名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-VPO-12L-S

控制系統(tǒng)（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 7kw

中頻電源功率（RF Power）

1000W/40KHz/13.56MHz

容量（Volume ）

180L(Option)

層數(shù)（Electrode of plies ）

14(Option)

有效處理面積（Area）

490(L)*356(W)

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2

外形（Appearance ）

鈑金結構

產(chǎn)品特點

超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準的控制設備運行；

可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；

高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術支持。

應用范圍

真空等離子清洗機適用于印制線路板行業(yè)，半導體IC領域、等離子硅膠處理、塑膠處理、聚合體領域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域：硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、等離子刻蝕、活化。

在現(xiàn)今等離子清洗機是如何解決溫度這個問題的呢？

依據(jù)等離子體中的重粒子溫度，可以把等離子體分為兩大類，熱等離子體和冷等離子體。以3×103K-3×104K，基本達到了熱力學平衡，具有統(tǒng)一的熱力學平衡溫度，可通過麥克斯韋的熱力學平衡態(tài)速度分布，波爾茲曼粒子能量分布，沙哈方程等方法確定等離子體狀態(tài)和參數(shù)。熱等離子體能量密度高，主要用于材料合成、球化、致密性和涂層保護。

在低溫等離子體中，重粒子的溫度只有室溫，而電子溫度可以達到成千上萬度，因此遠離熱力學平衡狀態(tài)，例如輝光放電屬于低溫等離子體。冷等離子主要用于等離子蝕刻、沉積和等離子表面裝飾。電洗滌溫度是許多用戶關心的問題，電洗滌時，電洗滌火焰看起來也和一般的火焰差不多，而電洗滌設備如采用中頻電源，功率大，能量猛，不加水冷溫度也很高，若洗滌材料不耐溫，則需注意溫度。

電漿清洗機的電源常用的是13.56KHz射頻電源，它產(chǎn)生的等離子密度高，能量柔軟，溫度低，一般功率為1~2KW，大功率為5KW，小功率為數(shù)百W，多功率為40KHz，中頻功率為40KHz，與射頻電源相反，電漿密度不高，但功率大，能量高，大功率為幾十KW。真空等離子體清潔器放電射頻清潔器的溫度與平時室內(nèi)氣溫也差不多，當然如果整天都在使用真空等離子體清潔器，還是需要加水冷卻系統(tǒng)。

電漿噴射的平均溫度介于200至250攝氏度。如果能夠正確設定距離和速度，表面溫度可以達到70-80℃。本工藝適用于各種標準品(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體等)的清洗，一般采用噴射式等離子體清洗裝置，也可應用于流水線上的等離子體清洗裝置，由于流水線的不斷運轉，材料在噴嘴下停留時間較長。由于氮氣能降低等離子體溫度，有些噴射等離子體清洗也能使用氮。電暈放電需要注意的是，等離子體清洗機中還有一種產(chǎn)品叫做電暈，其實電暈也是等離子體清洗機的一種分類。電暈機的洗滌溫度一般較高，電暈機與噴射等離子體的洗滌溫度相似，有時遇到不耐高溫的材料，也會用氮清洗。

事實上，沒有必要太擔心溫度問題。目前的等離子清洗機可以很好地調(diào)節(jié)溫度，使材料清洗達到理想的效果(效果)。