本發(fā)明提供了一種用于半導(dǎo)體制造的基片處理系統(tǒng),該系統(tǒng)包括一處理室,和一排氣系統(tǒng);以及一用于提供清潔氣體的裝置。該排氣系統(tǒng)包括一個
真空泵,一個真空排氣管道,和一個過濾裝置,該過濾裝置裝在真空泵的下游,且位于排氣管道內(nèi)。本發(fā)明還提供一種方法,用于消除或減少排氣管道中固體殘余物的聚集,該方法是這樣實現(xiàn)的:將清潔氣體引入處理室并進(jìn)一步引入排氣管道;通過真空泵下游和排氣管道內(nèi)的過濾裝置來捕獲固體殘余物;加熱過濾裝置,以再激活清潔氣體,這些氣體與被捕獲的固體殘余物發(fā)生反應(yīng),將固體殘余物轉(zhuǎn)換為氣態(tài)殘余物;以及通過排氣管道釋放氣態(tài)殘余物??捎迷缓头种檬降入x子體源清潔法與上述方法相結(jié)合使用。
聲明:
“基片處理過程中用于消除廢白粉的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)