底部升降爐 228     

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KT-BL 爐底升降爐具有良好的溫度均勻性，便于產(chǎn)品批量生產(chǎn)，其加熱元件布置在爐膛的四面，可形成良好的加熱輻射場；爐底升降爐可配備 2 個電動升降產(chǎn)品裝載臺，操作員可在另一個臺處于加熱室時將產(chǎn)品裝載到第二個臺上，從而大大提高了生產(chǎn)效率。

高溫脫脂和預(yù)燒結(jié)爐 228     

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KT-MD 排膠預(yù)燒結(jié)一體爐廣泛應(yīng)用于各種成型工藝陶瓷材料的排膠和預(yù)燒結(jié)，如氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯和介電陶瓷等精細(xì)陶瓷元件，以及陶瓷粉體材料、磁性材料、LTCC、MLCC、NTC、NFC、陶瓷磁芯等電子元件的排膠、預(yù)燒結(jié)和燒結(jié)一體化工藝。

高壓管式爐 228     

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高壓管式爐是一種專用設(shè)備，用于冶金、玻璃和熱處理等多個行業(yè)，在可控氣氛下加工材料。它采用中頻感應(yīng)加熱來達(dá)到高溫，這對粉末燒結(jié)和金屬變形校正等工藝至關(guān)重要。該爐具有可選的真空或改良?xì)夥赵O(shè)置以及用于精確控溫的高質(zhì)量加熱元件等功能，可確保樣品的完整性并防止污染。

立式管式爐 229     

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垂直管式爐是一種實驗室設(shè)備，用于在受控大氣條件下對材料進(jìn)行高溫處理。它由一根垂直方向的石英管組成，石英管封閉在一個加熱室內(nèi)，可以實現(xiàn)精確的溫度控制和均勻的熱量分布。這些爐子通常用于各種應(yīng)用，包括熱處理、淬火、退火、晶體生長和化學(xué)氣相沉積（CVD）涂層。立式管式爐具有可編程溫度控制器、真空密封功能和用于樣品處理的專用附件等先進(jìn)功能，為材料加工提供了多功能性和精確性。垂直管式爐能夠產(chǎn)生可控氣氛并達(dá)到高溫，是研發(fā)、材料科學(xué)和工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域的重要工具。

加熱管爐 230     

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RTP 快速加熱管爐可在極短的時間內(nèi)加熱到目標(biāo)高溫。它廣泛應(yīng)用于通過 CVD 解決方案對大尺寸石墨烯袍進(jìn)行加熱處理。通過不同的真空泵站設(shè)置，RTP 快速加熱管爐可在可控氣氛環(huán)境和高真空環(huán)境下工作，創(chuàng)建理想的熱處理室。最高加熱速度可達(dá)每秒 100℃，最高冷卻速度可達(dá)每秒 110℃。它有一個用于固定爐管法蘭的滑軌，方便將爐管從加熱保溫室中抽出。溫度傳感器與樣品架接觸，可獲得更精確的溫度控制和指示。

多區(qū)管式爐 227     

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多區(qū)管式爐是一種多功能實驗室設(shè)備，專為高溫應(yīng)用而設(shè)計。它具有多個獨立控制的加熱區(qū)，可實現(xiàn)精確的溫度梯度或均勻加熱。管式爐通常配備高純度石英管或氧化鋁管，用于盛放樣品和加熱。

1400℃帶氧化鋁管的管式爐 163     

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帶氧化鋁管的管式爐是一種實驗室設(shè)備，用于高達(dá) 1500°C 的高溫應(yīng)用。它通常用于研究和工業(yè)環(huán)境中的各種工藝，如材料合成、化學(xué)氣相沉積、真空燒結(jié)和熱處理。該爐由一個加熱元件（通常由碳化硅（SiC）制成）和一個氧化鋁陶瓷管組成。氧化鋁管具有出色的隔熱性能和耐高溫、耐酸堿性。

1200℃ 帶石英管的分體式管式爐 219     

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帶石英管的 1200℃ 分管爐是一種高溫實驗室設(shè)備，設(shè)計用于在惰性氣氛中進(jìn)行精確熱處理。它配備了 30 段可編程溫度控制器，加熱和冷卻速度可達(dá)每分鐘 15°C。該爐的適用溫度高達(dá) 1200°C，包括一個真空泵和氧化鋁陶瓷端塞等附件，可實現(xiàn)均勻的溫度分布。非常適合需要可控環(huán)境和高溫的研究和測試。

