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真空鍍膜機用成型鍍膜靶材

867 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-18 14:59:02

本實用新型涉及一種適用于真空鍍膜機使用的鍍制各種光學薄膜的成型鍍膜靶材。該靶材采用與真空鍍膜機坩堝內壁形狀相符的成型塊狀結構,其結構形狀為:柱狀、圓臺狀、錐臺狀、環(huán)狀、半環(huán)狀、扇環(huán)狀、盤狀,是由超細粉狀的鍍膜材料經高壓成型后真空燒結而制成。該靶材具有密度高、晶粒細小均勻的特點,由于采用的是整體成型塊狀,因此使用時間長,能夠適應長時間地鍍制多層光學薄膜,而且在真空鍍膜后,膜厚均勻一致,重現性好,便于實現穩(wěn)定批量生產。該鍍膜靶材在使用中更換方便,能夠提高鍍膜效率,提高成品率,降低生產成本,特別適用于高品質、高精度光學產品的鍍膜。

聲明：

“真空鍍膜機用成型鍍膜靶材” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)