權(quán)利要求書: 1.一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,包括底座(1)、支撐柱(2)和橫柱(3),其特征在于:所述底座(1)的下端面上設(shè)有若干個(gè)滑輪(4),所述支撐柱(2)垂設(shè)在底座(1)的一側(cè)上,所述橫柱(3)的一端設(shè)在支撐柱(2)的上端,的另一端設(shè)有探頭組件(5),所述底座(1)上設(shè)有射線口(11),所述射線口(11)的上端口處設(shè)有定位板(6),所述定位板(6)上開設(shè)有與射線口(11)連通的導(dǎo)孔(61),所述導(dǎo)孔(61)設(shè)有防護(hù)透鏡(7),導(dǎo)孔(61)的上端口處設(shè)有凹位(611),所述凹位(611)上設(shè)有密封環(huán)槽(612),所述防護(hù)透鏡(7)設(shè)有與凹位(611)銜接的凸位(71),所述凸位(71)上設(shè)有緊貼于密封環(huán)槽(612)的密封環(huán)凸(72)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述定位板(6)的兩側(cè)分別設(shè)有第一平臺(tái)(8)和第二平臺(tái)(9),且第一平臺(tái)(8)和第二平臺(tái)(9)的高度大于定位板(6)的高度。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述防護(hù)透鏡(7)設(shè)有螺接部(73),所述螺接部(73)與導(dǎo)孔(61)相螺接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述橫柱(3)與底座(1)相平行。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述底座(1)靠近支撐柱(2)的一端設(shè)有推拉板(12),且推拉板(12)與支撐柱(2)之間的底座(1)上預(yù)留有置空位(10)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述探頭組件(5)包括防護(hù)柱體(51)、防護(hù)蓋板(52)和防護(hù)插板(53),所述防護(hù)柱體(51)焊接在橫柱(3)上,防護(hù)柱體(51)與橫柱(3)之間設(shè)有連通的導(dǎo)線口(20),所述防護(hù)蓋板(52)與防護(hù)柱體(51)的上端口螺接,所述防護(hù)柱體(51)的下端口設(shè)有對(duì)稱的卡位凸(511),所述防護(hù)插板(53)設(shè)有與卡位凸(511)對(duì)應(yīng)的卡接槽(531)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述卡位凸(511)和卡接槽(531)的截面均呈“T”字型。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于X射線測(cè)厚儀的定位架,其特征在于:所述防護(hù)柱體(51)上設(shè)有扶手(30)。 說明書:
聲明:
“用于X射線測(cè)厚儀的定位架” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)