氫氣氣氛爐 228     

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氫氣氣氛爐的結(jié)構(gòu)采用了加熱室整體真空密封技術(shù)，隔熱室和加熱元件均內(nèi)置在一個加強(qiáng)型真空室中，其結(jié)構(gòu)類似于真空手套箱的設(shè)計，操作人員可使用真空泵將室內(nèi)空氣吸盡，直至負(fù)壓為-0.1Mpa，然后將惰性氣體涌入室內(nèi)，以達(dá)到良好的可控氣氛環(huán)境。KT-AH 型氫氣氣氛爐是一種感應(yīng)氣體氣氛爐，可使用氫氣進(jìn)行燒結(jié)或退火工藝。氫氣爐的絕緣材料為多晶陶瓷纖維，加熱元件為高純度鉬絲加熱器，爐內(nèi)裝有氫氣安全泄漏檢測器和排放氫氣自動點火裝置。

1200℃ 可控氣氛爐 239     

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可控氣氛爐是一種可將一種或多種氣體引入加熱室的爐子，這些氣體可與被加熱材料發(fā)生反應(yīng)，使其免受空氣中氧氣和水蒸氣的影響。這種爐子有多種用途，包括熱處理、釬焊、焊接和退火。

網(wǎng)帶式可控氣氛爐 217     

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網(wǎng)帶式可控氣氛爐是一種可在露天和可控氣氛環(huán)境中工作的連續(xù)式生產(chǎn)爐。它主要用于厚膜電路、電阻器、電容器和電感器等電子元件的高溫?zé)Y(jié)工藝。該爐采用精選陶瓷纖維加熱器，反應(yīng)迅速，溫度均勻；采用輕質(zhì)陶瓷纖維隔熱材料，能耗低；采用網(wǎng)帶傳動系統(tǒng)，傳動穩(wěn)定；采用多獨立溫度熱區(qū)控制，調(diào)節(jié)靈活。它還可選配網(wǎng)帶超聲波清洗系統(tǒng)和中央計算機(jī)控制裝置。該爐可進(jìn)行定制，以滿足特定的工藝要求，包括氣氛、溫度和產(chǎn)量。

火花等離子燒結(jié)爐 SPS 爐 239     

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火花等離子燒結(jié)（SPS）是一種快速材料制備方法，它利用脈沖電流直接在模具中燒結(jié)材料。它將等離子活化、熱壓和電阻加熱結(jié)合在一起，與傳統(tǒng)燒結(jié)方法相比具有多項優(yōu)勢。SPS 能夠?qū)崿F(xiàn)均勻加熱、高加熱率、低燒結(jié)溫度、短燒結(jié)時間和高生產(chǎn)效率。此外，它還能凈化表面，抑制晶粒生長，有利于生產(chǎn)出均勻、可控的結(jié)構(gòu)。與傳統(tǒng)燒結(jié)法相比，SPS 具有環(huán)保、成本效益高、操作時間短等優(yōu)點。

熱壓爐 282     

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真空熱壓爐是在真空或大氣條件下對材料進(jìn)行加熱和加壓的成套設(shè)備。根據(jù)材料和加熱溫度的不同，加熱元件可采用石墨加熱器、鉬加熱器、感應(yīng)加熱等；加壓方式可采用單向或雙向液壓加壓。

傾斜旋轉(zhuǎn)式管式爐設(shè)備 229     

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KT-PE16 傾斜旋轉(zhuǎn)式 PECVD 爐 PECVD 爐由一個 500W 射頻等離子源、一個雙區(qū) TF-1200 管式爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標(biāo)準(zhǔn)真空站組成。爐子的最高工作溫度可達(dá) 1600℃。工作溫度高達(dá) 1600℃，爐管為直徑 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 1 臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10Pa。

帶液體氣化器的滑動 PECVD 管式爐 186     

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KT-PE12 帶液體氣化器的滑動 PECVD 系統(tǒng)由一個 500W 射頻等離子源、一個 TF-1200 滑動爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標(biāo)準(zhǔn)真空站組成。爐腔軌道滑動系統(tǒng)，可實現(xiàn)快速加熱和快速冷卻，可選配輔助強(qiáng)制空氣循環(huán)風(fēng)扇，加快冷卻速度；可選配滑動自動工作裝置；最高工作溫度可達(dá) 1200℃。工作溫度最高可達(dá) 1200℃，爐管為一根直徑 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為一臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達(dá) 10P。真空壓力可達(dá) 10Pa。

多加熱區(qū) CVD 管式爐 274     

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KT-CTF14 多區(qū) CVD 爐有 2 個加熱區(qū)，最高工作溫度可達(dá) 1200℃，爐管為直徑 60mm 的石英管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達(dá) 10Pa。真空壓力可達(dá) 10Pa。

CVD 管式爐 241     

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帶真空站的分體式 CVD 管式爐是一款多功能、高性能的實驗室設(shè)備，專為化學(xué)氣相沉積 (CVD) 應(yīng)用而設(shè)計。它采用分體式爐腔，便于接觸反應(yīng)樣品和快速冷卻。爐管由高溫石英制成，直徑為 60 毫米。該系統(tǒng)包括一個 4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源氣體，可對氣體流速進(jìn)行精確控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10 Pa。帶真空站的分室 CVD 管式爐具有先進(jìn)的功能和性能，是材料科學(xué)、半導(dǎo)體加工和其他領(lǐng)域各種研發(fā)應(yīng)用的理想選擇。

