權(quán)利要求書: 1.一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,包括進(jìn)料口(1)、金屬筒體(2)、球襯(3)、固定螺栓(4)和出料口(5),所述球襯(3)通過固定螺栓(4)固定在金屬筒體(2)的內(nèi)側(cè)壁上,其特征在于,所述球襯(3)包括低球襯(301)和高球襯(302),所述低球襯(301)和高球襯(302)交替設(shè)置,所述低球襯(301)和所述高球襯(302)均為沿著所述金屬筒體(2)軸向螺旋一定的角度設(shè)置,兩條相鄰的高球襯(302)和一條低球襯(301)之間形成一條螺旋的凹槽(303)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,其特征在于,所述高球襯(302)的橫截面為方形或弧形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,其特征在于,所述低球襯(301)和高球襯(302)分別為沿著所述金屬筒體(2)的一端到另一端整體成型,或所述低球襯(301)和高球襯(302)分別為沿著所述金屬筒體(2)的一端到另一端多節(jié)分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,其特征在于,所述低球襯(301)與其相鄰的一個(gè)高球襯(302)一體成型。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,其特征在于,所述低球襯(301)和高球襯(302)的螺旋方向與所述金屬筒體(2)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向一致。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,其特征在于,所述凹槽(303)的寬度為50?200cm,深度為5?20cm。
說明書: 一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型涉及陶瓷原料加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體。
背景技術(shù)[0002] 在陶瓷生產(chǎn)過程中,需要使用球磨機(jī)通過球石間不斷的擠壓作用力將陶瓷原料研磨破碎到合適的細(xì)度,制備漿料。傳統(tǒng)的間歇式球磨機(jī)因其占地面積大、運(yùn)轉(zhuǎn)率低、能耗高,
無法達(dá)到連續(xù)化生產(chǎn)的目的,已逐步被連續(xù)式球磨機(jī)所取代。
[0003] 現(xiàn)有的連續(xù)式球磨機(jī)筒體為均勻圓柱體式結(jié)構(gòu),包括進(jìn)料口、金屬筒體、固定螺栓、球襯、出料口。球襯均勻分布在筒體的內(nèi)壁,內(nèi)表面光滑。連續(xù)式球磨機(jī)采用溢流的方式
出料,在球石研磨原料的過程中,由于不斷添加原料,漿料向出料口溢出,使得球石隨著漿
料作用力也逐漸向出料口方向橫向運(yùn)動(dòng)積聚,導(dǎo)致球石的分布不均,使得球石較少的一端
研磨效率降低,影響研磨效果,且球石分布不均時(shí)間久了導(dǎo)致球襯在球石聚集的一端發(fā)生
的磨損比另一端嚴(yán)重,導(dǎo)致球襯一頭大一頭小,也影響最終的研磨效果。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004] 為了解決在研磨過程中球石隨著漿料作用力逐漸向出料口方向橫向運(yùn)動(dòng)積聚,導(dǎo)致球石在研磨過程中分布不均的問題,本實(shí)用新型提供了一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行
過程中均勻分布的筒體,具體技術(shù)方案如下:
[0005] 一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,包括進(jìn)料口、金屬筒體、球襯、固定螺栓和出料口,所述球襯通過固定螺栓固定在金屬筒體的內(nèi)側(cè)壁上,所述球襯包
括低球襯和高球襯,所述低球襯和高球襯交替設(shè)置,所述低球襯和高球襯均為沿著所述金
