LZ-Ⅱ離子濺射儀鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺上樣品表面成膜，形成導(dǎo)電層。

用途：

LZ-Ⅱ離子濺射儀是一種小型鍍膜裝置，可用作掃描電鏡、電子探針等儀器進行試樣制備，是開展教學(xué)科研實驗的必備儀器。

鍍膜原理與結(jié)構(gòu)：

LZ-Ⅱ離子濺射儀鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺上樣品表面成膜，形成導(dǎo)電層。

該離子濺射儀為二極結(jié)構(gòu)，以基臺和樣品架為正電極與儀器外殼相連并接地，濺射靶電極為負電極(加負高壓)，它們被安裝在玻璃罩的真空腔內(nèi)，當腔內(nèi)達到一定真空度，在負高壓的作用下發(fā)生輝光放電產(chǎn)生等離子體，其中正離子在電場加速下，獲得足夠能量轟擊負電極上的靶面，靶面被濺射原子沉淀于基臺的樣品表面形成導(dǎo)電膜，以供上述儀器分析。

技術(shù)參數(shù)：

1、型號：

1、真空腔：￠150×12 硼酸硅質(zhì)玻璃

2、濺射靶尺寸：￠55×0.3

3、基臺： ￠50 6-8個樣品

4、極間距調(diào)節(jié)范圍20-40mm

5、濺射電壓： -2000V-0 DC連續(xù)可調(diào)

濺射電流0-30 mA

6、定時器：0-99分數(shù)字顯示

7、真空測量：1×105-1.0×10-1pa 數(shù)字顯示，單片機控制，數(shù)字顯示，具有真空保護鎖設(shè)置。

8、控制系統(tǒng)：單片機控制，完成真空自動測量、顯示、定時器倒計時功能以及自動完成鍍膜程序。

9、真空泵：2L/S二級旋片式直聯(lián)機械泵，極限真空度6×10-1pa

10、充氣閥：金屬微調(diào)針型閥 保護氣體 99.9%純度氬氣(推薦)

11、外形尺寸：長354mm ×高216mm ×深340mm

12、電源：AC 220V 50HZ

特點：

1、人性化設(shè)計，整體性好;

2、單片機控制，操作方便簡潔;

3、用戶可根據(jù)實驗需要自由設(shè)置濺射操作的工藝參數(shù)，使用靈活、方便;

4、儀器有真空鎖保護設(shè)置，使儀器可靠性安全性好;

5、本產(chǎn)品已獲得國家專利，專利號：201220093483.0