權(quán)利要求書(shū)： 1.一種用于離心分離機(jī)的盤(pán)組(13)，包括第一組分離盤(pán)(1)、第二組分離盤(pán)(6)，其中所述第一組和所述第二組的各個(gè)分離盤(pán)設(shè)有具有表面的分離部分(2,2')，所述表面相對(duì)于徑向方向傾斜，其中所述第一組和所述第二組的分離盤(pán)以離彼此的一距離圍繞旋轉(zhuǎn)軸線(X)同軸地布置，使得形成每?jī)蓚€(gè)相鄰分離盤(pán)之間的通路，其中所述第一組的分離盤(pán)具有外徑A或以下，其中所述第二組的分離盤(pán)具有外徑B或以上，其中直徑B大于直徑A，其中所述第一組的至少兩個(gè)分離盤(pán)布置在所述第二組的每?jī)蓚€(gè)分離盤(pán)之間，其中所述第一組的每個(gè)分離盤(pán)設(shè)有呈縫隙(5)形式的切口，其朝分離盤(pán)的外半徑開(kāi)放，其中所述第二組的每個(gè)分離盤(pán)設(shè)有呈孔(8)形式的切口，其朝分離盤(pán)的外半徑閉合，并且其中所述切口(5,8)布置成使得將待分離的流體流分送穿過(guò)所述盤(pán)組并且在所述盤(pán)組上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤(pán)組，其特征在于，直徑B比直徑A大3%到15%，或者其中直徑B比直徑A大14到50mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤(pán)組，其特征在于，直徑B比直徑A大5%到12%。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤(pán)組，其特征在于，直徑B比直徑A大20到30mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的盤(pán)組，其特征在于，所述第二組的各個(gè)分離盤(pán)具有形成在所述直徑A的徑向外側(cè)的邊沿部分(7)，所述邊沿部分具有與所述徑向方向的傾斜，所述傾斜不同于所述分離表面的傾斜。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的盤(pán)組，其特征在于，所述邊沿部分與所述徑向方向的角小于45度。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盤(pán)組，其特征在于，所述邊沿部分與所述徑向方向的角小于30度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盤(pán)組，其特征在于，所述邊沿部分與所述徑向方向的角小于15度。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盤(pán)組，其特征在于，所述邊沿部分與所述徑向方向的角為零度。

10.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的盤(pán)組，其特征在于，所述第一組的3到5個(gè)分離盤(pán)布置在所述第二組的每?jī)蓚€(gè)分離盤(pán)之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的下部(D)在沿所述分離盤(pán)的分離表面的底座的方向的所述組的端部處僅設(shè)有所述第一組的分離盤(pán)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的下部(D)為所述盤(pán)組的至少

20%。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的下部(D)為所述盤(pán)組的至少

25%。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的下部(D)為所述盤(pán)組的至少

30%。

15.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的上部(E)在沿所述分離盤(pán)的分離表面的頂部的方向的所述組的端部處僅設(shè)有所述第一組的分離盤(pán)。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的上部(E)為所述盤(pán)組的至少

15%。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的上部(E)為所述盤(pán)組的至少

20%。

18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的盤(pán)組，其特征在于，所述盤(pán)組的上部(E)為所述盤(pán)組的至少

25%。

19.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的盤(pán)組，其特征在于，所述組中的第二組的分離盤(pán)的數(shù)量小于所述組中的分離盤(pán)的總數(shù)的30%。

20.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的盤(pán)組，其特征在于，所述第一組的各個(gè)分離盤(pán)的傾斜分離表面延伸至所述分離盤(pán)的外徑(A)。

21.一種離心分離機(jī)，包括包圍分離空間(12)的轉(zhuǎn)子(10)，根據(jù)權(quán)利要求1?20中任一項(xiàng)所述的盤(pán)組布置在所述分離空間(12)中。

說(shuō)明書(shū)： 用于離心分離機(jī)的盤(pán)組技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明涉及用于離心分離機(jī)的盤(pán)組，其包括多個(gè)分離盤(pán)，各個(gè)均設(shè)有分離表面，該分離表面相對(duì)于徑向方向傾斜，并且其中分離盤(pán)以離彼此的一距離圍繞旋轉(zhuǎn)軸線同軸地布