屬筒體軸向螺旋一定的角度設(shè)置,兩條相鄰的高球襯和一條低球襯之間形成一條螺旋的凹
槽。
[0006] 進(jìn)一步的,所述高球襯的橫截面為方形或半圓形或弧形。[0007] 進(jìn)一步的,所述低球襯和高球襯分別為沿著所述金屬筒體的一端到另一端整體成型,或所述低球襯和高球襯分別為沿著所述金屬筒體的一端到另一端多節(jié)分布。
[0008] 進(jìn)一步的,所述低球襯與其相鄰的一個(gè)高球襯一體成型。[0009] 進(jìn)一步的,所述低球襯和高球襯的螺旋方向與所述金屬筒體的轉(zhuǎn)動(dòng)方向一致。[0010] 進(jìn)一步的,所述凹槽的寬度為50?200cm,深度為5?20cm。[0011] 本實(shí)用新型的有益效果為:[0012] 1、本實(shí)用新型通過高球襯和低球襯的交替設(shè)置形成多條具有一定螺旋的凹槽,球石在螺旋的凹槽的作用下,在被螺旋的凹槽帶起的后,在重力、離心力以及螺旋的凹槽的作
用下,球石向進(jìn)料口方向拋射下落或滾下,也即具有使球石往進(jìn)料口方向驅(qū)動(dòng)的作用,使得
球石分布更為均勻,解決了在研磨過程中球石分布不均導(dǎo)致的研磨效率差、出料口一段的
球襯磨損過快等問題,且延長了球襯的使用壽命;
[0013] 2、陶瓷原料中粗顆粒也會(huì)隨著螺旋的凹槽的循環(huán)滾動(dòng),在金屬筒體內(nèi)循環(huán)研磨,不會(huì)過早地從出料口中流出,使得陶瓷原料得到充分球磨,提高了球磨的效率和漿料均勻
性。
附圖說明[0014] 為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案,以下將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。
[0015] 圖1為本實(shí)用新型的連續(xù)球磨機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。[0016] 圖2為本實(shí)用新型的金屬筒體的結(jié)構(gòu)示意圖。[0017] 圖3為本實(shí)用新型的金屬筒體的正切面示意圖。[0018] 圖4為本實(shí)用新型的金屬筒體優(yōu)選的實(shí)施例的側(cè)切面示意圖。[0019] 圖5為本實(shí)用新型的金屬筒體另一種優(yōu)選的實(shí)施例的側(cè)切面示意圖。[0020] 圖中所示標(biāo)號分別表示:1:進(jìn)料口;2:金屬筒體;3:球襯;301:低球襯;302:高球襯;303:凹槽;4固定螺栓;5出料口。
具體實(shí)施方式[0021] 下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的
實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下
所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0022] 實(shí)施例1[0023] 本優(yōu)選的實(shí)施例提供一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,如圖1至圖4所示,一種能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體,包括進(jìn)料口1、金
屬筒體2、球襯3、固定螺栓4和出料口5,進(jìn)料口1和出料口5分別位于金屬筒體2的兩端并與
金屬筒體2的內(nèi)部連通,球襯3通過固定螺栓4固定在金屬筒體2的內(nèi)側(cè)壁上,球襯3包括低球
襯301和高球襯302,高球襯302的高度要高于低球襯301,低球襯301和高球襯302交替設(shè)置,
低球襯301和高球襯302均沿著金屬筒體2軸向螺旋一定的角度設(shè)置,兩條相鄰的高球襯302
和它們中間的一條低球襯301之間形成一條螺旋的凹槽303。
[0024] 在優(yōu)選的實(shí)施例中,高球襯302的橫截面為弧形,高球襯302一側(cè)與金屬筒體2的內(nèi)側(cè)壁匹配接觸并通過固定螺栓4固定,另一側(cè)為弧形凸起。低球襯301的一側(cè)同樣與金屬筒