分體式多加熱區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐 260     

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分體式多加熱區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐是一種高配置旋轉(zhuǎn)爐，具有 2-8 個獨立的加熱區(qū)，每個加熱區(qū)都有自己的熱控制器，可實現(xiàn)出色的溫度控制。它具有旋轉(zhuǎn)和傾斜功能，可無級調(diào)速和調(diào)節(jié)傾斜角度。該爐可在真空和可控氣氛環(huán)境下運(yùn)行，是煅燒、干燥、高溫反應(yīng)、熱處理和熱解等各種應(yīng)用的理想之選。它的優(yōu)點包括溫度分布均勻、能效高、熱控制精確、用戶界面友好以及可定制的設(shè)計選項。

金屬制粉設(shè)備 185     

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金屬制粉設(shè)備專為鉑金、鈀金、黃金、銀、銅等貴金屬霧化制粉設(shè)計，廣泛應(yīng)用于金屬3D打印等領(lǐng)域，并可定制不同規(guī)格。泰安科技的設(shè)備特別適合小規(guī)模金屬粉末生產(chǎn)，具有靈活和經(jīng)濟(jì)的優(yōu)勢，傳統(tǒng)大型工廠難以匹敵。它能滿足航空、航天及貴金屬粉末應(yīng)用中對高純度粉末的需求，避免交叉污染。尤其在SLM（選擇性激光熔化）和MIM（金屬注射成型）等快速發(fā)展的領(lǐng)域，對特殊金屬粉末的需求不斷增加，該設(shè)備能夠高效生產(chǎn)市場上稀缺的新型合金粉末。

手動/自動熔煉澆鑄設(shè)備 195     

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手動/自動熔煉澆鑄設(shè)備是一款一機(jī)多用的熔金機(jī)，適用于鉑、鈀等貴金屬的熔煉，支持手動和自動傾倒?jié)茶T功能。設(shè)備采用智能控制系統(tǒng)，極簡界面操作簡單，新手也能快速上手。電磁感應(yīng)式加熱技術(shù)，2-3分鐘即可完成一爐熔煉，加熱速度快且效率高。配備PID精準(zhǔn)溫控系統(tǒng)，溫度精度可達(dá)±1℃，低功率運(yùn)行，抗干擾能力強(qiáng)。大部分配件采用國際知名品牌，確保設(shè)備質(zhì)量可靠，是貴金屬熔煉和澆鑄的理想選擇。

高真空熔煉設(shè)備 353     

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高真空熔煉設(shè)備是一種在高真空環(huán)境下進(jìn)行金屬熔煉和鑄造的先進(jìn)設(shè)備，廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點金屬（如鉑金、鈀金、黃金、銀、銅合金等）以及制備高純度金屬和合金。

1-8KG立式熔鉑熔金熔煉設(shè)備 254     

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1-8KG立式熔鉑熔金熔煉設(shè)備是一款高效、便捷的貴金屬熔煉爐，適用于鉑金、黃金等首飾材料的快速熔煉。設(shè)備采用智能控制系統(tǒng)，極簡界面易于操作，新手也能快速上手。電磁感應(yīng)式加熱技術(shù)，2-3分鐘即可完成一爐熔煉，加熱速度快且效率高。配備PID精準(zhǔn)溫控系統(tǒng)，溫度精度可達(dá)±1℃，低功率運(yùn)行，抗干擾能力強(qiáng)。大部分配件采用國際知名品牌，確保設(shè)備質(zhì)量可靠，是首飾加工和貴金屬熔煉的理想選擇。

220V小型熔煉爐 262     

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2100℃感應(yīng)加熱220V小型熔煉爐是一款高效、便捷的熔煉設(shè)備，專為熔煉鉑金、黃金等貴金屬設(shè)計，最高工作溫度可達(dá)2100℃。設(shè)備操作簡單，2-3分鐘即可完成一爐熔煉，具有超高性價比。采用智能控制系統(tǒng)，極簡界面方便新手快速上手；電磁感應(yīng)式加熱技術(shù)，加熱速度快，2-3分鐘即可完成一爐熔煉。配備PID精準(zhǔn)溫控系統(tǒng)，溫度精度可達(dá)±1℃，低功率運(yùn)行，抗干擾能力強(qiáng)，響應(yīng)速度快。大部分配件采用國際知名品牌，確保設(shè)備質(zhì)量可靠。

