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基礎(chǔ)金屬

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高真空脈沖激光沉積系統(tǒng)

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規(guī)格/型號：暫無

品牌：歐特

應(yīng)用領(lǐng)域：冶金

產(chǎn)地：遼寧 - 沈陽

廠家/供應(yīng)商：沈陽歐特真空科技有限公司

咨詢電話:：13998100263（請說明信息源自“中冶有色網(wǎng)”）

更新時間：2025-02-17

級別：待認證

高真空脈沖激光沉積系統(tǒng)說明介紹

高真空脈沖激光沉積系統(tǒng)

高真空脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

高真空脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）是冶金和材料科學領(lǐng)域中一種先進的薄膜沉積技術(shù)。它通過使用高能脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜，特別適用于制備復雜氧化物、陶瓷和半導體材料等。PLD技術(shù)的獨特之處在于能量源（脈沖激光）位于真空室外部，這使得在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍非常寬，能夠達到10^-8Pa至1Pa，從而為合成具有獨特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒提供了可能。

一、設(shè)備主要功能及組成

1. 脈沖激光沉積（PLD）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達到10-8Pa ~ 1Pa。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD是一種“數(shù)字”技術(shù)，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）

2. 設(shè)備主要由高真空獲得與測量系統(tǒng)、樣品臺、激光靶系統(tǒng)、激光偏轉(zhuǎn)掃描系統(tǒng)、輔助沉積系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等六部分組成。

3. 高真空機組采用分子泵機組或離子泵機組。

4. 樣品臺可在線伸縮，旋轉(zhuǎn)，襯底加熱。

5. 激光靶四靶位，可公轉(zhuǎn)換位，可自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)。

6. 輔助沉積系統(tǒng)可選配輝光清洗靶、負離子發(fā)生器、霍爾離子源、磁控濺射靶等。

7. 入射窗前端配置激光XY掃描系統(tǒng)，可將入射激光偏轉(zhuǎn)，以均勻掃描靶面。

8. 可選配膜厚控制儀，進行在線測量和監(jiān)控。

9. 電氣控制系統(tǒng)具有多種報警功能，能及時提示故障情況，保障設(shè)備安全運行。

二、主要技術(shù)參數(shù)

1．真空室尺寸：?450（定制）（球形或圓筒形真空室）

2．極限真空度：≤6.7×10-5Pa / ≤5.0×10-6Pa

3．漏率：≤10-7 Pa?L/s