體2的內(nèi)側(cè)壁匹配接觸并通過固定螺栓4固定,另一側(cè)為弧形或平面的凸起,只不過凸起高
度低于高球襯302,也即在螺旋延伸的低球襯301和高球襯302的結(jié)構(gòu)作用下,兩條相鄰的高
球襯302和一條低球襯301之間形成一條螺旋的凹槽303,凹槽303的寬度要大于球石的直
徑,以使得凹槽303能夠臨時(shí)容納球石,且通過設(shè)置低球襯301和高球襯302,以及低球襯301
和高球襯302之間的凹槽303,使得球石在金屬筒體2轉(zhuǎn)動(dòng)的過程中被向上帶起。
[0025] 在優(yōu)選的實(shí)施例中,如圖4所示,低球襯301和高球襯302分別沿著金屬筒體2的一端到另一端多節(jié)分布,多節(jié)分布的低球襯301和高球襯302分別在其螺旋方向上延長,以形
成一條從金屬筒體2的一端到另一端的結(jié)構(gòu),多節(jié)的低球襯301和高球襯302在節(jié)與節(jié)之間
可以相接觸或者具有一個(gè)較小的間隙。
[0026] 在其他的優(yōu)選的實(shí)施例中,低球襯301和高球襯302分別沿著金屬筒體2的一端到另一端整體成型,此時(shí)如圖5所示。
[0027] 在優(yōu)選的實(shí)施例中,低球襯301與其相鄰的一個(gè)高球襯302一體成型,以實(shí)現(xiàn)更為穩(wěn)固的結(jié)構(gòu),也便于整體的安裝維護(hù)。
[0028] 在優(yōu)選的實(shí)施例中,低球襯301和高球襯302的螺旋方向與金屬筒體2轉(zhuǎn)動(dòng)方向一致,由于重力和離心力以及螺旋的凹槽303的作用下,使得球石在金屬筒體2轉(zhuǎn)動(dòng)過程中向
進(jìn)料口1處傳動(dòng)。
[0029] 在優(yōu)選的實(shí)施例中,凹槽303的寬度為50?200cm,深度為5?20cm。合理的寬度以及深度能夠便于球石的帶起以及在金屬筒體2轉(zhuǎn)動(dòng)中能夠?qū)η蚴幸欢ǖ淖钃踝饔?,以使?br>
拋射下落或滾下的球石能夠具有往進(jìn)料口方向運(yùn)動(dòng)的趨勢,阻緩球石靠近出料口5的速度,
以使得球石分布更為均勻。當(dāng)然,同時(shí)低球襯301和高球襯302應(yīng)該分別具有合理的厚度,以
避免磨損過快而需要經(jīng)常更換。
[0030] 本實(shí)用新型的工作原理為:[0031] 陶瓷原料、球石由進(jìn)料口1裝入金屬筒體2內(nèi),當(dāng)金屬筒體2在高速運(yùn)轉(zhuǎn)的過程中,部分球石和較粗的陶瓷原料顆粒位于低球襯301和高球襯302之間的凹槽303內(nèi)并被凹槽
303帶起,當(dāng)被帶到一定的高度時(shí)候,球石和陶瓷原料的重力大于離心力,球石和陶瓷原料
從凹槽303中拋射下落或滾下,下落的球石和陶瓷原料由于沖擊力將金屬筒體2內(nèi)的底部的
物料給擊碎,以實(shí)現(xiàn)研磨,且由于凹槽303呈螺旋狀,具有使球石往進(jìn)料口方向驅(qū)動(dòng)的作用,
減緩了球石從金屬筒體2的進(jìn)料口1到出料口5的過程,并使球石在分布更加均勻,解決了在
研磨過程中球石分布不均導(dǎo)致的研磨效率差的問題,并同時(shí)解決因球石分布不均導(dǎo)致的球
石較多的位置(出料口附近)球襯磨損過快的問題,且延長了球襯的使用壽命;同時(shí),凹槽
303能夠使得陶瓷原料中粗顆粒得到更加均勻的相互撞擊和摩擦,在金屬筒體2內(nèi)循環(huán)研
磨,不會(huì)過早地從出料口5中流出,使得原來得到充分球磨,提高了球磨的效率和漿料均勻
性。
[0032] 本實(shí)用新型不局限于以上所述的具體實(shí)施方式,以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施案例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何
修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
聲明:
“能讓球石在連續(xù)球磨機(jī)運(yùn)行過程中均勻分布的筒體” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)