置，使得在每?jī)蓚€(gè)相鄰的分離盤(pán)之間形成通路。本發(fā)明還涉及包括此類盤(pán)組的離心分離機(jī)。

背景技術(shù)[0002] 從離心分離機(jī)發(fā)展的早期起，就已知向盤(pán)組中的各個(gè)分離盤(pán)提供在盤(pán)的截頭圓錐部分的徑向外側(cè)延伸的邊沿，以便改進(jìn)盤(pán)的機(jī)械穩(wěn)定性，例如，見(jiàn)SE22981。

[0003] 具有設(shè)有在盤(pán)疊堆的分離盤(pán)的其余部分外側(cè)沿徑向延伸的邊沿的單個(gè)分離盤(pán)的盤(pán)疊堆也是之前已知的，見(jiàn)SE227107。這用于將盤(pán)疊堆分成其中優(yōu)化輕相的清潔(凈化器操

作模式)的第一區(qū)段，以及其中優(yōu)化重相的清潔(濃縮器操作模式)的第二區(qū)段。

發(fā)明內(nèi)容[0004] 本發(fā)明的目的在于改進(jìn)離心分離機(jī)的分離效率。具體而言，目的在于最小化分離的顆粒再循環(huán)到盤(pán)組的分離盤(pán)之間的分離通路中的風(fēng)險(xiǎn)。上文引用的文獻(xiàn)都未提供對(duì)此的

令人滿意的解決方案。

[0005] 本文描述一種用于離心分離機(jī)的盤(pán)組，其包括第一組分離盤(pán)和第二組分離盤(pán)。第一組和第二組中的各個(gè)分離盤(pán)設(shè)有分離部分，其具有分離表面，該分離表面相對(duì)于徑向方

向傾斜。分離表面可為分離盤(pán)的截頭圓錐部分。分離表面與徑向方向的傾角可在30到50度

的范圍內(nèi)，優(yōu)選大約40度。

[0006] 第一組和第二組的分離盤(pán)以離彼此的一距離圍繞旋轉(zhuǎn)軸線同軸地布置，使得在每?jī)蓚€(gè)相鄰分離盤(pán)之間形成通路。分離盤(pán)優(yōu)選布置成使得盤(pán)組中的分離盤(pán)的傾斜分離部分的

底座部分沿相同的方向面對(duì)。盤(pán)組中的分離盤(pán)可布置成使得待分離的流體在兩組中的任一

個(gè)的每?jī)蓚€(gè)相鄰分離盤(pán)之間的通路中沿徑向向內(nèi)流動(dòng)。

[0007] 第一組的分離盤(pán)具有外徑A或以下，第二組的分離盤(pán)具有外徑B或以上，并且直徑B大于直徑A。第一組的至少兩個(gè)分離盤(pán)布置在第二組的每?jī)蓚€(gè)分離盤(pán)之間。

[0008] 由于其效果，故在盤(pán)組緊接外側(cè)的區(qū)中的分離空間中形成流的風(fēng)險(xiǎn)最小化。具有軸流分量的此類流可具有帶來(lái)已經(jīng)與組分的液體混合物分離的顆粒的非期望效果。因此，

分離的顆粒再循環(huán)到盤(pán)組的分離通路中的風(fēng)險(xiǎn)最小化，并且離心分離機(jī)的分離效率提高。

盤(pán)組還易于制造和組裝。

[0009] 因此，本文描述了一種用于離心分離機(jī)的盤(pán)組，包括第一組分離盤(pán)、第二組分離盤(pán)，其中第一組和第二組的各個(gè)分離盤(pán)設(shè)有具有表面的分離部分，該表面相對(duì)于徑向方向

傾斜，其中第一組和第二組的分離盤(pán)以離彼此的一距離圍繞旋轉(zhuǎn)軸線(X)同軸地布置，使得

形成每?jī)蓚€(gè)相鄰分離盤(pán)之間的通路，其中第一組的分離盤(pán)具有外徑A或以下，其中第二組的

分離盤(pán)具有外徑B或以上，其中直徑B大于直徑A，并且其中第一組的至少兩個(gè)分離盤(pán)布置在

第二組的每?jī)蓚€(gè)分離盤(pán)之間。

[0010] 第一組的分離盤(pán)的外徑可變化，只要它們具有A或以下的外徑。作為備選，第一組的分離盤(pán)具有外徑A。類似地，第二組的分離盤(pán)的外徑可變化，只要它們具有B或以上的外

