本發(fā)明公開了一種終點(diǎn)檢測精度高的化學(xué)機(jī)械拋光墊、制備方法及其應(yīng)用,所述化學(xué)機(jī)械拋光墊具有獨(dú)特的類“三明治”結(jié)構(gòu)的檢測窗,包括頂層、中間層和底層,所述中間層由高折射率材料構(gòu)成,保證了拋光過程中具有較高的終點(diǎn)檢測精度,所述頂層與底層結(jié)構(gòu)保證了拋光過程中的窗口塊體與其他部分的拋光層具有相似的拋光性能及壓縮性能。本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械拋光墊具有終點(diǎn)檢測精度高、拋光缺陷少等優(yōu)點(diǎn),適用于磁性基片、光學(xué)基片或半導(dǎo)體基片的化學(xué)機(jī)械拋光。
聲明:
“終點(diǎn)檢測精度高的化學(xué)機(jī)械拋光墊、制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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