本實(shí)用新型公開了一種真空氣相沉積反應(yīng)室，包括：腔室；轉(zhuǎn)盤，繞自身軸線可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置在腔室內(nèi)，轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有基片；反應(yīng)氣體噴頭，設(shè)置在腔室的內(nèi)頂壁上，用于朝向轉(zhuǎn)盤噴射反應(yīng)氣體；導(dǎo)流機(jī)構(gòu)，包括導(dǎo)流板，導(dǎo)流板沿第一方向可相對(duì)轉(zhuǎn)盤的側(cè)壁移動(dòng)地設(shè)置在腔室內(nèi)；控制機(jī)構(gòu)，用于檢測(cè)對(duì)基片處理過(guò)程中腔室內(nèi)的反應(yīng)環(huán)境，并根據(jù)反應(yīng)環(huán)境控制導(dǎo)流板相對(duì)轉(zhuǎn)盤的側(cè)壁移動(dòng)以調(diào)節(jié)導(dǎo)流板與轉(zhuǎn)盤的側(cè)壁之間的間隙大小。本實(shí)用新型通過(guò)控制導(dǎo)流板相對(duì)轉(zhuǎn)盤的側(cè)壁移動(dòng)以調(diào)節(jié)導(dǎo)流板與轉(zhuǎn)盤的側(cè)壁之間的間隙大小，從而可以引導(dǎo)腔室內(nèi)的氣流，避免反應(yīng)氣體在轉(zhuǎn)盤的邊緣與腔室內(nèi)壁之間形成局部渦流，進(jìn)而可以提高對(duì)基片化學(xué)處理的均勻性。