本發(fā)明提供了一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備硅片清洗裝置,涉及化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。具有硅片定位托,硅片定位托固定在中心板上,中心板上設(shè)有硅片定位托起及復(fù)位裝置,并設(shè)有硅片旋轉(zhuǎn)裝置。本發(fā)明很好解決了現(xiàn)有技術(shù)中長(zhǎng)期存在且一直未解決的問(wèn)題,采用此裝置可以實(shí)現(xiàn)硅片的準(zhǔn)確定位、可靠清洗及復(fù)位,使硅片得到高潔凈度和高效的清洗效果,少報(bào)廢,降低成本;用途廣,適用于晶體管和集成電路生產(chǎn)的各工序中硅片的清洗,尤其適用于化學(xué)機(jī)械拋光后的硅片清洗,不僅可以大大提高硅片拋光片表面的潔凈度,而且可以更好地服務(wù)于拋光后的終點(diǎn)檢測(cè)。
聲明:
“化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備硅片清洗裝置” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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