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特種粉末冶金及復(fù)合材料制備/加工第八屆學(xué)術(shù)會議
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是一種在冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的技術(shù),它通過利用等離子體的活性來增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)速率,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積。這種設(shè)備在制備高性能的金屬和非金屬薄膜方面具有重要作用,尤其是在需要精確控制膜厚、成分和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中。

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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
化學(xué)氣相沉積
冶金設(shè)備
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