鋼殼磁軛爐 197     

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鋼殼磁軛爐是一種高效節(jié)能且操作便捷的熔煉設(shè)備。其新型鋼殼設(shè)計，噸電耗低，采用零電壓掃描軟啟動，對電源無沖擊，運(yùn)行可靠。操作簡單，冷爐起熔成本低，115度傾爐倒凈方便，無污水排放，符合國標(biāo)設(shè)計。熔化升溫快，爐溫易于控制，電磁攪拌使金屬成分均勻，氧化燒損少。爐體可翻轉(zhuǎn)，傾倒方式多樣，可選手動、電動減速機(jī)或液壓缸，使用靈活，整體性能優(yōu)越。

鋁殼爐 180     

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萬峰鋁殼爐采用加厚優(yōu)質(zhì)鋁合金外殼，減少漏磁且強(qiáng)度高。厚壁感應(yīng)圈使用T2標(biāo)準(zhǔn)紫銅管，匝間開放空間提升電效率。開放式爐底減少水汽，底部冷卻環(huán)延長爐襯壽命。整體耐火磚代替石棉圈，降低使用成本。爐膛設(shè)計參考國外先進(jìn)爐型，細(xì)高比增大，功率因數(shù)和電效率更高。感應(yīng)線圈采用計算機(jī)專業(yè)軟件優(yōu)化設(shè)計，絕緣處理先進(jìn)，夾緊技術(shù)減少振動，內(nèi)壁涂有耐高溫絕緣材料，配備漏爐報警系統(tǒng)，可選配爐襯頂出機(jī)構(gòu)，方便快速更換爐襯。

熔銅爐 193     

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熔銅爐是一種高效節(jié)能且操作便捷的設(shè)備，具有以下優(yōu)勢：新型鋼殼爐效率高、耗電少，采用零電壓掃描軟啟動，對電源無沖擊；操作簡單，熔煉運(yùn)行可靠，冷爐起熔成本低，115度傾爐倒凈方便，無污水排放，符合國標(biāo)設(shè)計；熔化升溫快，爐溫易于控制，電磁攪拌使金屬成分均勻，氧化燒損少；爐體可翻轉(zhuǎn)，傾倒方式多樣，可選手動、電動減速機(jī)或液壓缸，使用靈活便捷。

熔鋁爐 171     

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熔鋁爐是一種高效、節(jié)能且操作便捷的設(shè)備，具有以下特點：質(zhì)量可靠，新型鋼殼爐耗電少，噸電耗低，零電壓掃描軟啟動對電源無沖擊；操作簡單，熔煉運(yùn)行可靠，冷爐起熔成本低，115度傾爐倒凈方便，無污水排放，符合國標(biāo)設(shè)計；熔化升溫快，爐溫易控，電磁攪拌使金屬成分均勻，氧化燒損少；爐體可翻轉(zhuǎn)，傾倒方式多樣，可選手動、電動減速機(jī)或液壓缸，使用靈活便捷。

高頻熔煉爐 181     

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高頻熔煉爐是一種廣泛應(yīng)用的熱加工設(shè)備，適用于金屬材料的熔煉、焊接、熱處理等多種工藝。它能夠?qū)ぜM(jìn)行整體或局部加熱，實現(xiàn)深層透熱或表面加熱，并可直接加熱金屬材料或間接加熱非金屬材料。其基本原理是利用交變電流在感應(yīng)器內(nèi)產(chǎn)生交變磁場，通過電磁感應(yīng)使工件內(nèi)部產(chǎn)生渦流，利用集膚效應(yīng)將電能轉(zhuǎn)化為熱能，實現(xiàn)高效加熱。感應(yīng)加熱技術(shù)憑借其高效、精準(zhǔn)的特點，正逐漸拓展到更多領(lǐng)域。

熔煉爐 252     

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真空感應(yīng)熔煉(Vacuuminduction melting，簡稱VIM)在電磁感應(yīng)過程中會產(chǎn)生渦電流，使金屬熔化。此制程可用來提煉高純度的金屬及合金。主要包括真空感應(yīng)爐熔煉、懸浮熔煉和冷坩堝熔煉。由于在真空下熔煉容易將溶于鋼和合金中的氮、氫、氧和碳去除到遠(yuǎn)比常壓下冶煉為低的水平，同時對于在熔煉溫度下蒸氣壓比基體金屬高的雜質(zhì)元素(銅、鋅、鉛、銻、鉍、錫和砷等)可通過揮發(fā)去除，而合金中需要加入的鋁、鈦、硼及鋯等活性元素的成分易于控制。

水平連鑄機(jī) 350     

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萬峰水平連鑄機(jī)生產(chǎn)線具備諸多優(yōu)勢：操作方便快捷，高效節(jié)能，熔化速度快且損耗少，啟動容易；同時配備自動攪拌功能和精確的控溫系統(tǒng)，確保生產(chǎn)過程穩(wěn)定高效，是理想的現(xiàn)代化連鑄設(shè)備。