一種間斷式真空爐坩堝支撐環(huán),包括環(huán)形的坩堝支撐環(huán)(1),設在坩堝支撐環(huán)(1)上端內(nèi)側(cè)的支撐環(huán)凸臺(2),在坩堝支撐環(huán)(1)內(nèi)部形成的支撐環(huán)腔體(3)。本實用新型的有益效果是:使得坩堝的受熱面積增加,坩堝底部全部進入發(fā)熱板輻射范圍,減小了坩堝由于受熱面積過小造成應力不均勻,延長了坩堝壽命。坩堝外徑約等于甚至可以小于支撐環(huán)內(nèi)孔直徑,在坩堝同等大小的情況下可以使用面積更大功率更高的發(fā)熱板,使得蒸餾溫度增加,從而可以對高沸點合金進行蒸餾。
聲明:
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