權(quán)利要求書： 1.一種三相復(fù)合清洗膜處理設(shè)備，包括反應(yīng)膜池，其特征在于，所述反應(yīng)膜池內(nèi)設(shè)置有多組板式陶瓷膜片，所述反應(yīng)膜池一側(cè)上端設(shè)置有污水進(jìn)水口，多組所述板式陶瓷膜片分別平行安裝于所述反應(yīng)膜池內(nèi)，所述板式陶瓷膜片上端接口安裝有水支管，所述水支管上端設(shè)置有負(fù)壓總管，所述水支管與所述負(fù)壓總管連接，所述水支管通過支架安裝于所述反應(yīng)膜池上端，所述支架上端安裝有排污回流裝置，所述排污回流裝置包括顆粒分離機(jī)構(gòu)和排泥機(jī)構(gòu)，所述顆粒分離機(jī)構(gòu)包括分離管和分離器，所述分離器與所述分離管連接，所述排污回流裝置與抽吸總管活動(dòng)連接，所述排污回流裝置安裝于所述支架上端的滑動(dòng)裝置上，所述滑動(dòng)裝置安裝于反應(yīng)膜池兩端的支撐板上，所述支撐板固定連接于所述反應(yīng)膜池上，所述支撐板上端固定連接有滑動(dòng)裝置，所述反應(yīng)膜池底部設(shè)置有多組穿孔氣洗管，所述穿孔氣洗管與所述板式陶瓷膜片間歇設(shè)置。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種三相復(fù)合清洗膜處理設(shè)備，其特征在于，所述滑動(dòng)裝置包括下滑軌和上滑塊，所述下滑軌與上滑塊滑動(dòng)連接，所述上滑塊上端連接排污回流裝置，所述上滑塊一側(cè)設(shè)置有移動(dòng)電機(jī)，所述移動(dòng)電機(jī)通過轉(zhuǎn)軸與所述上滑塊連接。 3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種三相復(fù)合清洗膜處理設(shè)備，其特征在于，所述分離器下端安裝分離管，所述分離管固定安裝于所述滑動(dòng)裝置一側(cè)，所述分離管伸入所述反應(yīng)膜池內(nèi)的板式陶瓷膜片上端，所述分離管與所述負(fù)壓總管垂直設(shè)置。 4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種三相復(fù)合清洗膜處理設(shè)備，其特征在于，所述穿孔氣洗管包括內(nèi)管與外管，所述內(nèi)管嵌于所述外管內(nèi)，所述內(nèi)管包括上封閉圓板、前擋板和后擋板，所述前擋板和后擋板下端安裝有連接圓套，所述前擋板與所述后擋板嵌入所述外管內(nèi)，所述外管下端與所述連接圓套連接，所述上封閉圓板與所述外管上端固定連接。 5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種三相復(fù)合清洗膜處理設(shè)備，其特征在于，所述外管的外壁左側(cè)與右側(cè)設(shè)置有噴射孔，所述噴射孔設(shè)置于所述前擋板與所述后擋板之間，所述噴射孔設(shè)置在外管壁上呈順時(shí)針方向切線傾斜設(shè)置。 6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種三相復(fù)合清洗膜處理設(shè)備，其特征在于，所述反應(yīng)膜池內(nèi)放置有污水和擦洗顆粒，所述擦洗顆粒為樹脂實(shí)心顆粒，所述擦洗顆粒為球狀顆粒，所述球狀顆粒周圈設(shè)置有擦除凸起，所述擦除凸起為梯形圓柱形狀，所述擦除凸起均勻設(shè)置于所述