徑。作為備選，第二組的每個(gè)分離盤(pán)可具有外徑B。

[0011] 直徑B可比直徑A大3%到15%，優(yōu)選5%到12%，或者直徑B可比直徑A大14到50mm，優(yōu)選20到30mm。因此，分離顆粒再循環(huán)到盤(pán)組的分離通路中的風(fēng)險(xiǎn)最小化，同時(shí)保持了盤(pán)組徑向

外側(cè)的用于分離的開(kāi)放空間。

[0012] 第一組和第二組的分離盤(pán)可從公共內(nèi)徑向位置延伸。傾斜的分離部分的徑向范圍和傾斜可在兩組分離盤(pán)上類似，并且在作為整體的盤(pán)組上類似。

[0013] 第二組的分離盤(pán)可具有形成在直徑A的徑向外側(cè)的邊沿部分，該邊沿部分具有與徑向方向的傾斜，其不同于分離部分處的傾斜。邊沿部分的徑向范圍可為直徑A的1.5到

7.5%，優(yōu)選2.5到6%，或者邊沿部分的徑向范圍可為7到25mm，優(yōu)選10到15mm。傾斜的分離表

面的徑向范圍可對(duì)于第一組和第二組中的分離盤(pán)相似。

[0014] 邊沿部分與徑向方向的角可小于45度，優(yōu)選小于30度，更優(yōu)選小于15度，最優(yōu)選為零度。如果角接近零或?yàn)榱悖?，邊沿部分在垂直于旋轉(zhuǎn)軸線的平面中，則邊沿部分用于限

定第一組的分離盤(pán)的徑向外側(cè)的流動(dòng)帶，而不用作分離表面。因此，第二組的各個(gè)分離盤(pán)的

傾斜分離表面可延伸至直徑A。邊沿部分的角可為相同的，或者可在盤(pán)組中的第二組的分離

盤(pán)上變化。

[0015] 邊沿部分可為環(huán)形，并且邊沿部分的表面可為平面，并且形成為圍住分離表面的材料的連續(xù)片，從而提供為基本上沒(méi)有任何孔或凸起。因此，由邊沿部分引起的湍流的量最

小化。

[0016] 可存在布置在第二組的每?jī)蓚€(gè)分離盤(pán)之間的2到10個(gè)，優(yōu)選3到5個(gè)第一組的分離盤(pán)。該構(gòu)造提供了分離盤(pán)的徑向外側(cè)的流動(dòng)帶中的特別有利的流動(dòng)形成。第二組的分離盤(pán)

的總數(shù)對(duì)盤(pán)組中的分離盤(pán)的總數(shù)可低于30%、優(yōu)選低于25%，并且高于5%，優(yōu)選高于10%。更優(yōu)

選的是，第二組的分離盤(pán)的總數(shù)對(duì)盤(pán)組中的分離盤(pán)的總數(shù)在12%到20%的范圍內(nèi)。

[0017] 盤(pán)組的下部在沿分離盤(pán)的分離表面的底座的方向(即，沿分離盤(pán)的分離表面的軸向發(fā)散方向)的組的端部處可僅設(shè)有第一組的分離盤(pán)。盤(pán)組的下部可為盤(pán)組的至少20%、優(yōu)

選至少25%，更優(yōu)選至少30%。在具有82個(gè)盤(pán)的盤(pán)組中，該下部因此可包含18到26個(gè)盤(pán)。類似

地，盤(pán)組的上部在沿分離盤(pán)的分離表面的頂部的方向(即，沿分離盤(pán)的分離表面的軸向收斂

方向)的組的端部處可僅設(shè)有第一組的分離盤(pán)。盤(pán)組的上部可為盤(pán)組的至少15%，優(yōu)選至少

20%，更優(yōu)選至少25%。在具有82個(gè)盤(pán)的盤(pán)組中，該上部因此可包含12到21個(gè)盤(pán)。因此，分離的

顆粒再循環(huán)到盤(pán)組的分離通路中的風(fēng)險(xiǎn)最小化，同時(shí)保持盤(pán)組的軸向端部的部分中的期望

流動(dòng)。

[0018] 第一組的各個(gè)分離盤(pán)的傾斜的分離表面可延伸到分離盤(pán)的外徑。因此，第一組的分離盤(pán)可提供為基本上沒(méi)有任何邊沿部分，使分離表面最大化。

[0019] 各個(gè)分離盤(pán)可設(shè)有切口，其布置成使得將待分離的流體流分送穿過(guò)盤(pán)疊堆并且在盤(pán)疊堆上面。第一組的分離盤(pán)可設(shè)有呈縫隙形式的切口，其為朝分離盤(pán)的外半徑開(kāi)放的切

