膜厚測(cè)量?jī)x

簡(jiǎn)要描述：Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

膜厚測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測(cè)量?jī)x通常采用不同的工作原理和技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的厚度測(cè)量，常見(jiàn)的膜厚測(cè)量?jī)x包括：

1、X射線熒光測(cè)厚儀：利用X射線照射樣品表面，通過(guò)測(cè)量熒光光譜來(lái)確定薄膜厚度。

2、聲表面波測(cè)量?jī)x：利用超聲波在薄膜表面?zhèn)鞑サ奶匦詠?lái)測(cè)量薄膜厚度。

3、光學(xué)干涉儀：利用光學(xué)干涉原理測(cè)量薄膜的厚度，常見(jiàn)的有白光干涉儀和激光干涉儀。

4、磁感應(yīng)測(cè)厚儀：通過(guò)測(cè)量磁感應(yīng)信號(hào)來(lái)確定薄膜或涂層的厚度。

膜厚測(cè)量?jī)x在工業(yè)生產(chǎn)、材料研發(fā)、電子設(shè)備制造等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，可幫助用戶(hù)準(zhǔn)確測(cè)量和控制薄膜的厚度，確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能。使用膜厚測(cè)量?jī)x時(shí)，需要根據(jù)實(shí)際情況選擇適合的儀器和測(cè)量方法，并注意儀器的操作規(guī)范和安全注意事項(xiàng)。

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo概述：
FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

FR-pRo膜厚儀是為客戶(hù)量身定制的，并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。

比如：

吸收率/透射率/反射率測(cè)量，薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo應(yīng)用：

1、大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室

2、半導(dǎo)體行業(yè)

3、高分子聚合物&阻抗表征

4、電介質(zhì)特性表征

5、生物醫(yī)學(xué)

6、硬涂層，陽(yáng)極氧化，金屬零件加工

7、光學(xué)鍍膜

8、非金屬薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶(hù)按需選擇裝配模塊，核 心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng)）和控制單元，電子通訊模塊。

此外，還有各種各種配件，比如:

1.用于測(cè)量吸收率/透射率和化學(xué)濃度的薄膜/試管架；

2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具；

3.用于控制溫度或液體環(huán)境下測(cè)量的加熱裝置或液體試劑盒；

4.漫反射和全反射積分球。

通過(guò)不同模塊組合，蕞終的配置可以滿(mǎn)足任何終端用戶(hù)的需求。

Specificatins 規(guī)格：


工作原理：

白光反射光譜(WLRS)是測(cè)量垂直于樣品表面的某一波段的入射光，在經(jīng)多層或單層薄膜反射后，經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。

* 規(guī)格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度測(cè)量范圍即代 表光譜范圍，是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測(cè)量厚度。