可以得到的熱控涂層的發(fā)射率不低于0.86,太陽吸收率不大于0.35,均勻致密,與基體結(jié)合力好,同時(shí)具有良好的耐蝕性。
聲明:
“在鎂合金表面通過微弧氧化工藝制備低吸收高發(fā)射熱控涂層的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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