口。這具有的效果在于切口的區(qū)域中的阻塞的風(fēng)險(xiǎn)最小化。第二組的分離盤(pán)可設(shè)有呈孔形

式的切口，其朝分離盤(pán)的外半徑閉合。這具有的效果在于改進(jìn)較大直徑的分離盤(pán)的機(jī)械性

能，以能夠應(yīng)對(duì)離心力。第一組的分離盤(pán)上的呈縫隙形式的切口和第二組的分離盤(pán)上的呈

孔形式的切口的組合進(jìn)一步最小化第二組的分離盤(pán)上的切口的區(qū)域中的阻塞的風(fēng)險(xiǎn)。

[0020] 本文還描述一種用于分離組分的液體混合物的離心分離機(jī)，其包括包圍分離空間的轉(zhuǎn)子，如所述的盤(pán)組布置在該分離空間中。轉(zhuǎn)子可包括從分離空間的徑向外部的出口，用

于淤渣相的間斷排放。

[0021] 轉(zhuǎn)子的內(nèi)壁可設(shè)有壁部分，其可為錐形，并且第二組的分離盤(pán)可布置成盤(pán)疊堆，使得存在在各個(gè)盤(pán)的外邊沿與轉(zhuǎn)子壁部分之間的至少1mm，優(yōu)選至少1.5mm的通路。

附圖說(shuō)明[0022] 圖1示出了由盤(pán)組中的第一組包括的類型的分離盤(pán)的實(shí)施例。[0023] 圖2示出了由盤(pán)組中的第二組包括的類型的分離盤(pán)的實(shí)施例。[0024] 圖3示出了具有包括第一組分離盤(pán)和第二組分離盤(pán)的盤(pán)組的離心分離機(jī)的一部分的截面。

具體實(shí)施方式[0025] 在圖1中，示出了由盤(pán)組中的第一組包括的類型的分離盤(pán)1，其具有帶內(nèi)分離表面和外分離表面的截頭圓錐分離部分2。分離部分設(shè)有多個(gè)呈長(zhǎng)形堵縫部3形式的距離部件，

提供了距離以形成由分離盤(pán)疊堆形成的組中的每?jī)蓚€(gè)相鄰分離盤(pán)之間的通路。堵縫部緊固

于盤(pán)的截頭圓錐分離部分的外表面，并且圍繞盤(pán)的周邊分布。分離盤(pán)的外徑A為165mm，并且

傾斜的分離表面始終向外延伸至該外徑。因此，分離盤(pán)的徑向外部4為傾斜的分離表面的一

部分。盤(pán)設(shè)有在分離盤(pán)的該徑向外部4處的呈縫隙5形式的多個(gè)切口，該縫隙朝分離盤(pán)的外

半徑敞開(kāi)?？p隙5的數(shù)量對(duì)應(yīng)于堵縫部的數(shù)量，并且縫隙在堵縫部之間圍繞盤(pán)的周邊分布。

[0026] 在圖2中，示出了盤(pán)組中的第二組包括的類型的分離盤(pán)6，其具有帶內(nèi)分離表面和外分離表面的截頭圓錐分離部分2'。分離部分設(shè)有多個(gè)呈長(zhǎng)形堵縫部3'形式的距離部件，

提供了距離以形成由分離盤(pán)疊堆形成的組中的每?jī)蓚€(gè)相鄰分離盤(pán)之間的通路。堵縫部緊固

于盤(pán)的截頭圓錐分離部分的外表面，并且圍繞盤(pán)的周邊分布。分離表面延伸至直徑A，并且

在分離表面的徑向外側(cè)，盤(pán)設(shè)有平邊沿7(即，具有與徑向方向成零度的角)，其延伸至分離

盤(pán)B的外徑。直徑B為185mm，并且因此邊沿的徑向延伸部為L(zhǎng)=(B?A)/2，即，10mm。因此，直徑B

比直徑A大12%。盤(pán)設(shè)有在分離盤(pán)的徑向外部處的呈孔8形式的多個(gè)切口，該切口借助于邊沿

朝分離盤(pán)的外半徑閉合。孔8的數(shù)量對(duì)應(yīng)于堵縫部的數(shù)量，并且孔在對(duì)應(yīng)于第一組中的分離

盤(pán)1的縫隙的位置處圍繞盤(pán)的周邊分布。

[0027] 圖3示出了用于組分的液體混合物的分離的離心分離機(jī)9的一部分，分離機(jī)具有由心軸11(部分地示出)支承的轉(zhuǎn)子10，心軸11圍繞旋轉(zhuǎn)軸線(x)可旋轉(zhuǎn)地布置在框架中。轉(zhuǎn)子

