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用于直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的水冷基底托架裝置

927   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:57:05
本實用新型涉及一種用于直流弧光放電等離子體化學(xué)氣相金剛石薄膜沉積的水冷基底托架裝置,它由不銹鋼真空法蘭、聚砜法蘭、“T”型基底托架、水箱連接件、冷卻水套管、熱電偶套管、熱電偶、水嘴、鎖緊螺母組成,其特征在于“T”型基底托架背面、水箱連接件中心部位分別焊接有熱電偶套管、冷卻水套管,兩者由螺紋連接后形成水循環(huán)空間,“T”型基底托架通過聚砜法蘭與反應(yīng)腔體絕緣,并可上下移動、旋轉(zhuǎn),托架表面溫度由熱電偶測量,所有部件均可靈活拆卸,真空、水冷性能好,并采用在此裝置制備出高品質(zhì)的金剛石薄膜。
聲明:
“用于直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的水冷基底托架裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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