本實(shí)用新型涉及一種MOCVD設(shè)備及其中的進(jìn)氣裝置,通過在進(jìn)氣裝置的下表面預(yù)先進(jìn)行表面處理,形成耐高溫及耐化學(xué)腐蝕的表面處理層,例如是與實(shí)際生產(chǎn)后的附著層的性質(zhì)相類似的吸光涂層,或者熱處理層,或化學(xué)處理層,或結(jié)構(gòu)處理層等,這些表面處理層的形成能夠提高光學(xué)測(cè)量環(huán)境和反應(yīng)腔內(nèi)溫場(chǎng)環(huán)境的穩(wěn)定性,使得MOCVD設(shè)備在連續(xù)運(yùn)行情況下,光學(xué)測(cè)量結(jié)果仍能保持較高的準(zhǔn)確度和一致性,進(jìn)而能夠?qū)崿F(xiàn)MOCVD設(shè)備穩(wěn)定的運(yùn)行,保證爐次間的設(shè)備工藝穩(wěn)定性,從而降低腔體環(huán)境改變對(duì)生產(chǎn)帶來的影響,提高生產(chǎn)的良品率,降低生產(chǎn)成本。
聲明:
“MOCVD設(shè)備及其進(jìn)氣裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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