在其自身內(nèi)形成分離室12，盤(pán)組13布置在分離室12中。轉(zhuǎn)子還包括形成在分送器15內(nèi)的入

口室14，靜止的入口管16延伸到分送器15中，用于供應(yīng)待分離的組分的液體混合物。入口室

經(jīng)由形成在轉(zhuǎn)子中的通路17與分離室連通。盤(pán)組件的徑向內(nèi)部與出口18連通用于混合物的

較輕的液體組分。出口18由設(shè)在盤(pán)組13的上軸向端部處的頂部盤(pán)19界定。轉(zhuǎn)子10的頂部盤(pán)

19和上壁部分界定用于混合物的較密的液體組分的通路，通路從分離空間12的徑向外部延

伸至液體混合物的較重的組分的出口20。轉(zhuǎn)子還設(shè)有從分離空間12的徑向外周的出口21，

其用于包括形成淤渣相的較密顆粒的液體混合物的淤渣組分的間斷排放。出口21的開(kāi)啟借

助于由如本領(lǐng)域中已知的操作水促動(dòng)的操作滑板22來(lái)控制。

[0028] 盤(pán)組13包括第一組分離盤(pán)和第二組分離盤(pán)，第一組包括圖1中所示類型的分離盤(pán)1，而第二組包括圖2中所示類型的分離盤(pán)6，其設(shè)有邊沿7。分離盤(pán)借助于堵縫部3,3'以離彼

此的一距離圍繞旋轉(zhuǎn)軸線(x)同軸地布置，使得形成每?jī)蓚€(gè)相鄰分離盤(pán)之間的通路。存在布

置在第二組的每?jī)蓚€(gè)分離盤(pán)之間的第一組的三個(gè)分離盤(pán)。通路從分離盤(pán)的徑向外部延伸至

分離盤(pán)的徑向內(nèi)部。在附圖中，各個(gè)分離盤(pán)之間的距離擴(kuò)大，并且盤(pán)組示意性地示為具有28

個(gè)盤(pán)。典型的盤(pán)組包括82到120個(gè)盤(pán)，并且由堵縫部生成的分離盤(pán)之間的典型距離為0.4到

0.75mm。因此，盤(pán)組中的第二組的分離盤(pán)之間的典型距離H為1.6到4.5mm，優(yōu)選2到4mm。

[0029] 第一組中的分離盤(pán)1上的呈縫隙形式的切口和第二組中的分離盤(pán)6上的呈孔形式的切口在盤(pán)組中對(duì)準(zhǔn)，以形成用于液體混合物的分送通道23。

[0030] 盤(pán)組的下部(即，在沿分離盤(pán)的分離表面的底座的方向且指示為D的組的端部處)僅設(shè)有第一組的分離盤(pán)。該部分為盤(pán)組的高度的25%(示出了28個(gè)分離盤(pán)中的7個(gè))，并且在

典型的盤(pán)組中，該部分為82個(gè)分離盤(pán)中的21到26個(gè)。第二組的第一(下)分離盤(pán)的邊沿的徑

向外端與轉(zhuǎn)子的內(nèi)壁之間的空隙C為至少1.5mm，以提供朝出口21的用于淤渣的通路。類似

地，盤(pán)組的上部(即，在沿分離盤(pán)的分離表面的頂部的方向且指示為E的組的端部處)僅設(shè)有

第一組的分離盤(pán)。第二組的最后(最頂部)的分離盤(pán)的邊沿的徑向外端與轉(zhuǎn)子的內(nèi)壁之間的

空隙F為至少1.5mm。

[0031] 盤(pán)組的實(shí)施例從底部到頂部包括第一組的21個(gè)分離盤(pán)的下部，隨后是第二組的12個(gè)分離盤(pán)，其均具有之間的第一組的三個(gè)分離盤(pán)(即，總共是11*4＋1=45個(gè)分離盤(pán))，以及頂

部上的第一組的16個(gè)分離盤(pán)的上部。因此，第二組分離盤(pán)的總數(shù)對(duì)在此類所示盤(pán)組中的分

離盤(pán)的總數(shù)為12/82，其低于20%，但高于10%。