本發(fā)明公開(kāi)一種化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)中拋光墊與拋光盤之間的氣泡的監(jiān)測(cè)方法,包括步驟:聲波檢測(cè)裝置發(fā)射進(jìn)入拋光墊上晶片運(yùn)行軌跡處的聲波;接收從拋光墊上晶片運(yùn)行軌跡處返回的回波;分析回波延遲,監(jiān)測(cè)是否出現(xiàn)氣泡和出現(xiàn)的氣泡大小;顯示監(jiān)測(cè)結(jié)果;根據(jù)監(jiān)測(cè)結(jié)果產(chǎn)生控制化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)運(yùn)行的命令信號(hào);控制化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)運(yùn)行的命令信號(hào)發(fā)送到化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng),由此控制化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)運(yùn)行。
聲明:
“拋光墊與拋光盤之間的氣泡檢測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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